【課題】表面粗さＲａが低減され、落下衝撃に強く、さらにヘッドクラッシュを起こしにくい情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】アルミノシリケートガラス素材を研磨して情報記録媒体用ガラス基板を製造する方法であって、前記アルミノシリケートガラス素材を粗研磨する粗研磨工程、及び粗研磨工程後の前記ガラス素材を精密研磨する精密研磨工程を含み、前記粗研磨工程において、（Ａ）酸化セリウムと、（Ｂ）ケイ酸ジルコニウム、酸化ジルコニウム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化アルミニウム、炭化ケイ素及び二酸化ケイ素からなる群より選択される少なくとも１つと、（Ｃ）ウレタンとを含み、前記（Ａ）：（Ｂ）：（Ｃ）の割合が、１〜９質量％：５〜２４質量％：７５〜９０質量％である、研磨パッドを用いて粗研磨を行うことを特徴とする、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板上の被クランプ部における欠陥の発生を抑制することが可能な情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスブランク材を準備し（Ｓ１０）、ガラスブランク材を用いて略円形状のガラス基板を形成し（Ｓ２０）、ガラス基板に対してラップ研磨処理を施し（Ｓ３１）、ガラス基板に対してポリッシュ研磨処理を施し（Ｓ３３，Ｓ３４）、ガラス基板の主表面を洗浄することによってガラス基板上の複数の付着物を除去し（Ｓ４０）、ガラス基板に化学強化処理を施す（Ｓ５０）。１μｍ以下の大きさを有する付着物の数がガラス基板上の被クランプ部内において５個以下となるようにガラス基板は洗浄される。付着物の数は、ガラス基板の主表面上における被クランプ部に対して、２波長のレーザ光を異なる方向で照射し、それぞれの反射光に基づいて算出される値である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板上の硝酸イオンコンタミネーション量を一定以下のものにし、ハードディスク装置に装着した場合にヘッドが硝酸イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及びハードディスク装置の提供を目的とする。
【解決手段】板状ガラス素材を硝酸塩を用いて化学強化する化学強化工程を含む製造工程を経て得られる本発明の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、製造工程の最終工程としての最終洗浄工程で、前記板状ガラス素材１０の表面に存在する硝酸イオン（ＮＯ_３⁻）コンタミネーション量を５０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】粗研磨行程を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法で、前記粗研磨行程は、ガラス素板の主面を、酸化セリウムを含有する研磨スラリーにて研磨した後に、前記研磨スラリーを研磨装置外に取り出す行程、前記取り出した研磨スラリー中の研磨剤のレーザ回折散乱法で測定された粒度分布の最大値が３．５μｍ以下であり、その粒度分布での累積５０体積％径Ｄ５０が０．５〜１．５μｍとなるように分級する行程、前記分級した研磨剤を含む研磨スラリーにて、他の異なるガラス素板の主面及び端面を研磨する行程を備える製造方法。好ましくは、この分級した研磨剤が、酸化セリウムと、ＳｉＯ_２，ＡｌＯ_３を含むアルミノシリケートとを含有し、アルミノシリケートの含有量が、酸化セリウムの含有量に対して０．１〜３０質量％である。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成におけるＣｅＯ_２濃度が０．０２〜１質量％であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】第１面と第２面とを表面研削装置を用いて同時に研削する際に両面の削り量を略一致させることができる研削前板状ガラス素材及び情報記録媒体用ガラス基板の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の研削前板状ガラス素材の第１面の被研削加工部は、その表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上、２．０μｍ以下の範囲になるように構成され、第２面の被研削加工部は、その表面粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上、３．０μｍ以下の範囲で、且つ、前記第１面の表面粗さ（Ｒａ）の１．２倍以上で３．０倍以下になるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】従来の極細繊維からなる研磨布ではなし得なかった、極細繊維束が均一に分散した緻密化な表面状態と、優れた平滑性を有する高性能研磨布を提供する。
【解決手段】研磨布は、平均単繊維直径が０．０５〜２．０μｍの極細繊維が収束してなる極細繊維束が絡合してなる不織布と高分子弾性体から構成される研磨布であって、前記不織布の前記極細繊維束が構成する表面繊維立毛部分の前記極細繊維束の幅方向の平均サイズが５０〜１８０μｍである。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の研磨後の平坦性を向上させることが可能なガラス基板の研磨方法を提供する。また、上記研磨方法をガラス基板の洗浄方法に応用する。
【解決手段】ガラス基板の研磨方法は、ガラス基板４の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板４よりも硬い粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることにより上記主表面を研磨するものである。ガラス基板の洗浄方法は、ガラス基板４の主表面の延在方向に沿って、ガラス基板４よりも軟らかい粒子を含む流体と上記主表面とを高速で相対移動させることによりガラス基板４を洗浄するものである。 （もっと読む）

【課題】円盤状基板の外周端面の研磨を行なう工程と内周端面の研磨を行なう工程とで共通のスペーサを使用することができ、円盤状基板の生産性を向上させることができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０の間にスペーサ１１０を介在させて積層する積層工程と、ガラス基板１０の内周端面を研磨する内周研磨工程と、内周研磨工程の後に積層状態を維持したままガラス基板１０の外周端面を研磨する外周研磨工程と、を有し、スペーサ１１０は、ガラス基板１０の外径半径をＲ１、内径半径をＲ２、外径チャンファ長をＣout、内径チャンファ長をＣin、スペーサ１１０の外径半径をｒ１、内径半径をｒ２、とすると、ｒ２＞Ｒ２＋Ｃin…（１）ｒ１＜Ｒ１−Ｃout…（２）ｒ１＋ｒ２＜Ｒ１＋Ｒ２−Ｃout…（３）であることを特徴とするガラス基板１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性が高く、表面のうねりが少ない磁気記録媒体用ガラス基板を高い生産性で製造することができる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】１次ラップ加工及び２次ラップ加工には、ダイヤモンド砥粒が結合剤で固定されたダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂを用い、このダイヤモンドパッド２０Ａ，２０Ｂのラップ面２０ａは、平坦な頂部を有するタイル状の凸部２１が複数並んで設けられた構造を有し、１次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ａは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が４〜１２μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜７０体積％であり、２次ラップ加工に用いるダイヤモンドパッド２０Ｂは、ダイヤモンド砥粒の平均粒径が１〜５μｍであり、凸部２１におけるダイヤモンド砥粒の含有量が５〜８０体積％である。 （もっと読む）

【課題】板状ガラス素材からガラスディスクを切り出して磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合の加工品質を高め、しかも歩留りを高めることができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数枚の磁気ディスク用ガラス基板を切り出せるだけの大きさを有するガラスシート材を使用し、該ガラスシート材の一方側の主表面に対して、複数個の磁気ディスク用ガラス基板となされる領域の略周縁をなす曲線を描く切り筋を形成した後、ガラスシート材に温度変化を与えて該切り筋を進行させ、１枚のガラスシート材から複数枚のディスク状のガラス基板を切り出す磁気ディスク用ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨機により円盤状基板の研磨を行う際に、一方の面が優先的に研磨される現象を抑制し、両面の研磨量の差をより小さくすることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に測定溝１０３，１０４が形成された測定基板１００をガラス基板の両面を同時に研磨する研磨機に配置し、研磨機に配置された測定基板１００の両面を同時に研磨し、研磨後の測定基板１００に残された測定溝１０３，１０４の深さを測定し、研磨機によるガラス基板の両面の研磨条件を調整することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨液を供給するために研磨剤を流通させる樋を使用する場合でも、研磨液の流通に阻害が生じにくく、安定的に研磨を行なうことができる円盤状基板の製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス基板の主表面を研削する研削工程と、研削工程を経たガラス基板を研磨液を用いて研磨する研磨工程とを有する円盤状基板の製造方法であって、研磨工程に用いられる研磨機５０は、研磨液槽１０１から樋１０４を介してガラス基板に対して研磨液を供給されるとともに樋１０４の内面が撥水性被材によって被覆されていることを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨装置により円盤状基板の研磨を行う際に、両面の研磨量の差をより小さくすることができ、円盤状基板を配置する位置の違いによる研磨量の差をより小さくすることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に測定溝１０３が形成された２つの測定基板１００を研磨機の第１面を研磨する側と２面を研磨する側に測定溝１０３が対峙するようにそれぞれ配置し、２つの測定基板１００を研磨機によって研磨し、２つの測定基板１００の測定溝１０３の研磨後の深さを測定し、研磨機によるガラス基板の両面の研磨条件を調整することを特徴とする円盤状基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】一表面のみを情報の記録等に使用し、他表面を使用しない円盤状基板を製造する場合において、円盤状基板の生産能力をより向上させることができる円盤状基板の製造方法を提供する。
【解決手段】一表面に情報を記録するガラス基板１０の製造方法であって、ガラス基板１０の一表面、他表面、外周面、内周面を研削する研削工程と、ガラス基板１０の内周面を研磨する内周研磨工程と、ガラス基板１０の外周面を研磨する外周研磨工程と、一表面が研磨面となった２枚のガラス基板１０を、ガラス基板１０が合わせられた際の間隔を定める間隔規制部材を含む接着剤を用いて一表面とは反対側の他表面で接合する接合工程と、接合工程により接合された２枚のガラス基板１０の各々の一表面を同時に研磨する研磨工程と、を有することを特徴とするガラス基板１０の製造方法。 （もっと読む）

【課題】母材ガラス板を、加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する場合に、平坦度の優れた薄肉棒状のガラス条を製造することができるガラス条の製造方法を提供する。
【解決手段】母材ガラス板を加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する加熱延伸工程を含み、前記加熱延伸工程は、前記母材ガラス板の溶け始めの位置から、前記延伸の際に形成される前記母材ガラス板の輪郭線における変曲点の位置までの長さ、つまりメニスカス長２２が、前記母材ガラス板の幅２３の２／３以上となるように加熱する。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】円形状基板を保持回転機構により保持して回転させ、テープ移送機構により研磨テープを間欠的又は連続的に移送させ、圧接機構によりテープ研磨機構の迂回研磨部と円孔の内周端面とを圧接し、研磨部揺動機構により迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて研磨することにより円孔の内周端面をＣ面又はＲ面に研磨することができる。
【解決手段】研磨テープＴを間欠的又は連続的に移送させるテープ移送機構Ｃと、迂回案内部Ｃ_３により側方に迂回案内された研磨テープの側方迂回部分Ｔ_３を円孔Ｑの内周端面Ｍを研磨可能な迂回研磨部Ｋとするテープ研磨機構Ｄと、迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて迂回研磨部により円孔の内周端面をＣ面又はＲ面に研磨するための研磨部揺動機構Ｆとを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】パターンの倒壊を抑制または防止することができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１疎水化剤が基板に供給されることにより、基板の表面が疎水化される（Ｓ１０４）。その後、溶剤が基板に供給されることにより、第１疎水化剤が溶剤に置換される（Ｓ１０７）。そして、第１疎水化剤とは異なる第２疎水化剤が基板に供給されることにより、溶剤が第２疎水化剤に置換され、基板の表面がさらに疎水化される（Ｓ１０８）。その後、溶剤が基板に供給されることにより、第２疎水化剤が溶剤に置換される（Ｓ１０９）。そして、溶剤が基板から除去されることにより、基板が乾燥する（Ｓ１１０）。 （もっと読む）