【課題】アルミニウムを主体とする基板の陽極酸化処理により表面硬度を高めることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウムを主体とする基板１の表面に陽極酸化処理を施してアルマイト皮膜２を形成する磁気記録媒体用基板１０の製造方法において、前記陽極酸化処理をしゅう酸浴による直流パルス電解で行う。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁性層を備える磁気ディスク用ガラス基板を効率よく加工することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】溶融したガラスを切断してプレスされたガラスブランクを用いて、磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、表面粗さＲａが０．０１μｍ以上１０μｍ以下である第１主表面と、シアマークを備える第２主表面と、を備え、かつ、磁気ディスク用ガラス基板として必要な平坦度を有するガラスブランクを成形するガラスブランク成形工程と、ガラスブランクの第１主表面のみを加工する表面加工工程と、を有することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】５００Ｇｂ／ｉｎ²以上の高記憶密度ディスク媒体に要求される低欠陥の磁気記録媒体用ディスク基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】Ａｌ合金からなるディスク状の非磁性基体１上に、ＮｉＰ第１層２、Ａｕ或いはＰｄの少なくとも一方からなる中間層３、及びＮｉＰ第２層４がこの順に形成されている。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ及びナノ突起欠陥の低減を実現できるＮｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】Ｎｉ−Ｐメッキされたアルミニウム合金基板用研磨液組成物であって、前記研磨液組成物は、研磨材、酸、酸化剤、複素環芳香族化合物、脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物、及び水を含有し、前記複素環芳香族化合物は、複素環内に窒素原子を２個以上含み、前記脂肪族アミン化合物又は脂環式アミン化合物は分子内に窒素原子を２〜４個含む。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨後基板の長波長うねりを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物及び、該研磨液組成物を用いたハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】α化率が８０〜１００％のαアルミナ、α化率が４０〜７０％のαアルミナ、中間アルミナ、酸、酸化剤、及び水を混合して得られるハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】微細な磁性ドットを形成し、さらにその位置をビットサイズのレベルで制御してスキュー角に応じた規則的な格子を組んで配列し、かつ記録材料の配列の乱れおよび欠陥の発生のないパターン磁気記録媒体、およびその製造方法を提供することにある。
【解決手段】磁性ドットからなるパターン磁気記録媒体において、データ記録領域の各トラックごとまたは隣接する複数のトラック群ごとに磁性ドットは所定の配列がなされ、その配列は、各記録ビットごとに磁性ドットが１個配置され、トラック方向で隣接する３または４磁性ドットが多角形を形成しており、１辺は前記トラック方向に平行で、１辺は磁気記録ヘッドのスキュー角に対応する方向に平行であることを特徴とする。
前記多角形は、平行四辺形であり、１対の平行な２辺が前記トラック方向に平行であり、他の１対の２辺が前記スキュー角に対応する方向に平行であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金を使用した磁気記録媒体用基板であって、その表面に多層構造を持ったアルマイト膜を形成することによって、表面硬度を確保し、かつ、良好な加工性を維持し、平滑性の問題が解決された磁気記録媒体用アルマイト基板及びそれを用いる磁気記録媒体並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用アルマイト基板１０が、主表面にアルマイト膜２が形成されているアルミニウム合金基板１からなり、前記アルマイト膜２の少なくとも一部が、上層２１とそれより硬度が高い下層２２とを含む多層構造を有する。 （もっと読む）

本発明は、アルファアルミナ、ヒュームドアルミナ、シリカ、ニッケル−リンを酸化する酸化剤、錯化剤および水を含む化学機械研磨組成物を提供する。また、本発明は、基材を研摩パッドおよび該化学機械研磨組成物と接触させること、該研摩パッドと該研摩組成物を該基材に対して動かすこと、ならびに該基材の少なくとも一部を研摩して、該基材を研磨すること、を含む基材の化学機械研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に付着した塵埃などを効率良く除去すると共に、洗浄後にこれらが基板の表面に再付着することを防止した流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄槽２内で洗浄液Ｌを横方向に流し、この洗浄液Ｌに被洗浄物Ｗを浸漬させた状態で、洗浄液Ｌに超音波振動を印加しながら、被洗浄物Ｗの洗浄を行う流水式洗浄方法であって、洗浄槽２に洗浄液Ｌを供給する複数の供給口３と、洗浄槽２から洗浄液Ｌを排出する複数の排出口５とのうち、何れかの供給口３及び／又は排出口５を流れる洗浄液Ｌの流量を調整することによって、洗浄槽２内の洗浄液Ｌが層流の状態で流れるようにする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、洗浄性および耐泡立ち性が優れ、短時間の洗浄でも高度に清浄化されたＨＤ用基板を得ることを可能とするＨＤ用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いた清浄度の高いＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、特定のアクリル酸系共重合化合物および／又はその塩（成分(Ａ)）と、ポリアミン（成分（Ｂ））と、水（成分(Ｃ)）と、を含有し、実質的に非イオン性界面活性剤を含有せず、前記成分(Ｃ)以外の成分の重量の総和における前記成分（Ｂ）の含有量は３０〜９５重量％であり、前記成分(Ａ)と前記成分(Ｂ)の重量比｛成分(Ａ)/成分(Ｂ)｝が０．０４〜０．８である、Ｎｉ−Ｐ含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】片面記録用基板の一方の主面を効率良く研磨できる磁気ディスク用基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用基板の製造方法は、一対の研磨定盤１、２の間に挟持され、複数のディスク状ガラス基板４を保持した状態で自転しながら公転するキャリア５を備えた研磨装置でディスク状基板を研磨加工する主表面研磨工程を有する磁気ディスク用基板の製造方法であって、ディスク状ガラス基板４の一方の主表面を非研磨主表面とすべく、研磨装置において、一方の主表面側に板状体１０を配設した状態でキャリア５を配設しディスク状ガラス基板４の他方の主表面のみを研磨加工することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄工程での発塵を大幅に低減することができる磁気記録ディスク用洗浄装置を提供する。
【解決手段】磁気記録ディスクの両面にそれぞれ回転するブラシ等の洗浄部材を当接させて洗浄を行うスクラブ洗浄機構と、前記磁気記録ディスクを一つの洗浄ポジションから次の洗浄ポジションへ搬送する搬送機構とを備えた磁気記録ディスク用洗浄装置であって、前記磁気記録ディスクの下側にディスク移載用のホルダーを配置し、該ホルダーの円弧運動により、該ホルダーに収納された前記磁気記録ディスクを一つの洗浄ポジションから次の洗浄ポジションへ搬送する搬送機構とした。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用基板をディスクホルダに収容する際に、磁気ディスク用基板とディスクホルダが、または磁気ディスク用基板同士が衝突したり摺れたりすることによって、磁気ディスク用基板に疵やクラック等の欠点が生じる。
【解決手段】磁気ディスク用基板を減圧吸着する吸着板と、前記吸着板によって吸着されたことを検出する圧力センサと、前記圧力センサが吸着を検出した後に、前記吸着板を下降させるシリンダと、前記吸着板が所定の位置まで下降したことを検出する位置センサと、前記位置センサによる検出の後に、前記吸着板による減圧吸着を解除して、前記磁気ディスク用基板をディスクホルダ内に収容するポンプと、を具備する装置を用いて磁気ディスク用基板をディスクホルダ内に収容する。 （もっと読む）

【課題】ワークの内周面および／または外周面を研削する工程において、ワークのチャンファーの研削を行う際にチッピングが生じにくい研削装置等を提供する。
【解決手段】ワーク１０の内周面および／または外周面を砥石を用いて研削する研削装置であって、例えば、内周砥石２２は、周面を研削する第１の砥石部７６ａ，７８ａと、第１の砥石部７６ａ，７８ａの上下に連続して設けられチャンファーを研削する第２の砥石部７６ｂ，７８ｂおよび第３の砥石部７６ｃ，７８ｃとからなる凹部７６，７８を有し、第２の砥石部７６ｂ，７８ｂおよび第３の砥石部７６ｃ，７８ｃは凹状となされていることを特徴とする磁気記録媒体用円盤状基板の研削装置。 （もっと読む）

【課題】ブランク材を運搬する際にブランク材の重なり合う平面が傷つき難く、梱包作業を軽減することのできる磁気ディスク用ブランク材の保持具を提供する。
【解決手段】磁気ディスクに使用されるブランク材５０を複数枚単位で積層して保持するための磁気ディスク用ブランク材の保持具において、中心軸線Ｐに沿って延在し、ブランク材５０のそれぞれに形成された穴部５１を中心軸線Ｐ方向に挿通可能な芯部１０を備え、芯部１０の一端側には、挿通される最初のブランク材５０を支持する受け部２０が設けられ、芯部１０の他端側には、ロック機構部１４をロックした状態で、芯部１０の外周面１１と同一またはそれよりも内方の位置に退避し、ロック機構部１４を解除した状態で、芯部１０の外周面１１から突出して、挿通して積層される最後のブランク材５０を受け部２０に向けて押圧するブランク材保持部１２が設けられている。 （もっと読む）

本発明は、アルファアルミナ、フュームドアルミナ、シリカ、ニッケル−リンを酸化する酸化剤、シュウ酸、場合による酒石酸、場合によるノニオン性界面活性剤、場合による殺生物剤、および水を含む化学機械研磨組成物を提供する。また、本発明は、基材を、研磨パッドと、該化学機械研磨組成物とに接触させること、該研磨パッドと研磨組成物を該基材に対して動かすこと、ならびに該基材を研磨するように該基材の少なくとも一部を研摩すること、を含む化学機械研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく研磨後の基板のスクラッチ及び表面粗さを低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】コロイダルシリカ、水、酸及び酸化剤を含有し、前記コロイダルシリカが下記（ａ）〜（ｄ）の規定をすべて満たす磁気ディスク基板用研磨液組成物。
（ａ）真球率が０．７５〜１。
（ｂ）ナトリウム滴定法による比表面積（ＳＡ１）と、透過型電子顕微鏡観察による平均粒径（Ｓ２）から換算される比表面積（ＳＡ２）とから算出される表面粗度（ＳＡ１／ＳＡ２）が１．３以上。
（ｃ）前記平均粒径（Ｓ２）が１〜４０ｎｍ。
（ｄ）動的光散乱法により検出角３０度で測定されるＣＶ（変動係数）の値（ＣＶ３０）と、動的光散乱法により検出角９０度で測定されるＣＶ値（ＣＶ９０）との差であるΔＣＶ値（ΔＣＶ＝ＣＶ３０−ＣＶ９０）が０〜１０％である。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のうねりやナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材と、下記一般式（１）で表される構成単位及びスルホン酸基を有する構成単位を有する共重合体又はその塩とを含有する研磨液組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²は炭素数１〜２２の炭化水素鎖である。］ （もっと読む）

【課題】現行の磁気ディスク用アルミニウム合金基板と同等以上の強度を持ち、素材コストを低減させると共に、ＮｉＰめっき膜表面の平滑性に優れ、さらに圧着性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】芯材の両面に皮材を備えた磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、芯材は、Ｓｉ：０．１〜１．５質量％、Ｍｇ：１．０〜３．０質量％、Ｍｎ：０．５〜２．０質量％、Ｃｕ：２．０質量％以下を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、皮材は、Ｓｉ：０．０３質量％以下、Ｆｅ：０.０３質量％以下、Ｍｇ：３．０〜５．０質量％、Ｃｒ：０.０１〜０．３５質量％を含有し、さらに、Ｃｕ：０.０１〜０．２０質量％、および、Ｚｎ：０．０１〜０.５０質量％のうち少なくとも一種を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、耐力が１００ＭＰａ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨後の基板表面のスクラッチ、うねり、及びナノ突起欠陥の低減を実現できる磁気ディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】研磨材と、下記一般式（１）で表される構成単位及びホスホン酸基を有する構成単位を有する共重合体又はその塩とを含有する研磨液組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ²は水素原子、アルカリ金属原子、アルカリ土類金属原子（１／２原子）、アンモニウム若しくは有機アンモニウム、又は炭素数１〜２２の炭化水素鎖である。］ （もっと読む）