【課題】現行の磁気ディスク用アルミニウム合金基板と同等以上の強度を持ち、素材コストを低減させると共に、ＮｉＰめっき膜表面の平滑性に優れ、さらに圧着性に優れた磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】芯材の両面に皮材を備えた磁気ディスク用アルミニウム合金基板であって、芯材は、Ｓｉ：０．１〜１．５質量％、Ｍｇ：１．０〜３．０質量％、Ｍｎ：０．５〜２．０質量％、Ｃｕ：２．０質量％以下を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、皮材は、Ｓｉ：０．０３質量％以下、Ｆｅ：０.０３質量％以下、Ｍｇ：３．０〜５．０質量％、Ｃｒ：０.０１〜０．３５質量％を含有し、さらに、Ｃｕ：０.０１〜０．２０質量％、および、Ｚｎ：０．０１〜０.５０質量％のうち少なくとも一種を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、耐力が１００ＭＰａ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム合金ブランクの良好な平坦度を確保できると共に、アルマイト皮膜を備えることなく、積み付け焼鈍時に、アルミニウム合金ブランクと密着することがないアルミニウム合金スペーサおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】磁気ディスク用アルミニウム合金ブランクの平坦度を矯正するために使用するアルミニウム合金スペーサであって、前記アルミニウム合金スペーサの平坦度が２μｍ以下であり、前記アルミニウム合金スペーサの表面は、粗面化により形成された突起の最大高さから２μｍの深さでのベアリング比が３０％以下である。 （もっと読む）

【課題】砥粒や研磨屑の凝集を抑制し、スクラッチなどの欠点の非常に少ない研磨を行うことができる、平滑性に優れた研磨布を提供する。
【解決手段】実質的に繊維のみからなる表層を有し、前記繊維の数平均直径が１〜５００ｎｍであり、表面粗さの平均偏差（ＳＭＤ）がタテ方向、ヨコ方向の各々の値が２．０μｍ以下であることを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】被研磨物のうねりを良好に維持しつつ、研磨レートを高めることを目的とする。
【解決手段】基材層２と前記基材層２上に形成された多孔質の研磨層３とを備える研磨布であって、研磨層３の比表面積を０．５〜１．０ｍ^２／ｇとしており、これによって、研磨層の表面が、砥粒が付着し易い適度な粗さとなって、被研磨物のうねりを良好に維持しつつ、研磨レートを高めることができ、また、予備研磨の立ち上げに要する時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】研磨剤の保持性能とクッション性に優れ、研磨液を用いた研磨加工に最適な研磨用布帛およびその製法を提供する。
【解決手段】ポリアミドからなる第１ポリマー成分と、前記第１ポリマー成分と親和性のない第２ポリマー成分とからなる、分割型の複合繊維に由来する平均単糸繊度が０．９ｄｔｅｘ以下の繊維束を主成分とする繊維構造物からなり、目付１００〜５００ｇ／ｍ²、厚み０．３〜１．０ｍｍ、通気度０．０１〜５．０ｃｃ／ｃｍ²／秒、圧縮比５０〜８０％に設定された研磨用布帛である。 （もっと読む）

【課題】アルミニウムディスク及びガラス製ハードディスクは、記録容量の高密度化のため平均うねりが３Å以下のディスクが要望されている。その平滑な研磨面が得られる研磨用組成物を提供すること。
【解決手段】異なったモノモーダル数粒子径分布を有するコロイダルシリカ粒子群を含む、０．５〜５０重量％のＳｉＯ₂濃度を有する、アルミニウムディスク、又はシリカを表面に有する基板の研磨用組成物。 （もっと読む）

本発明は、湿式法シリカ、ニッケル−リンを酸化させる薬剤及びアミノポリカルボン酸を含み、ｐＨが１〜５である化学機械研磨組成物と、ニッケル−リンを含む基材の表面を接触させること、及び、ニッケル−リンの少なくとも一部分を磨耗し、前記基材を研磨することを含む、基材の表面を化学機械研磨する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹凸の鋭角性に優れるテクスチャー痕を均一で且つ微細に形成することができるとともに、スクラッチ欠点、リッジ欠点が少ないという高精度なテクスチャー加工を施すことができる研磨布を提供するものである。
【解決手段】本発明の研磨布は、平均繊維径０．１〜３μｍの極細繊維からなる不織布と高分子弾性体とを含んで構成され、少なくとも片面に前記極細繊維からなる立毛を有し、前記立毛における極細繊維の少なくとも一部にカチオン性界面活性剤を有してなることを特徴とする研磨布である。 （もっと読む）

【課題】遊離砥粒残渣を完全に除去することを可能とし、安定した磁気ヘッドの浮上走行を達成し、高品質な情報記録媒体用基板、及び信頼性の高い情報記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性材料からなる板状基板表面に鏡面加工を施した情報記録媒体用基板を純水からなる洗浄液中に浸漬し、且つ、洗浄液中で被洗浄面に対して平行に電場を印加することを特徴とする情報記録媒体用基板の洗浄方法、および非磁性材料からなる板状基板をその表面に鏡面加工を施した後、純水からなる洗浄液中に浸漬し、且つ、洗浄液中で被洗浄面に対して平行に電場を印加する工程を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基準ディスク及びヘッド検査方法において、比較的安価な基準ディスクを用いて高精度のヘッド検査を可能とすることを目的とする。
【解決手段】検査ヘッドの浮上量を測定するための基準ディスクは、約１．７０ｎｍ〜約２．００ｎｍの表面粗さＲａを有する基板と、基板の上方に設けられた保護層を備えた構成を有する。 （もっと読む）

【課題】平滑なデータ面を確保しつつ、より清浄度の高い磁気記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体用のＮｉ−Ｐめっきを施したアルミ基板の洗浄方法であって、酸性電解液中に基板を浸漬し、且つ、基板を陽極に接触させ、一方で基板端面近傍に不溶性電極（陰極）を配置し、両電極間に直流電圧を印加して基板端面のみを選択的にエッチング処理を施し、基板端面を洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用アルミ基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を有すると共に基板表面から脱離したパーティクルの分散性も良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間での洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 分子内に少なくとも４個のホスホン酸基を有するキレート剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】パターンド媒体及びその製造方法において、パターンド媒体の表面を簡単、且つ、安価に平坦化することを目的とする。
【解決手段】表面が平坦な仮基板上にカバー層を形成し、カバー層上にパターン化された記録層を形成し、記録層上に補強層を形成し、補強層上に本基板を接合し、本基板を補強層上に接合後に仮基板を除去するように構成する。 （もっと読む）

【課題】研磨で生じる砥粒や研磨カスの研磨終了後の研磨基板上における残留が少なく、且つ、高い研磨速度を持ち、基板の平滑性も保つことができる研磨液組成物、及び該研磨液組成物を用いる基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】アミノ基及び／又はイミノ基を分子内に２つ以上有する有機窒素化合物、有機多塩基酸、研磨材、及び水を含有してなる研磨液組成物を基板に供給し、研磨パッドを用い基板を研磨する工程を有する、ハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ−Ｐめっき性に優れ、微小うねりの発生が少ない磁気ディスク用アルミニウム合金基板およびその製造方法の提供。
【解決手段】Ｍｇ：３．５以上４．５質量％以下、Ｓｉ：０．００１以上０．０６質量％以下およびＦｅ：０．００１以上０．０６質量％以下を含み、Ｃｕ：０．０１質量％以上０．２質量％以下およびＺｎ：０．００１質量％以上０．４質量％以下のうち少なくとも１種を含有し、さらに必須成分として、Ｃｒ：０．１０質量％超え０．３質量％以下およびＭｎ：０．１０質量％超え０．３質量％以下のうち少なくとも１種を含有し、残部がＡｌおよび不可避的不純物からなり、最大長さが５μｍを超える金属間化合物が１個／ｍｍ^２以下であり、かつ平均結晶粒径が２０μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スクラッチなどの欠点が少なく、シャープな線密度の高いテクスチャー痕跡を有するハードディスク基板のテクスチャー加工を可能とし更に、微細な研磨屑、及び砥粒片のふき取りが十分でクリーニング性が良く、スクラッチ欠点の発生を極小化できる研磨布を提供することである。
【解決手段】本発明の研磨布は平均単繊維径が０．０５〜２．０μｍのポリアミド極細集束繊維束を絡合してなる不織布と高分子弾性体とからなり該極細集束繊維の束中には実質的に高分子弾性体は存在せず、該極細集束繊維の絡合体の空隙には該高分子弾性体が充填されており、その一面には該極細集束繊維と連続した立毛が形成されてなるシート状物であって、極細単繊維径分布、圧縮弾性率、ねじれ指数、立毛長さが特定の条件を満足する研磨布とする。 （もっと読む）

【課題】メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の微小うねりを低減できる基板の製造方法、研磨方法、及び微小うねり低減方法を提供する。
【解決手段】研磨材と水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記研磨材が、式（１６）：σ＞０．９０６７×ｒ＋０．５８８（１６）（式中、ｒは個数基準の平均粒子径（ｎｍ）、σは個数基準の標準偏差（ｎｍ）を示す）で表される粒径分布の研磨材（第１成分）と第１成分とは平均粒子径及び／又は標準偏差が１０％以上異なる他の研磨材（第２成分）とを含む、メモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品質の特性を備えると共に、表面欠陥のないアルミニウム合金基板を製造することができる磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金板を円板状に打ち抜いて、ディスクブランクを作製する打ち抜き工程（Ｓ１）と、打ち抜き工程（Ｓ１）で作製したディスクブランクの表面の異物を除去する異物除去工程（Ｓ３）と、異物除去工程（Ｓ３）で異物を除去したディスクブランクを乾燥させる乾燥工程（Ｓ４）と、を含み、異物除去工程（Ｓ３）は、ディスクブランクの表面に高圧水を噴射して、ディスクブランクの表面を洗浄することを特徴とする。また、必要に応じて、打ち抜き工程（Ｓ１）の後に、打ち抜き工程（Ｓ１）で作製したディスクブランクの表面を、湿式ブラスト、または、ショットブラストするブラスト工程（Ｓ２）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が１０〜５０μｍと非常に広く、深さが５ｎｍ以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減し、しかも効率的な研磨が可能な基板の製造方法、研磨方法、及びスクラッチの低減方法を提供すること。
【解決手段】 研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、アルミナ砥粒の基板への突き刺さりを低減できるハードディスク基板用研磨液組成物の提供。
【解決手段】α−アルミナと水とを含有するハードディスク基板用研磨液組成物であって、前記α−アルミナのα結晶化率が、２０〜７０％であり、前記α−アルミナのＸ線回折スペクトルにおけるα−アルミナ１０４面由来の回折角２θ領域３５．１〜３５．３°内のピークの半値幅が、０．２３°以上であり、前記α−アルミナの比表面積が、１０〜４０ｍ²／ｇであり、前記α−アルミナの平均粒径が、０．１〜０．５μｍである、ハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）