【課題】シリカ粒子分散液の輸送条件や保存条件に依らず、シリカの粗大粒子の発生を抑え、スクラッチの発生を低減できる研磨液キット等を提供する。
【解決手段】本発明の研磨液キットでは、前記シリカ粒子分散液と、前記酸及び／又はその塩とが、相互に混合されていない状態で保存されており、前記シリカ粒子分散液は、シリカ粒子と、スルホン酸基含有単量体、（メタ）アクリル酸／スルホン酸（共）重合体及びそれらの塩からなる群から選択される少なくとも１種と、水とを含有し、前記（共）重合体及びその塩の重量平均分子量は５００〜７０００であり、かつ、前記（共）重合体及びその塩を構成する全構成単位中に占めるスルホン酸基含有単量体由来の構成単位の含有率が１５〜１００モル％である研磨液キット。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子分散液の保存環境の変化に依らず、分散液中の粗大粒子の発生を抑え、被研磨物のスクラッチを低減することができる研磨用シリカ粒子分散液及びその保存方法を提供する。
【解決手段】 シリカ粒子、化合物（Ａ）及び水を含有する研磨用シリカ粒子分散液であって、前記化合物（Ａ）は、コロイダルシリカと前記化合物（Ａ）とを含む試験用水分散液を６０℃で７２時間保存する標準保存試験において、保存前後の前記試験用水分散液１ｍＬ中における粒径０．５６μｍ以上の粗大粒子の増加量が２万個以下となる凝集防止能を有する研磨用シリカ粒子分散液。 （もっと読む）

【課題】円板状ワークの加工時に当該ワークに付着した切削液や切粉を遠心力によって除去する乾燥機に関し、孔あけ加工機や面取加工機でディスク基板を連続加工する際の乾燥機へのワークのロードアンロードを含むタクトタイムを大幅に短縮することが可能な乾燥機を提供する。
【解決手段】従来は上向きに設置されて高速回転するスピン軸の上端でワークを把持して回転させていた構造に代えて、乾燥機のスピン軸４２を下向きに設け、当該スピン軸の下端でワーク９を把持して回転させる構造とし、更に当該スピン軸又はその下端に設けたワーク把持用のチャック４９を昇降させることにより、加工済ワークを保持しているテーブル２８や乾燥済ワークを搬送するローダハンド３ｂとの間でワーク９の受け渡しを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】適当な表面粗さを有し、面内磁気異方性の大きく、高いＳ／Ｎの磁気ディスクを得るための、磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】テクスチャー加工工程を有する磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法において、前記テクスチャー加工が、磁気記録媒体用ディスク基板を円周方向に回転させつつ、前記基板に接する表面が、繊維径が４００ｎｍ以上９５０ｎｍ以下のポリエステル製繊維を含む研磨テープを押圧手段により回転中の磁気基板に押し付けながら、前記基板の表面にクラスターダイヤモンドを含む砥粒を含むスラリーを供給する工程であることを特徴とする磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法、前記磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ディスク基板、前記磁気記録媒体用ディスク基板の上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法、および、前記磁気記録媒体の製造方法によって製造された磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】従前の研磨装置をそのまま、あるいは僅かな改造でスループットを短縮できる湿式研磨方法およびこの研磨方法を提供する。
【解決手段】
被加工物（Ｓ）を上下に対向配置された上定盤と下定盤との間に挟持して研磨液を供給しながら研磨する研磨部(10)と、前記研磨部(10)の前段および後段の少なくとも一方に配置され、上面に形成された凹陥部内に被加工物（Ｓ）を載置する載置トレイ(45)(75)を有する被加工物展開ステージ(41)(71)とを備えた湿式研磨装置を用い、
前記載置トレイ(45)(75)の凹陥部内にエッチャント（Ｗ）を貯留し、前記研磨部(10)で被加工物（Ｓ）を研磨する間に、前記被加工物展開ステージ(41)(71)において他の被加工物（Ｓ）をエッチャント（Ｗ）に浸した状態で待機させてエッチングする。 （もっと読む）

【課題】研磨液中から、研磨対象の表面に付着しそうな砥粒を予め除去する。
【解決手段】遊離砥粒を含む液体を、所定圧力で互いに対して押し付けられていて相対移動されている２つの処理部材１２、１４間に供給し、その２つの処理部材１２、１４に研磨対象の表面に付着しそうな一部の砥粒αを付着残留させる。処理部材１２、１４間を通過して遊離砥粒の一部である砥粒αが除かれた液体を、研磨液とするべく回収する。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板の微少うねりを低減し、かつ酸化アルミニウム粒子の基板への突き刺さりを低減し得る磁気ディスク基板の製造方法を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム粒子と水とを含有する研磨液組成物と研磨パッドとを用いて被研磨基板を研磨する工程を含む磁気ディスク基板の製造方法であって、前記研磨液組成物は、前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍ、かつ前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下であり、前記研磨パッドは、パッド表面の気孔部の平均気孔径が６０μｍ以下、かつパッド表面積に占める気孔部の面積割合が６０％以下であり、圧縮率が３〜２０％である磁気ディスク基板の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】 チャッキング治具に対する接触角度にばらつきが生じてもキズの発生を抑制しうる磁気ディスク用アルミニウム基板を製造する。
【解決手段】ドーナツ状のアルミニウム基板を用いた磁気ディスク用アルミニウム基板の製造方法であって、基板の外周端面、内周端面のうちの少なくとも一方について、基板の板厚方向の両縁に面取部を形成する工程、該面取部の周端面側の角部を曲率半径（ｒ）が０．０５〜０．２ｍｍとなるように曲面に加工する工程、該曲面加工部をＶ字形の断面を有する治具によりチャッキングして次の加工工程に基板を受け渡す工程、基板の記憶面を平面研削する工程、基板にニッケル−リンめっきをする工程をこの順で有する。 （もっと読む）

【課題】従来の磁気記録媒体用基板の洗浄装置より浸漬槽内での発塵が少なく、塵埃が洗浄基板に再付着することがなく、磁気記録媒体用基板に付着した塵埃を効率よく除去できる、高度の洗浄性能の得られる磁気記録媒体用基板の洗浄装置および洗浄方法を提供する。
【解決手段】スクリューコンベア５０を同期回転させる回転機構部８０が浸漬槽１０の外側に設けられるとともに、スクリューコンベア５０の主軸５４ａ，５４ｂが浸漬槽１０の前壁２３および後壁２４に対して非接触で貫通され、その貫通位置には排出口６２が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】記録密度の向上を図ることができる磁気記録媒体の提供。
【解決手段】基板１１に金属ガラス層１３を形成し、その金属ガラス層１３を過冷却液体領域温度に保ちつつ金型２を押圧し、金属ガラス層１３に金型２の成形転写面に形成された凸凹形状を金属ガラス層１３に転写する。形成された凹部１３０内に磁性体を埋め込んだり、凸部１３２上に磁性体を蒸着することにより、磁気的に孤立化された磁性ドットが形成された磁気記録媒体が得られる。金属ガラス層１３に凹凸形状をナノインプリンティングすることで、非常に微細な凹凸形状を形成することができ、磁気記録媒体の記録密度の向上を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ−Ｐ系合金からなる下地層における高精度の平坦面を確保しつつ、下地層における異常突起を自動的に除去でき、しかも、垂直磁気記録媒体における磁気配向に悪影響を及ぼすことがなく、垂直方向の磁気配向が容易となるような適度なテクスチャ痕を形成できること。
【解決手段】非磁性基体２のＮｉ−Ｐ系合金からなる下地層６が、界面活性剤と多結晶ダイヤモンド砥粒との混合スラリーが供給されながら研磨テープ３４でテクスチャ加工された後、研磨剤３８と有機酸とを少なくとも含むスラリーが供給されながら、テクスチャ加工された下地層が研磨テープ３６により、下地層の表面の粗さ（算術平均粗さ）（Ｒａ）が、例えば、０．５ｎｍ（５Å）以下、好ましくは、０．０５ｎｍ以上０．２ｎｍ以下となるまでテクスチャ研磨されるもの。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式の磁気記録媒体に適した垂直磁気記録媒体用基板を得る。
【解決手段】垂直磁気記録媒体用基板１０の研磨に、テクスチャー加工を用いる。回転する垂直磁気記録媒体用基板１０上に砥粒を含んだ研磨スラリーを供給しながら、研磨テープ２６を押し付けて垂直磁気記録媒体用基板１０にテクスチャー加工を施すに際して、研磨テープ２６に含まれる研磨繊維の平均直径を４００ｎｍ以下にし、且つ、研磨スラリーに含まれる砥粒の平均粒径を１５０ｎｍ以下にする。 （もっと読む）

【課題】アルミナと酸化剤と酸を含有する磁気ディスク用研磨液において、保存期間に依
存することなく、再現性よく高い研磨速度を発現し得る磁気ディスク用研磨液キット、磁
気ディスク基板の研磨方法及び良質な磁気ディスク基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ）と、酸を含
む酸剤液（Ｃ）とから少なくとも構成される磁気ディスク用研磨液キット、少なくとも、
アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ）と、酸を含む酸剤液（Ｃ
）とを混合して得られた混合液を磁気ディスク基板と研磨布との間に供給して磁気ディス
ク基板を研磨する研磨方法、並びに下記の工程を有する研磨した磁気ディスク基板の製造
方法：（１）少なくとも、アルミナを含むスラリー（Ａ）と、酸化剤を含む酸化剤液（Ｂ
）と、酸を含む酸剤液（Ｃ）とを混合して研磨液を調製する工程、（２）磁気ディスク基
板を研磨定盤の研磨布に押し当て加圧する工程、及び（３）工程（１）で調製された研磨
液を磁気ディスク基板と研磨布との間に供給しながら、基板と研磨定盤を動かして磁気デ
ィスク基板を研磨する工程。 （もっと読む）

【課題】テクスチャー加工の精度が半径方向に偏りなく記録面内で一定にされたテクスチャー加工方法及びそのテクスチャー加工方法によってテクスチャー加工が行われて製造された記録媒体及びそのテクスチャー加工に用いられる研磨スラリー吐出装置を提供すること。
【解決手段】基板１を回転させつつ基板１に研磨スラリー６を吐出しながらテクスチャー加工が行われる基板１のテクスチャー加工方法において、まず、基板１の中心から半径方向に沿った複数の位置に研磨スラリー６を吐出する複数の吐出口４が配置される。そして、吐出口４から基板１に研磨スラリー６が吐出され、研磨スラリー６が基板１に押圧されることでテクスチャー加工が行われる。これにより、研磨スラリー６の吐出量が基板の半径方向に対して偏りが生じ難くなり、研磨スラリー６の吐出量が半径方向で均一化される。 （もっと読む）

【課題】Ａｌの陽極酸化により形成される微細孔を用いた記録媒体であって、良好な状態で該微細孔に磁性材料が充填されてなる記録媒体と、該記録媒体を製造する記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】第１の層上の、Ａｌを含む第２の層を陽極酸化して微細孔を形成する第１の工程と、前記微細孔の底部に、前記第１の層に含まれる金属の酸化物を形成する第２の工程と、前記金属の酸化物をドライエッチングにより除去する第３の工程と、前記第１の層を通電経路とする電解メッキにより前記微細孔に磁性材料を形成する第４の工程と、を有することを特徴とする記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れ、磁気ディスク用基板のＮｉＰめっき膜表面が、高い平滑性となる磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法およびこの製造方法で製造された磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供する。
【解決手段】芯材の両面に、アルミニウム合金の皮材を張り合わせた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法であって、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｒを所定量含有し、更に、Ｃｕ、Ｚｎのうち少なくとも１種以上を所定量含有し、かつ、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなる皮材用金属を溶解する溶解工程と、皮材用鋳塊を製造する鋳造工程と、皮材用鋳塊を所定厚さにスライスするスライス工程と、芯材およびスライスされた皮材を重ね合わせて重ね合わせ材を製造する重ね合わせ工程と、重ね合わせ材に均質化熱処理を行う均質化熱処理工程と、熱間圧延工程と、冷間圧延工程とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体及びその製造方法に関し、製造工程数及びコストを増加することなく、アルミナナノホールの配列を制御する。
【解決手段】 記録層５が酸化アルミニウム基材６と酸化アルミニウムに形成された孔９を充填する強磁性材料１０とからなる磁気記録媒体における酸化アルミニウム基材６の表面の領域の半分以上をアルマイト８より緻密なアルミナとするとともに、その下部をアルマイト８とする。 （もっと読む）

【課題】凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が０．０００１〜０．０５ｄｔｅｘのポリアミド極細繊維束が絡合してなる不織布と、その不織布内部空間に存在するポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリアミド極細繊維が、（１）脂肪族ジカルボン酸と、全ジアミン成分中の８０モル％以上が芳香族ジアミンであるジアミン成分とからなる半芳香族ポリアミドおよび／または（２）全ジカルボン酸成分中の８０モル％以上が芳香族ジカルボン酸であるジカルボン酸成分と、脂肪族アルキレンジアミンとからなる半芳香族ポリアミドを含有することを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が０．０００１〜０．０１ｄｔｅｘのポリエステル極細繊維および／または該ポリエステル極細繊維からなるポリエステル極細繊維束が絡合してなる不織布とポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維として、固有粘度が０．５５〜１．００、かつ、全ジカルボン酸成分中の２０モル％以上がナフタレンジカルボン酸からなるジカルボン酸成分と、脂肪族アルキレングリコールからなるジオール成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維を含有することを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少なく歩留まりが良く、更に基板表面上に表面粗さ０．３ｎｍ以下という高精度なハードディスクのテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供する。
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊度が０．０００１〜０．０１ｄｔｅｘのポリエステル極細繊維および／または該ポリエステル極細繊維からなる極細繊維束が絡合してなる不織布と、ポリウレタンを主成分とした高分子弾性体とで構成され、少なくとも片面が該極細繊維からなる立毛面を有するシート状物からなる研磨布であって、該ポリエステル極細繊維が、環状アセタール骨格を有するジオールを５モル％以上４０モル％以下含むジオール成分と、テレフタル酸及び／またはナフタレンジカルボン酸を主たる構成成分とする芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸成分とで構成されるポリエステル樹脂からなる繊維であることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）