【課題】垂直磁気記録媒体の耐食性を有する軟磁性下地層、及び磁気記録ヘッドの軟磁性薄膜を成膜する。
【解決手段】基板１０１と、該基板１０１上に成膜される下地層１０４と、該下地層１０４上に成膜される磁気データ記録層１０６とを有する磁気記録媒体であって、前記下地層１０４は、少なくとも一つの軟強磁性元素、及びクロム（Ｃｒ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、炭素（Ｃ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、マンガン（Ｍｎ）、窒素（Ｎ）、チタン（Ｔｉ）、ニオブ（Ｎｂ）、ケイ素（Ｓｉ）、タンタル（Ｔａ）、アルミニウム（Ａｌ）の元素群から選択した少なくとも一つの腐食防止元素を含んだ軟磁性合金からなるものである。 （もっと読む）

【課題】パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末としてＣｒ：５０〜７０原子％を含有し、残部がＣｏからなるＣｒ−Ｃｏ合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末（二酸化珪素、酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化トリウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウムおよび酸化イットリウムなどの粉末）およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合したのち、ホットプレスまたは熱間静水圧プレスなどの加圧焼結することにより製造する。 （もっと読む）

【課題】高密度記録が可能であると共に、生産歩留まりの低下を回避し、さらには磁気記憶装置の信頼性を向上可能な垂直磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板１１上に、軟磁性裏打ち層１２、シード層１３、下地層１４、記録層１５、保護膜１６、および潤滑層１８を順次積層した構成とし、下地層１４は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる複数の結晶粒子１４ａからなり、結晶粒子１４ａ同士を互い離隔する空隙部１４ｂを介して基板面内方向に配置され、記録層１５は下地層１４の結晶粒子１４ａ上に堆積した複数の磁性粒子１５ａからなり、磁性粒子１５ａ同士を互い離隔する空隙部１５ｂを介して基板面内方向に配置される。記録層１５の磁性粒子１５ａは、下地層１４の結晶粒子１４ａ上に成長した構成を有する。 （もっと読む）

【課題】非磁性部分またはギャップ部分によって互いに分離された一連の同心の磁気トラック部分を有する、データ記録で使用される磁気媒体を提供する。
【解決手段】磁気ディスク２０２は、隣接トラック干渉および隣接トラック書込みを回避する、新規な磁性表面２０４を有する。ディスク２０２は、より薄い非磁性ギャップ４０４によって分離された磁気トラック部分４０２を有する。トラック部分４０２は、したがって、トラック幅（ＴＷ）を規定する幅を有する。磁性部分の幅は、ディスクドライブシステムのトラック幅を規定してもよい。磁性部分４０４は、ＮｉＦｅ、ＣｏＦｅなどの材料を包含する。非磁性部分は、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）、Ｓｉ_３Ｎ_４、Ｓｉ（ＯＮ）_Ｘなどの材料を包含するか、または単に、部分４０４の磁性材料がトラック部分４０２に対して窪んでいるエアギャップであってもよい。 （もっと読む）

【課題】磁気データ記録層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成することを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体のシード層を、タンタル(Ｔａ)と、体心立方のタンタル(Ｔａ)相に対する溶解度が室温で１０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ³/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるスパッタターゲットで基板上に形成する。合金化元素は、ホウ素(Ｂ)、炭素(Ｃ)、アルミニウム(Ａｌ)、ケイ素(Ｓｉ)、チタン(Ｔｉ)、バナジウム(Ｖ)、マンガン(Ｍｎ)、クロム(Ｃｒ)、ジルコニウム(Ｚｒ)、ニオブ(Ｎｂ)、モリブデン(Ｍｏ)、イッテルビウム(Ｙｂ)、ルテチウム(Ｌｕ)、ハフニウム(Ｈｆ)、ビスマス(Ｂｉ)及びタングステン(Ｗ)から選択される。同磁気記録媒体の製造方法と使用するスパッタターゲットとの構成を特定構成とした。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクによるアプローチを利用して、高密度パターン化メディア上にサーボパターンを加工する装置、システム、方法を提供する。
【解決手段】装置は、リソグラフィックプロセスによって生成される、複数のアパーチャ306を有する蒸着マスク302を含む。固有の蒸着角度に方向付けされた蒸着ソース500から蒸着マスク302のアパーチャ306を通して、材料308を基板300上に形成する。このように、各アパーチャ306は複数の蒸着位置310に対応する。アパーチャ306の寸法を正確に定めて、アパーチャを正確に位置付けることによって、結果として定まる蒸着位置からサーボパターンフィーチャーを生成する。前記蒸着マスクは、前記基板上で複数の蒸着位置に材料を向けるようになっている複数のビットパターンアパーチャをさらに含む。前記蒸着位置は、サーボパターンの形成と同時にビットパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 高い保磁力を有する磁性薄膜を提供すること。
【解決手段】 ３２．５〜６５at%のPt、３２．５〜６５at%のFeおよび０．５〜２．５at%のInを含有する磁性薄膜。 （もっと読む）

【課題】既存のマグネトロンスパッタリング装置への広範囲な変更を要求せずに、強磁性体のスパッタリング効率を改善する。
【解決手段】改良されたスパッタリングターゲットを、マグネトロンスパッタリング装置で使用するために提供するものであり、そのスパッタリングターゲットは、ターゲット材料がスパッタされる活性な表面と該活性な表面の反対側に位置した背面とを含んでいる。少なくとも１つの磁石が、ターゲットの活性な表面を通り抜ける磁界を増加させるためにターゲットの背面に埋め込み、配向される。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体における信号対雑音比の改善及びデータ記録容量の増大を図る。
【解決手段】スパッタターゲットは、コバルト(Ｃｏ)、０より多く２４原子％以下のクロム(Ｃｒ)、０より多く２０原子％以下の白金（Ｐｔ）、０より多く２０原子％以下のホウ素(Ｂ)及び０より多く１０原子％以下の金(Ａｕ)を含む。このスパッタターゲットは、更にＸ₁を含み、前記Ｘ₁が、タングステン(Ｗ)，イットリウム(Ｙ)，マンガン(Ｍｎ)及びモリブデン(Ｍｏ)からなるグループから選択される。このスパッタターゲットは、更に０〜７原子％までのＸ₂を含み、前記Ｘ₂が、チタン(Ｔｉ)，バナジウム(Ｖ)，ジルコニウム(Ｚｒ)，ニオブ(Ｎｂ)，ルテニウム(Ｒｕ)，ロジウム(Ｒｈ)，パラジウム(Ｐｄ)，ハフニウム(Ｈｆ)，タンタル(Ｔａ)及びイリジウム(Ｉｒ)からなるグループから選択された１つの元素である。磁気記録媒体３００は、このスパッタターゲットでスパッタリング形成したデータ記録薄膜層３０６を有する。 （もっと読む）

【課題】改善されたスパッタターゲットを利用して、磁気結晶異方性の改善と増大した粒子間分離を達成することにより、磁気記録媒体の熱安定性及びＳＮＲを改善する。
【解決手段】スパッタターゲットは、コバルト（Ｃｏ）、白金（Ｐｔ）、単一成分或いは多成分の酸化物及び金属添加物を含み、金属添加物は、−０．０３電子ボルトより大きい還元電位を有し、且つ、室温でコバルト（Ｃｏ）に対して実質的に不溶である。金属添加物は、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）又は金（Ａｕ）であり、スパッタターゲットは、更に、クロム（Ｃｒ）及び／又はホウ素（Ｂ）を含む。スパッタターゲットは、２原子％〜１０原子％の範囲の銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）又は金（Ａｕ）、或いは、その他の金属添加物を含む。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細な組織を有するＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｔ粉末およびＳｉＯ_２粉末を配合した混合してＰｔ−ＳｉＯ_２混合粉末を作製し、このＰｔ−ＳｉＯ_２混合粉末にさらにＣｒ粉末およびＣｏ粉末を添加して混合して目標成分組成を有する混合粉末を作製し、この目標成分組成を有する混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用されるＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２グラニュラ磁気記録膜を形成するための微細組織を有するＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｐｔ粉末と微細なＳｉＯ_２粉末を混合して得られた混合粉末を仮焼処理することにより、Ｐｔ−ＳｉＯ_２仮焼処理粉末を作製し、このＰｔ−ＳｉＯ_２仮焼処理粉末にＣｒ粉末およびＣｏ粉末を配合し混合して得られた混合粉末を加圧焼結することを特徴とする磁気記録膜形成用ＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ_２スパッタリングターゲットの製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】ＣｏとＰｔとＣｒとを含む合金結晶粒子と、ＳｉとＯとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のＳｉ原子数に対するＯ原子数の比率が２．５以上５以下、記録層中のＳｉ原子含有率が３〜６原子％、Ｏ原子含有率が１２〜２０原子％である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±１０％以下とする。 （もっと読む）

【課題】異常放電によるターゲットからのパーティクルの飛散を防止し、高品質な垂直磁気記録媒体を高歩留まりで製造する方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層６の成膜に当っては、ＤＣパルスを使用し、スパッタリングとスパッタリングの間の反転期間(Reversal Time)にターゲットに反対極性の電圧が印加される。スパッタリング時は、ターゲットに負の電圧が印加され、ターゲット表面が負の電位になり、Ａｒ＋が衝突することでスパッタリングが始まり、スパッタされたＣｏＣｒＰｔとＳｉＯ_２は中間層５の表面に堆積する。ターゲットの絶縁物（ＳｉＯ_２）の表面はＡｒ＋により帯電し、ターゲットの電圧に比べて大きな値となる。しかしながら、非スパッタリング時にはターゲットに正の電圧を印加することで、絶縁物表面に帯電した電荷を中和するので、アーキングの発生を防止することができる。 （もっと読む）

磁気記録媒体は、ｃ軸が基板面に対する垂線からある角度傾斜すると共に記録方向に対して固定されたｈｃｐ構造のＣｏ系磁性層を備える。ｃ軸の傾斜は、斜めに蒸着された非磁性他結晶下地層の上にｈｃｐ構造のＣｏ合金をエピタキシャル成長することで誘起され、磁気記録媒体は良好な熱安定性を有すると共に、単極型ヘッドを用いて向上されたオーバーライト特性を示す。
（もっと読む）

【課題】 スパッタリング中に、異常放電や発塵の発生原因となり得るターゲット材の組織内に存在するマイクロクラックの発生を抑制した粉末焼結法によって作製されたＣｒ−Ｍｎ合金スパッタリング用ターゲット材を安定的に提供する。
【解決手段】 Ｍｎを５〜３５原子％含有する残部実質的にＣｒからなる粉末焼結ターゲット材であって、該ターゲット材の組織中に実質的にα−Ｍｎ相が存在しない粉末焼結Ｃｒ−Ｍｎ合金スパッタリング用ターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】最適化された粒子サイズと粒子間分離性を持つ粒状媒体を形成するためのスパッタターゲット材を提供する。
【解決手段】スパッタターゲットは、卑金属を含む強磁性合金と、０．２６６ｎｍ未満の原子径と前記卑金属の酸化電位より大きい酸化電位を有する金属であるＸとを含んで構成される。卑金属は、Ｆｅ、Ｃｏ又はその他の強磁性材料とすればよく、更に、保磁力を高めるためにＰｔ、Ｔａ及び／又はＣｒのような元素を含んでもよい。Ｘは、Ａｌ，Ｂａ，Ｂｅ，Ｃａ，Ｃｄ，Ｃｅ，Ｃｒ，Ｃｓ，Ｄｙ，Ｅｒ，Ｅｕ，Ｇａ，Ｇｄ，Ｈｆ，Ｈｏ，Ｋ，Ｌａ，Ｌｉ，Ｍｇ，Ｍｎ，Ｎａ，Ｎｂ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｐｒ，Ｒｂ，Ｓｃ，Ｓｍ，Ｓｒ，Ｔａ，Ｔｂ，Ｔｅ，Ｔｈ，Ｔｉ，Ｖ，Ｙ，Ｚｎ及びＺｒからなるグループから選択される金属であればよい。スパッタターゲットは、０原子％より多く１５原子％未満のＸを含有する。 （もっと読む）

【課題】複数の磁気記録媒体を生産性良く製造でき、磁気記録媒体の面内での電磁変換特性のバラツキが少なく、また製造歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】（１）基板上に、ターゲットを用いてスパッタリング法により、薄膜を形成する磁気記録媒体の製造方法において、スパッタリング中に円環状侵蝕領域が形成されるターゲットと複数枚の基板を載置した基板ホルダーとを中心軸を一致させて平行に対向配置する。そして円環状侵蝕領域の最深部のターゲット中心からの距離をＲ１、円環状侵蝕侵蝕領域の最内周のターゲット中心からの距離をＲ２、基板外径端の基板ホルダー中心からの最長距離をＲ３、最短距離をＲ４としたとき、Ｒ３／Ｒ１が１．１以下であり、かつＲ４がＲ２以上である位置に基板を基板ホルダーに配置して薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 磁気記録媒体の平滑化と周方向の配向度の向上の両立を図り、高記録密度化が可能な新規な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 表面が平滑なディスク基板１１上に、斜め入射スパッタ法により非晶質の非磁性ＣｏＷ合金材料からなるシード層１２を形成し、シード層１２の表面を酸化処理を行って表面酸化部１２ａを形成する。その上に垂直入射スパッタ法により下地層１３、第１磁性層１４／非磁性結合層１５／第２磁性層１６からなる記録層１８、保護層１９、及び潤滑層２０を順次形成する。シード層１２を斜め入射スパッタ法により形成することで、記録層１８の磁化容易軸が周方向に配向し、静磁気特性およびＳ／Ｎ比が向上する。シード層１２を形成する際に、ディスク基板１１の外周側から内周側に向うスパッタ粒子を堆積させるシールド部を設けることで、配向度を一層向上する。 （もっと読む）

【課題】 加工性を向上させた磁気記録媒体のシード層を形成するためのＣｏ合金ターゲット材を安定的に提供する。
【解決手段】 （Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ）から選択される１種以上の元素を２５〜９０原子％含有し、残部実質的にＣｏとからなるＣｏ合金ターゲット材において、ターゲット材の組織中にαＣｏ相あるいはεＣｏ相が残存している磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材である。また、ターゲット材のスパッタ面の断面ミクロ組織におけるαＣｏ相あるいはεＣｏ相の最大長径が５００μｍ以下である磁気記録媒体用Ｃｏ合金ターゲット材である。 （もっと読む）