【課題】 本発明は、垂直磁気記録媒体における中間層膜として用いるＮｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材合金およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗ：１〜２０％，Ｂ：０．１〜１０％を含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなる垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ｎｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材をガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したことを特徴とする垂直磁気記録媒体における中間層膜製造用Ｎｉ−Ｗ−Ｂ系スパッタリングターゲット材の製造方法。さらに上記のスパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｂ系薄膜。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するための比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】非磁性酸化物：０．５〜１５モル％、Ｃｒ：４〜２０モル％、Ｐｔ：５〜２５モル％、Ｂ：０．５〜８モル％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットは素地中にＣｏ−Ｃｒ−Ｂ三元系合金相が均一分散している組織を有する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するための比透磁率の低い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】非磁性酸化物：０．５〜１５モル％、Ｃｒ：４〜２０モル％、Ｐｔ：５〜２５モル％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットにであって、このスパッタリングターゲットの組織は、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ三元系合金相と、Ｐｔ相および非磁性酸化物相からなる混合相とからなり、前記Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ三元系合金相は、前記Ｐｔ相および非磁性酸化物相からなる混合相により包囲されている組織を有する。 （もっと読む）

【課題】ハードディスクの高密度磁気記録媒体に適用される磁気記録膜、特に垂直磁気記録媒体に適用される磁気記録膜を形成するための漏洩磁束密度の高い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有する板状焼結スパッタリングターゲットであって、面内方向比透磁率が５０以下、かつ面内方向比透磁率が厚み方向比透磁率より小さい漏洩磁束密度の高い垂直磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】パーティクル発生の少ない磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末としてＴｉＯ_２粉末、Ｔａ_２Ｏ_５粉末、Ａｌ_２Ｏ_３粉末、ＭｇＯ粉末、ＺｒＯ_２粉末、Ｙ_２Ｏ_３粉末の内のいずれか１種の酸化物粉末の表面を１〜２０体積％の二酸化珪素層で被覆した酸化物粉末、Ｃｒ粉末、Ｐｔ粉末、Ｃｏ粉末、Ｃｒ、ＰｔおよびＣｏのうちのいずれか２種以上を含む合金粉末を用意し、これら原料粉末をＣｒ：５〜２０モル％、Ｐｔ：５〜２５モル％、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＺｒＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３の内のいずれか１種の酸化物とＳｉＯ_２の合計：２〜１５モル％を含有し、残部：Ｃｏ粉末からなる組成となるように配合し混合したのち、加圧焼結する。 （もっと読む）

【課題】記録再生特性を向上させ、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体は、非磁性基板１上に、少なくとも、軟磁性下地膜２と、直上の膜の配向性を制御する配向制御膜３と、磁化容易軸が基板に対して主に垂直に配向した垂直磁気記録膜５と、保護膜６とが設けられ、前記配向制御膜が３３Ｃｕ−６７Ｈｆ、３３Ｃｕ−６７Ｔｉ、３３Ｃｕ−６７Ｚｒ、６７Ｇｅ−３３Ｗ、６７Ｇｅ−３３Ｍｏ、６７Ｓｉ−３３Ｍｎ、６７Ｓｉ−３３Ｗ、６５Ｓｉ−３５Ｒｅ、３３Ｚｎ−６７Ｈｆ、３３Ｚｎ−６７Ｔｉ、６７Ｎｉ−３３Ｔａからなる群から選ばれる何れか１種の組成材料である。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に用いられるＣｏ−Ｆｅ系合金の軟磁性膜を成膜するためのＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材に関して、良好なスパッタリング特性を有する低透磁率のＣｏ−Ｆｅ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｃｏ_Ｘ−Ｆｅ_{１００−Ｘ}）_{１００−（Ｙ＋Ｚ）}−Ｚｒ_Ｙ−Ｍ_Ｚ、２０≦Ｘ≦７０、２≦Ｙ≦１５、２≦Ｚ≦１０で表され、前記組成式のＭ元素が（Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｂ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ）から選ばれる１種または２種以上の元素であるスパッタリングターゲット材であって、該スパッタリングターゲット材のミクロ組織がＣｏを主体とする合金相とＦｅを主体とする合金相とからなる焼結組織を有し、前記Ｆｅを主体とする合金相中にＦｅ_２Ｍの非磁性ラーベス相金属間化合物が存在するＣｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】均一な組織を持ち、酸素を低減できるＡｌＲｕスパッタリングターゲットを安定してかつ低コストで製造できるようにするとともに、パーティクルの発生を防止又は抑制し、成膜の製品歩留りを上げることにより、ハードディスク用の膜形成に好適なＡｌＲｕスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】原料となるＡｌとＲｕを高周波溶解し、Ａｌ１３Ｒｕ４金属間化合物を主成分とする粉末とし、Ｒｕ粉を混合した後焼結する。また、９５ｖｏｌ．％以上のＡｌＲｕ金属間化合物からなる焼結体であるＡｌＲｕスパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】 耐摩耗性および耐腐食性に優れた二重保護層を備えた磁気ディスクまたは磁気記録再生ヘッドおよびそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気ディスクまたは磁気記録再生ヘッドの清浄化された表面に、アルミニウム酸化窒化物、チタンアルミニウム合金酸化窒化物、シリコンアルミニウム合金酸化窒化物またはクロムアルミニウム合金酸化窒化物等の酸化窒化物からなる密着性向上のための下地層を形成し、その上にＤＬＣ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】磁気データ記録粒状層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成すること。
【解決手段】磁気記録媒体２００の基板２０２上に、ニッケル（Ｎｉ）と、面心立方ニッケル（Ｎｉ）相に対する溶解度が室温以上で５０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ³/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるシード層２０４を付着し、続いて下地層２０６、磁気データ記録粒状層２０８を順次付着する。前記合金化元素は、ホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ハフニウム（Ｈｆ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、ビスマス（Ｂｉ）及びトリウム（Ｔｈ）から選択される。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、主に磁気記録媒体における下地膜など電子部品用の薄膜を形成するために用いられるＷＶ系ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】 原子％で、Ｖ：５〜５０％、残部Ｗからなり、原料粉末として平均粒径１５０μｍ以下のＶ粉末と平均粒径１０〜５０μｍのＷ粉末を使用し、１２５０〜１４００℃で固化成形したことを特徴とするＷＶ系ターゲット材の製造方法。また、上記原料粉末としてのＶ粉末の平均粒径を２０〜１５０μｍとすることを特徴とするＷＶ系ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体に用いられるＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金の軟磁性膜を成膜するためのＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金ターゲット材に関して、良好なスパッタリング特性を有する低透磁率のＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｃｏ_Ｘ−Ｆｅ_{１００−Ｘ}）_{１００−（Ｙ＋Ｚ）}−Ｚｒ_Ｙ−Ｍ_Ｚ、２０≦Ｘ≦７０、２≦Ｙ≦１５、２≦Ｚ≦１０で表され、前記組成式のＭ元素が（Ｔｉ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｓｉ、Ａｌ、Ｍｇ）から選ばれる１種または２種以上の元素であるスパッタリングターゲット材であって、ミクロ組織におけるＨＣＰ−Ｃｏからなる相とＦｅを主体とする合金相とが微細に分散しているＣｏ−Ｆｅ−Ｚｒ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高い保磁力Ｈｃや逆磁区核形成磁界Ｈｎを維持しつつ、耐衝撃性を高めることの可能な磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明にかかる磁気記録媒体の製造方法の代表的な構成は、ディスク基体１上に少なくとも第１磁気記録層５、第２磁気記録層６を備える垂直磁気記録方式の磁気記録媒体の製造方法において、第１磁気記録層５および第２磁気記録層６は連続して成長した結晶粒子の間に粒界部を形成する非磁性領域を備えたグラニュラー構造の強磁性層であって、ディスク基体１側の第１磁気記録層は高圧の雰囲気ガス圧でスパッタリング法を用いて成膜し、ディスク基体１から離れて形成する第２磁気記録層は低圧の雰囲気ガス圧でスパッタリング法を用いて成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パーティクル発生の少ない高密度磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸素：０．５〜４０原子％、Ｃｒ：２〜２０原子％、Ｐｔ：４〜３０原子％、Ｔｉ：０．５〜２０原子％を含有し、残部：Ｃｏおよび不可避不純物からなる成分組成を有する焼結体からなるターゲットにおいて、前記ターゲット素地中にＣｒ、Ｔｉおよび酸素からなる酸化物粒子が均一分散している組織を有し、前記Ｃｒ、Ｔｉおよび酸素からなる酸化物粒子は、Ｃｒ、Ｔｉおよび酸素の合計を１００原子％とした場合、Ｃｒ：３〜１０原子％、Ｔｉ：２５〜３５原子％を含有し、残部が酸素からなる酸化物粒子であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】良好な熱揺らぎ耐性を有すると共にＳＮ比を向上した垂直磁気記録媒体、その製造方法、およびその垂直磁気記録媒体を備える磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板１１と、基板上に形成された軟磁性裏打層１２と、第１の記録層１９、記録補助層２１、第２の記録層２２がこの順に堆積してなる記録層１８と、を備え、第１および第２の記録層１９，２２は、膜面に垂直な磁化容易軸を有する強磁性層であり、記録補助層２１は、膜面に略垂直で、非磁性部２１ｂにより互いに離隔された複数の磁性粒子からなり、該磁性粒子は膜面に対して斜め方向の磁化容易軸を有し、第１の記録層１９、記録補助層２１、および第２の記録層２２は隣接する層が互いに交換結合している。さらに、垂直磁気記録媒体１０は、第１の記録層１９と記録補助層２１との間、あるいは記録補助層２１と第２の記録層２２との間に交換結合力制御層２０を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】グラニュラー磁性層内の強磁性微粒子の酸化を低減し、磁気特性の劣化を抑制することで、高密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体、このような垂直磁気記録媒体を製造するのに好適なスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】基板１上に少なくとも磁気記録層６を備えた垂直磁気記録媒体の前記磁気記録層を成膜する際に使用するスパッタリングターゲットであって、このスパッタリングターゲットは強磁性材料と金属酸化物とからなり、その金属酸化物はその金属酸化物中に含まれる酸素の原子数が化学量論比よりも小さくなるようにした。また、このような磁気記録媒体製造用スパッタリングターゲットを用いてスパッタリング法により上記磁気記録層を成膜することにより垂直磁気記録媒体を得る。 （もっと読む）

【課題】既存のものよりも保磁力差の小さい、酸化物含有Ｃｏ系合金磁性膜、該磁性膜を形成し得るターゲット材およびスパッタリングターゲット、該ターゲット材の製造方法を提供する。
【解決手段】Ｆｅ含量が１００ｐｐｍ以下である、酸化物含有Ｃｏ系合金磁性膜および酸化物含有Ｃｏ系合金ターゲット材、該ターゲット材がバッキングプレートに接合されてなるスパッタリングターゲット、ならびに、Ｃｒ鋳塊を、Ｃｏ鋳塊およびＣｏ粉末から選ばれる少なくとも１種のＣｏ原料と共に溶融してＣｏ−Ｃｒ合金を調製した後、該Ｃｏ−Ｃｒ合金をアトマイズ法により処理してＣｏ−Ｃｒ合金粉末を得て、該Ｃｏ−Ｃｒ合金粉末と、Ｐｔ粉末および酸化物粉末とを混合して混合粉末を得て、該混合粉末を成形した後に焼成するか、あるいは成形すると同時に焼成する、酸化物含有Ｃｏ系合金ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 ＣｏＷ系ターゲット材の相対密度が１００％で、かつ加工性に優れたＣｏＷ系ターゲット材の作製を可能にしたハードディスクドライブ用のＣｏＷ系ターゲット材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ＣｏＷ系ターゲット材において、原料となるＣｏ粉末の平均粒径を５０〜５００μｍ、Ｗ粉末の平均粒径を１０〜２００μｍとしたことを特徴とするＣｏＷ系ターゲット材。また、上記ＣｏＷ系ターゲット材において、Ｗの含有量を３０〜８０ａｔ％としたことを特徴とするＣｏＷ系ターゲット材およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 一般的な成膜方法であるスパッタリング法や蒸着法等の物理的気相成長法において、特殊な処理をしなくても、Ｐｔ−Ｆｅ二元系合金膜よりも低温で規則化することができる磁性薄膜を提供すること。
【解決手段】Ｐｔ ４０〜６０ａｔ％、Ｆｅ ４０〜６０ａｔ％およびＰ ０．０５〜１．０ａｔ％ならびにさらに場合によりＣｕおよび／またはＮｉ ０．４〜１９．５ａｔ％より構成される磁性薄膜およびスパッタリングターゲットまたは蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】ターゲット形状を複雑にした場合に、スパッタ成膜中にターゲットの変形が生じてもターゲットとバッキングプレートとの良好な接触性が保たれるバッキングプレート及びスパッタ装置を提供する。
【解決手段】バッキングプレートは、固定プレート部と、この固定プレート部におけるターゲット保持面側に設けられたバネ部と、このバネ部を介して固定プレート部に保持され、エロージョン形状に合わせて凹凸が設けられたターゲットの背面が接触される可動プレート部と、を備えている。 （もっと読む）