【課題】垂直磁気記録用ハードディスクに使用する研磨布であって、従来の研磨布では実現できなかった電波変換特性の高いハードディスクに使用する織物からなる研磨布を提供する。
【解決手段】数平均による単繊維繊度が１×１０-8〜４×１０-4ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなる極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなり、径糸が繊維束の撚糸の撚角度が１０度以上７０度以下であり、縦糸が繊維束の撚糸の撚角度が２０度以上８０度以下である研磨布。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子の基板への突き刺さり及びロールオフ（端面ダレ）を低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記シリカ粒子が、粒子の丸さの度合いを示す形状係数ＳＦ−１が１３０〜１８０であるシリカ粒子をシリカ粒子全体に対して２０重量％以上含むハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、アルミナ砥粒の基板への突き刺さりを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】α−アルミナと水とを含有するハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記α−アルミナのα結晶化率が、２０〜７０％であり、前記α−アルミナのＸ線回折スペクトルにおけるα−アルミナ１０４面由来の回折角２θ領域３５．１〜３５．３°内のピークの半値幅が、０．２３°以上であり、前記α−アルミナの比表面積が、１０〜４０ｍ²／ｇであり、前記α−アルミナの平均粒径が、０．１〜０．５μｍである、ハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】基板のロールオフを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、及び水を含み、前記シリカ粒子の体積中位粒径が２０〜１５０ｎｍであり、前記シリカ粒子における粒径１０ｎｍ以下のシリカ粒子の含有量が０．１〜２５体積％であるハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】うねり低減と経済的な研磨速度での研磨が可能な研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材及び水を含有する研磨液組成物であって、研磨材が、粒子の丸さの度合いを示す形状係数ＳＦ−１が１４０〜２５０である第一研磨粒子と形状係数ＳＦ−１が１００〜１３０である第二研磨粒子とを含有し、第一研磨粒子は平均粒径０．０１〜０．４５μｍのアルミナ粒子であり、第二研磨粒子の平均粒径が第一研磨粒子の平均粒径よりも大きい研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく表面粗さ及びスクラッチを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子と、イオン性親水基を有する重量平均分子量１０万以下の重合体、クメンスルホン酸及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種以上と、水とを含み、前記シリカ粒子の粒径（Ｒ（ｎｍ））対累積体積頻度（Ｖ（％））グラフが、粒径４０〜７０ｎｍで式(１):Ｖ≧Ｒ＋３０、粒径１０〜２０ｎｍで式(２):Ｖ≦３×Ｒ＋１０、及び４０〜４５ｎｍで式(３):Ｖ≧Ｒ＋５０を満たし、さらに、前記シリカ粒子の最大径を直径とする円の面積を前記シリカ粒子の投影面積で除して１００を乗じた値の平均値が１００〜１４０の範囲である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明は磁気記録ディスクに用いるアルミニウム合金基板、およびガラス基板を超高精度の仕上げで研磨加工を施す際に好適に用いられ得る、研磨布に関し、研磨加工時の加工安定性、および研磨布製造時の工程通過性に優れる研磨布を提供することにある。
【解決手段】平均単繊維繊度１．０×１０^−６〜０．０５ｄｔｅｘの極細繊維（Ａ）を発生可能な繊維と織物とを重ねてパンチング処理して絡合一体化した後、弾性重合体付与処理、極細繊維発生加工処理及び起毛処理を行う研磨布の製造方法において、該織物の緯糸が該極細繊維（Ａ）以下の平均単繊維繊度の極細繊維（Ｂ）を発生可能繊維であることを特徴とする研磨布の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】高い洗浄能を有する、垂直磁気記録方式ハードディスク基板用洗浄剤組成物、それを用いて行われる洗浄方法、垂直磁気記録方式ハードディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】下記（式１）〜（式６）で表される界面活性剤からなる群から選ばれる１種以上の界面活性剤を含有し、２５℃におけるｐＨが５以下である、Ｎｉ−Ｐ含有層を有する垂直磁気記録方式ハードディスク用基板用水系洗浄剤組成物。
【化１】


ただし、前記（式１）において、Ｒ¹は、炭素数１０〜１６のアルキル基であり、Ｘは
ハロゲン原子である。 （もっと読む）

【課題】比較的高温でも保存安定性が良好なアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれを含む硬質表面用洗浄剤、それを用いて行われる硬質表面の洗浄方法並びに基板の製造方法、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法等を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、２５℃におけるｐＨが９以上である、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面の残渣を除去しつつ、基板表面の酸化を抑制する洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ナノバブル水を用いて磁気記録媒体用基板表面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板の洗浄方法および該洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】被研磨物に微細な溝を形成することが可能で、かつ被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能な研磨布用織物およびその製造方法および磁気デイスク研磨布を提供する。
【解決手段】織物に単繊維径５０〜１５００ｎｍのポリエステルマルチフィラメント糸Ａが含まれ、かつ織物のカバーファクターＣＦが２０００〜４５００の範囲内であり、かつ織物の厚みが０．１５〜０．８０ｍｍの範囲内であって、親水化剤が織物の重量に対して０．２０〜１０．０重量％の範囲で該織物に付着している研磨布用織物。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板における砥粒の突き刺さり及びうねりを低減でき、表面品質が向上されたハードディスク基板を製造できるハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】酸化アルミニウム粒子及び水を含有する研磨液組成物を研磨パッドに接触させながら基板を研磨する工程を有し、前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍであり、前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径が１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下であり、前記研磨パッドに対する前記研磨液組成物の接触角が０〜１００度であるハードディスク基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】研磨速度の低下なく砥粒の突き刺さり及びロールオフの低減が可能なハードディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いたハードディスク基板の製造方法の提供
【解決手段】研磨液組成物が、二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍ、粒子径１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下である酸化アルミニウム粒子、及び、式（Ｉ）で表される構成単位と式（ＩＩ）及び／又は式（ＩＩＩ）で表される１以上の構成単位とを有する共重合体を含む。式中、ＡＯはオキシアルキレン基であり、ＸはＯ又はＮＨである。また、式（Ｉ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはメトキシポリエチレングリコールメタクリレート等が、式（ＩＩ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはステアリルメタクリレート等が、式（ＩＩＩ）の構成単位を形成するためのモノマーとしてはポリプロピレングリコールメタクリレート等が挙げられる。
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【課題】本発明は、基板、磁気記録媒体及びその製造方法、並びに磁気記憶装置に関し、低ノイズを実現可能とすることを目的とする。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用の基板は、非磁性材料からなり、表面断面曲線の傾斜角度が２．０度以下、若しくは、８３ｎｍ以下の周期の表面粗さＲａ〜３０ｎｍ以下の周期の表面粗さＲａの範囲内で０．１５ｎｍ以下の表面形状を有するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体用アルミニウム合金製基板の製造において、Ｎｉ−Ｐめっき皮膜の欠陥発生を高水準で抑制する。
【解決手段】アルミニウム合金製基板(2)の表面に、物理蒸着によりＺｎおよびＮｉのうちの少なくとも１種を含む金属薄膜(3)(4)を形成する工程と、金属薄膜(3)(4)を形成したアルミニウム合金製基板(2)にＮｉ−Ｐを無電解めっきする工程とを行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外縁部のダレ深さが小さい磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法及び基板の打抜きプレス用金型を提供する。
【解決手段】方法は、ダイス，パンチ及びストリッパを備えたプレス用金型によりアルミニウム合金素条をドーナツ状に打抜く過程において、スケルトンのダイスとの接触面の内縁部にストリッパ方向に所定量窪んだ所定幅ａ１の平坦部を形成する。またこの金型は、アルミニウム合金素条をドーナツ状に打抜くためのダイス，パンチ及びストリッパを備えたプレス用金型であって、ダイスの打抜き面に内縁が刃先を構成する所定幅ａの平坦部を有する凸条部を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に加工斑や不要の残渣が生じることなく、平均表面粗さ０．１０nm以上、０．３０nm以下、ライン密度４０本／μｍ以上のテクスチャ条痕を均一に且つ鮮明に形成することができる加工スラリー及び方法を提供する。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミニウム基板をテクスチャ加工する。基板１５を回転させ、基板の表面に加工スラリーを供給し、基板の表面に加工テープ１４を押し付け、走行させる。加工スラリーが、研磨材、及び分散媒を含み、研磨材として一次粒子径２０ｎｍ以下のダイヤモンド粒子からなる二次粒子が含まれ、二次粒子の粒度分布Ｄ５０が０．１０〜０．２８μｍの範囲にある。分散媒が、添加剤として、グリコール化合物、炭素数８〜２２の範囲にある脂肪酸、アルカノールアミン、脂肪酸アマイド、及びリン酸エステル化合物を含む。 （もっと読む）

【課題】打抜き後の過程で基板外縁部から脱落するバリ屑等の製品への影響を排除する円形基板の加工方法及び加工装置を提供する。
【解決手段】
この発明の方法は、打抜き後の基板の外縁部にバリ取り加工を施す工程と、当該バリ取り加工により発生したバリ屑を当該基板上より除去する工程とを含むみ、前記基板の外縁部にバリ取り加工を施す工程では当該基板の外縁部をガイド部材に転接させた状態で前記基板を一回以上回転させることによりバリを取ることを特徴とする。
またこの発明の装置は、打抜き後の基板の外縁部が転接されるガイド部材を備えたバリ取り手段と、前記基板上に付着したバリ屑を除去するバリ屑除去手段とを設け、前記ガイド部材の基板外縁部との転接部の長さは当該基板が一回以上回転するのに十分な長さであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を複数枚同時にスピン乾燥することができ、基板に付着した塵埃などを確実に除去できる、高度乾燥性能を有する基板の乾燥装置を提供する。
【解決手段】複数枚のワークＷを並行収納できるホルダー２は、ワークＷのそれぞれの中心を通り、且つ、ワークＷと垂直な回転中心軸のまわりに回転させる軸受部１０と、ワークＷをその外周から取り囲むように保持するための３本以上の支持ロッド１１とを有し、支持ロッド１１の内側面に、ワークＷをそれぞれ離間させた位置に固定保持するための支持溝１３を複数設け、支持ロッド１１の外側面に、支持ロッド１１を貫通する通過孔１４を複数設け、支持溝１３と通過孔１４とを連通する切込部を支持ロッド１１に形成し、通過孔１４はワークＷ回転時に、ワークＷに付着している付着物を、支持ロッド１１の外部に飛散させる通路としての機能を有することを特徴とする。 （もっと読む）