【課題】 磁気記録媒体製造におけるテクスチャー加工において、ディスク基板表面に大きな傷をつけることがなく、例えば平均表面粗さが１ｎｍ以下レベルの微細なテクスチャーを均一かつ安定的に付与することを目的とする。
【解決手段】 不織布およびその内部に高分子弾性体（Ｉ）が付与されてなるシートの少なくとも片面に極細繊維からなる立毛を有する研磨シートならびに研磨材粒子を用い、式（１）〜（３）を満足する条件下にてテクスチャー加工を行うことを特徴とする磁気記録媒体のテクスチャー加工方法。
０．０１ ≦ Ｒ ≦ ０．２ ・・・式（１）
０．０１ ≦ Ｄ ≦ ０．１ ・・・式（２）
１ ≦ Ｒ／Ｄ ≦ ５ ・・・・・・式（３）
ただし、Ｒ：立毛を構成する極細繊維の平均繊維直径（μｍ）
Ｄ：研磨材粒子の平均粒子径(μｍ) （もっと読む）

【課題】磁性を有する金属粒が基板上に規則的に配列した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性を有する複数の金属粒と、非磁性部とからなる記録層を有する磁気記録媒体の製造方法であって、複数の凹部を規則的に表面に有する基体を用意する工程と、該基体の上方に該記録層を形成する工程と、を備え、前記の記録層を形成する工程は、一つの該凹部の上方に一つの該金属粒を積層し、且つ該金属粒を取り囲むように該非磁性部を積層して、該記録層を形成する工程であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、テクスチャー加工用研磨布に関し、基盤表面粗さを０．３ｎｍ以下を達成し、スクラッチ欠点、リッジ欠点に優れ、かつ、線密度の高いテクスチャー痕を形成することができる研磨布を提供することにある。
【解決手段】平均単繊維繊度が０．００００１〜０．１ｄｔｅｘの極細繊維束からなる不織布と弾性重合体とで構成されるシート状物からなる研磨布であって、ＪＩＳ Ｌ−１９０７バイレック法（２００４年度版）で測定される吸水速度が１〜５０ｍｍの範囲であることを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクドライブのディスク、ハードディスクドライブ、基板を形成する記録媒体をテクスチャする方法、磁気記録ディスクの基板をテクスチャする方法、およびディスクドライブを作動させる方法を提供する。
【解決手段】ディスク基板の表面に陷沒形成され、網状のパターンでテクスチャリングされて、相互交差する網状のパターンの交差角である第１交差角を有する第１テクスチャと、第１テクスチャと独立的にディスク基板の表面に形成され、網状のパターンでテクスチャリングされて、相互交差する網状のパターンの交差角として第１交差角より相対的に小さな第２交差角を有する第２テクスチャとを有するハードディスクドライブのディスクが提供される。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク基板をハンドリングする際に静電気による疵の発生を防止する。
【解決手段】磁気ディスク基板（Ｓ）を支持するハンドリング装置(6)(14)において、前記磁気ディスク基板（Ｓ）に直接接触する接触部材(26)(28)(14)が体積抵抗率１×１０¹⁰Ω・ｍ以下の材料で形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化アルミニウム粒子を砥粒として含有する研磨液組成物であって、ハードディスク基板の製造において、酸化アルミニウム粒子の基板への突き刺さりを低減し得る研磨液組成物を提供すること。
【解決手段】酸化アルミニウム粒子と水とを含有してなるハードディスク基板用研磨液組成物であって、酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が０．１〜０．７μｍであり、酸化アルミニウム粒子中における粒子径が１μｍ以上の粒子の含有量が０．２重量％以下である、ハードディスク基板用研磨液組成物。 （もっと読む）

【課題】実用的な研磨速度を実現し、かつ、酸化アルミニウム粒子の基板への突き刺さりを低減し得る磁気ディスク基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】平均二次粒子径（Ｄ_Ａｌ）が０．１〜０．７μｍの酸化アルミニウム粒子及び酸を含有する研磨液組成物Ａを用いて基板を研磨する粗研磨工程、並びにコロイダル粒子を含有する研磨液組成物Ｂを用いて粗研磨工程で得られた基板を研磨する仕上げ研磨工程を有してなる磁気ディスク基板の製造方法であって、粗研磨工程の研磨荷重Ｐが下記（１）式を満足し、かつ仕上げ研磨工程の研磨量Ｒが下記（２）式を満足する、磁気ディスク基板の製造方法。
７４−（４０×Ｄ_Ａｌ）≦ Ｐ ≦１３８−（８０×Ｄ_Ａｌ） （１）
｛Ｐ×(Ｄ_Ａｌ)^２+１０｝×０．０１ ≦ Ｒ ≦０．５ （２）
[ここで、Ｄ_Ａｌ、Ｐ、及びＲはそれぞれ、μｍ、ｇ／ｃｍ^２、及びμｍ単位で表される。] （もっと読む）

【課題】ディスクリート型の磁気記録媒体を簡便且つ低コストで製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】主表面に磁気トラック４が実質的に同心円状に配置され、径方向に隣接する磁気トラック４間同士を磁気的に分離するための溝部５が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法であって、少なくとも平坦な基板１の上に磁気記録層２を形成した被加工媒体を作製した後に、この被加工媒体の主表面に溝部５に対応した凸部を有するスタンパを押し付けることによって、磁気トラック４の間に凸部の形状が転写された溝部５を形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気ハードディスクの基板の表面に、適度な深さの凹部と適度な高さの凸部を有するテクスチャ条痕を形成できるテクスチャ加工方法を提供する。
【解決手段】基板２１の表面に略同心円状の条痕を形成する第一の工程、及び基板の表面にこの条痕をベースとしたテクスチャ条痕を形成する第二の工程から成る。テクスチャ条痕を形成した基板表面における平均表面粗さが１Å以上、６Å以下の範囲にあり、この表面における平均表面粗さに対する最大表面粗さの比が１０未満の範囲にある。第二の工程において、砥粒を含んでいない潤滑液と発泡体テープ３０を使用する。発泡体テープの発泡体層の平均気泡直径は１μｍ以上、５０μｍ以下の範囲にあり、圧縮率は３％以上、７％以下の範囲にあり、圧縮回復率は４０％以上、６０％以下の範囲にあり、ショアーＤ硬度は２０度以上、３０度以下の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】打抜き後の過程で基板から脱落するバリ屑等の製品への影響を排除した磁気ディスク用基板の加工方法、及び加工装置を提供することにある。
【解決手段】加工方法は、円形基板１をピックアップして所定時間保持し、当該保持中に前記円形基板の少なくとも外縁部にバリ取り加工を施す工程を含むことを特徴とする。 加工装置は、円形基板を保持するピックアップ手段３と、当該ピックアップ手段により保持された円形基板の少なくとも外縁部が転接されるバリ取りガイド４０、４１を含むバリ取り手段４とを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。
【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。 （もっと読む）

【課題】研磨速度を低下させることなく、ロールオフを低減することができる研磨液組成物および研磨方法を提供すること。
【解決手段】研磨材、酸、酸化剤、水、及び下記一般式（１）で表される非イオン性界面活性剤を含有する研磨液組成物。
X-(EO)_ｌ(PO)_ｍ(BO)_ｎ-Y （１）
[式中、EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、BOはオキシブチレン基； ｌ、ｍ、ｎはそれぞれの平均付加モル数を示し、ｌ + m + nは8〜400、Xは-OR¹基、-OH基、又は-OCOR²基（R¹及びR²は炭化水素基）； Yは-R³基、水素原子、又は-COR⁴基（R³及びR⁴は炭化水素基）を表す。] （もっと読む）

【課題】被研磨基板のロールオフ（端面だれ）を顕著に低減する研磨液組成物、そのための基板の研磨方法、及びロールオフが顕著に低減された基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ、酸、界面活性剤、及び水を含有する研磨液組成物であり、(a)酸の水への25℃における溶解度が1g/飽和水溶液100g以上、(b)界面活性剤が下記の一般式（１）で表されるスルホン酸又はその塩、かつ（ｃ）研磨液組成物のｐHが0〜4、である研磨液組成物、並びに該研磨液組成物を被研磨基板1cm²当たり0.05ｍL/分以上で供給し、5〜50kPaの研磨圧力で研磨する基板の研磨方法及び該条件で基板を研磨する工程を有する基板の製造方法である。
R−（Ｏ）ｎ−X−SO_３H （１）
[式中、Rは一部又はすべての水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数3〜20の炭化水素基、Ｘは芳香族炭化水素の芳香環から水素原子を二つ除いた残基、及びｎは0又は1を表す。] （もっと読む）

【課題】 高級脂肪酸の含有量が多くても凝集を起こすことがなく、かつスクラッチあるいはリッジのないテクスチャー加工基板を安定に供給することができる磁気記録媒体のテクスチャー加工用スラリーの製造方法の提供。
【解決手段】 高級脂肪酸を含むクーラントに対して、ダイアモンド砥粒を含む酸性のダイアモンド分散液を添加する際に、ダイアモンド分散液が体積１００ｐＬ以下の液滴として添加されることを特徴とする磁気記録媒体のテクスチャー加工用スラリーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク基板のＮｉ−Ｐ面の研磨性に優れ、かつ洗浄後に研磨面に残留する有機残渣の認められない磁気ディスク基板用水性研磨剤を提供する。
【解決手段】研削材微粒子、高級脂肪酸およびポリエチレングリコールエーテル型非イオン系界面活性剤を含有する磁気ディスク基板用水性研磨剤であって、前記研削材微粒子が、該微粒子を純水中に２０カラット／リットルの割合で分散させた分散液のｐＨ値が７．０以上を示すダイヤモンド微粒子からなる磁気ディスク基板用水性研磨剤。 （もっと読む）

【課題】１インチ以下の小径の磁気ディスクを使用した磁気記録技術において、ヘッドと磁気ディスクが吸着することなくヘッド浮上量をできるだけ低減する。
【解決手段】内周面の平均表面粗さをＲａ1、及びそのデータ領域の外周面の平均表面粗さをＲａ2とするとき、０＜Ｒａ1−Ｒａ2≦０．２ｎｍで表される関係を有するディスク状基板を使用する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録ディスク等のテクスチャリング加工において、低Ｒａ値化に対応でき、かつ十分な加工レートや、テクスチャー痕の均一性、シャープさを保持しつつ、加工面のスクラッチ発生を抑制できる研磨用織物を提供する。
【解決手段】主として異形断面形状を有するマルチフィラメント糸条を使用した織物に、織物と高分子溶液および／またはラジカル反応性化合物溶液を共存させた状態でラジカル種を発生させる織物改質処理工程を経ることで、また、単糸繊度が０．０１〜３ｄｔｅｘの異形断面形状を有するマルチフィラメント糸条を含む織物と高分子溶液および／またはラジカル反応性化合物溶液を共存させた状態でラジカル種を発生させる織物改質処理工程を適用することで、要求特性を満足できる研磨用織物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム合金素条をドーナツ状に打抜く時に、パンチとダイスにより合金基板の剪断加工において発生したダレ幅を６００μｍ以下抑える。
【解決手段】 アルミニウム合金素条をドーナツ状に打抜くためのダイス、パンチ及びストリッパを備えたプレス用金型であって、前記ドーナツ状の外縁を打ち抜くためのダイスの刃先角度が１５°より大きく、４５°より小さいことを特徴とする、磁気ディスク用アルミニウム合金基板の打抜きプレス用金型、この金型を用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法、更に、外縁ダレ幅が６００μｍ以下の磁気ディスク用アルミニウム合金基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】被研磨物の十分な研磨性を有しながら、得られる被研磨物の平滑性に優れた研磨方法を提供すること。
【解決手段】直径０．１〜０．５μｍの極細繊維からなる立毛を有する繊維質基材と、０．１〜０．００１μｍの直径を有する研磨砥粒を用いて研磨することを特徴とする。さらには、研磨砥粒が極細繊維の直径の１／５以下の直径であること、繊維質基材が弾性高分子を含むこと、研磨砥粒がスラリー中に存在していることや、研磨がテクスチャー加工であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】加工時に高精度かつ高効率性が得られるディスク加工用基布とその製造方法を提供すること。
【解決手段】繊維を含むシート状物であって、表面側からの透水速度が０．５〜５．０ｍｇ／ｃｍ^２・秒で、裏面側からの透水速度が６〜１００ｍｇ／ｃｍ^２・秒であることを特徴とする。さらには、表面の液滴吸水速度が０．０１〜５秒／１５μｌであること、裏面の液滴吸水速度が６００秒／１５μｌ以上であることなどが好ましい。またその製造方法は、繊維を含み、かつ全層が親水性を示すシート状物の一方の表面に撥水剤を含有する溶液を５〜２００ｇ／ｍ^２塗布することを特徴とする。 （もっと読む）