【課題】従来の極細繊維からなる研磨布ではなし得なかった、極細繊維束が均一に分散した緻密化な表面状態と、優れた平滑性を有する高性能研磨布を提供する。
【解決手段】研磨布は、平均単繊維直径が０．０５〜２．０μｍの極細繊維が収束してなる極細繊維束が絡合してなる不織布と高分子弾性体から構成される研磨布であって、前記不織布の前記極細繊維束が構成する表面繊維立毛部分の前記極細繊維束の幅方向の平均サイズが５０〜１８０μｍである。 （もっと読む）

【課題】ＤＴメディアやパターンドメディアの製造に適した磁気記録媒体用基板であって、複雑な工程が不要で簡易にＤＴメディアやパターンドメディアを製造することが可能な磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用基板は、円板状の形状を有する非磁性の母材を基板とし、基板表面の磁性膜を成膜しようとする所定領域の濡れ性が、他の領域の濡れ性と異なっている。 （もっと読む）

【課題】円形状基板を保持回転機構により保持して回転させ、テープ移送機構により研磨テープを間欠的又は連続的に移送させ、圧接機構によりテープ研磨機構の迂回研磨部と円孔の内周端面とを圧接し、研磨部揺動機構により迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて研磨することにより円孔の内周端面をＣ面又はＲ面に研磨することができる。
【解決手段】研磨テープＴを間欠的又は連続的に移送させるテープ移送機構Ｃと、迂回案内部Ｃ_３により側方に迂回案内された研磨テープの側方迂回部分Ｔ_３を円孔Ｑの内周端面Ｍを研磨可能な迂回研磨部Ｋとするテープ研磨機構Ｄと、迂回研磨部を円孔の内周端面に対向する方向に間欠的又は連続的に揺動運動させて迂回研磨部により円孔の内周端面をＣ面又はＲ面に研磨するための研磨部揺動機構Ｆとを備えてなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板を研磨する際に、前段の研磨工程で突き刺さったアルミナ砥粒を後段の研磨工程で効率良く除去可能な磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金基板の表面にＮｉＰめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第１の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第２の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、第１の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板表面粗さの低減を達成しながらも、従来の研磨布よりもスクラッチ欠点を抑えることのできる研磨布を提供する。
【解決手段】平均繊維径０．１〜３．０μｍの極細繊維を主体とする繊維絡合体と弾性重合体で構成され表面の極細繊維が起毛された研磨布であって、起毛された極細繊維の５０．０〜１００％の先端部１，２が、繊維径に対し１２０〜３００％の大きさの径を有する研磨布。 （もっと読む）

【課題】対象物の表面における研磨材の残留を低減できる研磨剤組成物を提供する。
【解決手段】複数種の研磨剤組成物を順次供給されている対象物の表面を同一の研磨パッドで擦る研磨方法において、複数種の研磨剤組成物のうちの一種の研磨剤組成物として用いられて、複数種の研磨剤組成物のうちの研磨材を含む研磨剤組成物の後に対象物の表面に供給され、コロイダルシリカと酸と水とを含み、コロイダルシリカはＨｅｙｗｏｏｄ径で測定された体積基準の粒度分布における粒子径５０ｎｍの累積体積頻度が３５％以上かつ前記粒度分布における粒子径１５ｎｍの累積体積頻度が９０％以下である研磨剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面に砥粒の残留がなく凹み欠陥も存在しないハードディスク基板を製造するためのリンス剤、及び該リンス剤を使用したハードディスク基板の製造方法を得ること。
【解決手段】本発明のリンス剤は、砥粒としてコロイダルシリカを含有するリンス液であり、コロイダルシリカ砥粒の濃度をＣ、コロイダルシリカ砥粒の平均粒径をＲとしたときに（Ｃ、Ｒはそれぞれ重量％、nmで表される）、コロイダルシリカ砥粒の濃度Ｃと平均粒径Ｒの関係が下記の式（１）を満足する構成を有している。
Ｒ≧２．２Ｃ＋１８．２・・・・・（１） （もっと読む）

【課題】無欠陥の無電解ニッケルメッキ膜の製造方法の提供。
【解決手段】スパッタ法を用いて、基材上に９９．９９％以上の純度および２．５μｍ以上の膜厚を有するアルミニウム層を形成する工程と、無電解メッキを用いて、アルミニウム層の上に無電解ニッケルメッキ膜を形成する工程とを含むことを特徴とする無電解ニッケルメッキ膜の製造方法。ここで、基材とアルミニウム層との間に９９．９９％以上の純度を有するチタン層を形成する工程をさらに含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム膜を有する磁気記録媒体基板上にインプリント法を用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する場合において、細孔が高度に周期配列した陽極酸化アルミナナノホールを形成させるための磁気記録媒体用スタンパの製造方法、ならびにそれを用いる磁気記録媒体基板および磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板に電子ビーム描画方法により、等間隔のドット状または矩形状のパターンを描画し、異方性エッチングすることにより、アルミナノホールのサイズよりも十分小さい逆ピラミッド形状のピットを有する磁気記録媒体用スタンパを作製する。これを用いて陽極酸化アルミナナノホールを形成する。 （もっと読む）

【課題】全波長成分のうねりを低減できる製造方法を提供し、磁気ヘッドの接触を低減して磁気ヘッドの浮上走行安定性の向上した媒体を提供すること。
【解決手段】本発明の製造方法は、Ｎｉ−Ｐ系合金からなる下地層を有する基板の該下地層に、有機酸または無機酸と、第１の研磨材とを含む第１のスラリー液を供給しながら、アルミナ、チタニア、シリカおよびジルコニアよりなる群から選択される研磨材を０．１ｗｔ％から２５ｗｔ％の濃度で含有する第１の多孔質材料を用いて前記基板を研磨する第１研磨工程と、前記第１研磨工程により加工された下地層の表面を、有機酸または無機酸と、第１の研磨材よりも小さい粒径を有する第２の研磨材とを含む第２のスラリー液を供給しながら第２の多孔質材料で研磨する第２研磨工程からなる。 （もっと読む）

【課題】研磨レートを向上させ、うねり低減やロールオフ低減の目的で添加される中間アルミナにより生じるアルミナ固着を低減することのできる研磨剤組成物および磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨材、中間アルミナ、酸、酸化剤、および水を含み、さらに、（ｉ）ホスホン酸基を二つ以上有する有機ホスホン酸キレート性化合物、（ｉｉ）分子中に繰り返し単位を有する分子量が５００〜１５００００の高分子陰イオン界面活性剤、（ｉｉｉ）所定の構造のポリオキシアルキレン基を有する有機リン酸エステル型陰イオン界面活性剤、から選ばれる少なくとも一種である、研磨対象へのアルミナ固着を低減するアルミナ固着低減剤を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルミニウム合金を使用した磁気記録用基板であって、優れた表面平滑性を持ち、かつ、マイクロピットの問題がない磁気記録用アルミニウム基板を提供することを課題とする。
【解決手段】磁気記録用アルミニウム合金基板であって、アルミニウム合金基体上にニッケル合金めっき処理による下地層を有し、かつ前記下地層の外側に酸化シリコン被膜層を有することを特徴とする磁気記録用アルミニウム合金基板である。 （もっと読む）

【課題】高いＳＮＲを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第１の圧力の雰囲気ガス下でＲｕまたはＲｕ合金からなる第１下地層を成膜する第１下地層成膜工程と、第１の圧力より高い第２の圧力の雰囲気ガス下でＲｕまたはＲｕ合金からなる第２下地層を成膜する第２下地層成膜工程と、第１の圧力より高く且つ第２の圧力よりも低い第３の圧力の雰囲気ガス下で、ＲｕまたはＲｕ合金を主成分とし酸化物を副成分とする第３下地層を成膜する第３下地層成膜工程と、第３下地層より上層に、柱状に成長したＣｏＣｒＰｔ合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】欠陥の少ない均質なめっき被膜を基板表面に均一な膜厚で形成することを可能とした無電解めっき装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗの中心孔に挿通されて複数の基板Ｗを吊り下げた状態で支持する複数の支持ロッド３と、複数の支持ロッド３を互いに平行且つ周方向に並べた状態で支持する支持輪４と、支持輪４の中心部に取り付けられた回転軸５と、回転軸５を回転自在に支持する軸受部材６と、回転軸５を回転駆動する回転駆動機構９とを備え、回転軸５の軸受部材６と対向する外周面に設けられたマグネットと、受部材６の回転軸５と対向する内周面に設けられたマグネットとが互いに同一の極性を有して反発することにより、軸受部材６が回転軸５を非接触状態で回転自在に支持する。 （もっと読む）

【課題】 製造工程時に使用する装置から溶出する鉄イオンに代表される金属イオンに由来するパーティクルに対して優れた洗浄性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつ再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 オキシカルボン酸（Ａ）とｐＨ６．０における三価の鉄イオンに対するキレート安定度定数の対数値が７．０以上であって該オキシカルボン酸以外のキレート剤（Ｂ）およびアルカノールアミン（Ｃ）を必須成分として含有することを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】研磨又は研削パッドといった被穿孔材に対して高い精度で孔部を穿設することを可能とした穿孔装置を提供する。
【解決手段】被穿孔材Ｗに孔部を穿設する穿孔刃２と、穿孔刃２を軸線方向に移動しながら軸線回りに回転可能に支持する支持部材３と、支持部材３を固定支持するベースフレーム４と、穿孔刃２を穿孔方向とは反対の方向に付勢する付勢機構５とを備える。 （もっと読む）

【課題】従来に比べてバイト寿命を長くすることができる、磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクとその製造方法を提供する。
【解決手段】焼鈍された磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクであって、Ｍｇ：３．５〜１０ｍａｓｓ％を含有するＡｌ−Ｍｇ合金の基板と、当該基板の表面に形成された酸化皮膜とからなり、当該酸化皮膜の平均膜厚が１５ｎｍ以下であり、酸化皮膜の平均組成がＡｌとＯとＭｇの原子数で０．０５≦Ｍｇ／（Ａｌ＋Ｏ＋Ｍｇ）≦０．２５であることを特徴とする切削加工性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金ブランク、ならびに、その製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ−Ｐメッキしたアルミ基板に由来するニッケルイオン、ステンレス製の洗浄設備等に由来する鉄イオンの再析出に対して優れた溶解性を有するとともに、適度なエッチング性を有することで一旦吸着した後、基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、かつパーティクルの再付着防止性に優れた磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 カルボキシル基を分子内に有するキレート剤（Ａ１）、ホスホン基もしくはリン酸基を分子内に有するキレート剤（Ａ２）および脂肪族アルカノールアミン（Ｂ）を必須成分とすることを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】アルミナ粒子とシリカ粒子とを含む磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、研磨速度の向上とロールオフの低減が可能な磁気ディスク基板用研磨液組成物、及びこれを用いた磁気ディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】アルミナ粒子、シリカ粒子、オキシアルキレン基を有する化合物、及び水を含有する磁気ディスク基板用研磨液組成物であって、前記シリカ粒子が透過型電子顕微鏡観察による測定で得られた前記シリカ粒子の粒径（ｎｍ）に対して小粒径側からの累積体積頻度（％）をプロットして得られた前記シリカ粒子の粒径対累積体積頻度グラフにおいて粒径１０ｎｍにおける累積体積頻度が０〜４０％でありかつ粒径４０ｎｍにおける累積体積頻度が５５〜１００％である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、被研磨物表面の欠点（スクラッチ）発生率を低減させることが可能であり、かつ研磨能率に優れた極細ポリトリメチレンテレフタレートからなる研磨布用布帛を提供することにある。
【解決手段】下記要件を満足する極細繊維を含むことを特徴とする研磨用布帛。
ａ）主たる繰り返し単位がトリメチレンテレフタレートからなるポリエステル極細繊維であって、平均単糸繊維径が５０〜２０００ｎｍ、平均単糸繊維径のＣＶ％が０〜２５％、強度が１．５〜６．０ｃＮ／ｄｔｅｘであること。
ｂ）ポリトリメチレンテレフタレートを島成分とし、熱水可溶性ポリエステルを海成分とする海島型複合繊維の海成分を溶出処理することによって得られる極細繊維であること。
ｃ）熱水可溶性ポリエステルが、５−ナトリウムスルホイソフタル酸をポリエステル全酸成分に対して５〜８モル％、ポリエチレングリコール化合物をポリエステル全重量に対して５〜１２％共重合されたポリエステルであること。 （もっと読む）