【課題】パターンの矩形性がよく、磁気的スペーシングの小さい磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に、磁気記録層、酸化防止層、カーボンを含むハードマスク層を形成し、前記ハードマスク層上にレジストを塗布し、インプリントにより前記レジストに凹凸パターンを転写してレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとする前記ハードマスク層のエッチング、前記酸化防止層のエッチング、および前記磁気記録層のエッチングおよび／または磁性の失活を順次行って磁気記録層のパターンを形成し、前記レジストパターンの剥離、前記ハードマスク層の剥離、および前記酸化防止層の剥離を順次行うことを含み、前記酸化防止層を剥離する際にイオンビームエッチングを用いることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板表面粗さの低減を達成しながらも、従来の研磨布よりもさらにスクラッチ欠点を抑えることのできる研磨布を提供する。
【解決手段】平均繊維径０．３〜３．０μｍの極細繊維の束が絡合してなる不織布を有してなり、研磨布の厚み方向と直交する断面において、前記極細繊維束の断面が５０〜１０００個／ｍｍ^２存在することを特徴とする研磨布。 （もっと読む）

【課題】端面研削用の研削砥石の管理が容易であるとともに寸法のばらつきが小さいガラス基板を製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】薄板ガラスを複数枚積層して固着一体化しガラスブロックを形成するガラスブロック形成工程と、ガラスブロックをコアリングしてドーナツ状ガラスブロックを形成する内外径コアリング工程と、ドーナツ状ガラスブロックの内周及び外周の端面を研削する内外周端面研削工程と、ドーナツ状ガラスブロックを個々のドーナツ状ガラス基板に分離し分離したドーナツ状ガラス基板を洗浄する分離洗浄工程とを含み、内外周端面研削工程は、ドーナツ状ガラスブロックと円柱形状の研削砥石とを互いに平行な軸回りに回転させながら研削砥石とドーナツ状ガラスブロックとをドーナツ状ガラスブロックの積層方向において相対的に往復移動させるとともに内周又は外周の端面に押圧するように径方向へ移動させて端面を研削する。 （もっと読む）

【課題】イオンミリングによって磁気記録層を有する基板表面が消失することなく、かつ大気の影響を受けずに磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板の表面をアッシングにより除去して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置１０であって、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入するイオン注入室２０と、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板のレジスト膜またはメタルマスクを、プラズマによりアッシングして除去するアッシング室３０と、を有し、イオン注入室２０とアッシング室３０とは真空状態で連結されると共に、イオンビーム注入後の基板をイオン注入室２０からアッシング室３０に搬送する基板搬送機６０を備える。 （もっと読む）

【課題】高記録密度の磁気記録媒体を簡易な製造方法にて実現する。
【解決手段】基板と、基板上に複数設けられた、各々が、該基板上に複数種類の原子層が交互に積層されてなる人工格子構造を有する、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットと、磁性ドットの相互間に設けられた、磁性ドットの人工格子構造と連続した人工格子構造を有し、人工格子構造にイオンが注入されてなる、磁性ドットの飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有するドット間分断帯とを備える。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の端面を低コストで効率良く高品質に仕上げることができる安定した研削加工を可能とする磁気ディスク用ガラス基板の加工方法を提供する。
【解決手段】円板状のガラス基板の端面部分に研削液を供給しつつ、ガラス基板の端面に砥石を接触させて研削することによりガラス基板の端面を加工する磁気ディスク用ガラス基板の加工方法である。上記砥石は、ガラス基板の端面と接触する面に溝形状を有し、該溝形状は、ガラス基板の端面の側壁面と、該ガラス基板の主表面と側壁面との間の面取面との両方の面を同時に研削加工できるように形成されている。そして、ガラス基板の端面に当接する上記砥石の軌跡が一定とならないように、ガラス基板の端面と砥石とを接触させ且つガラス基板と砥石とを相対的に移動させることにより、ガラス基板の端面の側壁面及び面取面の両方の面を研削加工する。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスをプレス成形してガラス基板ブランクスを製造する方法において、ガラス基板ブランクスを金型から離型するときにガラス基板ブランクスの厚みが薄くなっても割れが発生せず、また、平面性の高いガラス基板ブランクス、該ガラス基板ブランクスの製造方法、該製造方法で製造したガラス基板ブランクスを用いた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び情報記録媒体を提供する。
【解決手段】ガラス基板ブランクスの少なくとも一方の表面が、凸部からなるパターンを有すること。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク装置において低フライングハイト、高速回転動作時のエラーの発生を低減できる磁気ディスク用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】磁気記録領域が形成される主表面上の幅３０μｍの円環領域において周期２μｍ未満の凹凸形状における凸部の最大高さが６ｎｍ以下であり、前記円環領域内の円弧長３０μｍの単位測定領域において高さ３ｎｍ以上の凸部の数が１個以下であり、前記円環領域内での前記単位測定領域間の算術平均粗さの差が０．２ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】表面加工方法及び装置において、基板表面でのスクラッチの発生を抑制して基板の表面粗さを更に小さくし、且つ、表面の欠陥箇所を更に少なくすることを可能とすることを目的とする。
【解決手段】円筒形状を有する研磨部材を基板表面に接触させた状態で回転させ、基板表面の所定方向に研磨及びテキスチャリングの少なくとも一方の加工を施す表面加工方法において、研磨部材の回転軸に沿った中心部分に設けられた研磨液経路に研磨液を供給し、研磨部材を記回転軸を中心に回転して研磨液を研磨液経路の外側に設けられた発泡体でろ過しつつ基板表面に供給し、発泡体の開口径は研磨液経路側の方が研磨部材の外周側より大きくする。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、基板に向けて吐出される処理ガスの温度低下を防止可能な技術を提供する。
【解決手段】密着強化処理ユニット１においては、カバー２０の内部に仕切壁８１が設けられることによりカバー２０の内側にバッファ空間Ｂが形成される。また、バッファ空間Ｂ内には処理ガス案内部材８２が処理ガスの蛇行流路を形成している。処理ガス供給部５０からバッファ空間Ｂ内に導入された処理ガスは、バッファ空間Ｂ内を蛇行した上で基板Ｗ表面に向けて吐出される。バッファ空間Ｂは、加熱部４０により昇温されたプレート１０の輻射熱によって昇温しているので、バッファ空間Ｂ内を流れる間に処理ガスはプレート１０からの輻射熱を受けて加熱され、加熱により昇温した処理ガスが吐出口８１１から基板Ｗに向けて吐出されることになる。 （もっと読む）

【課題】主表面の微少うねりが規格値を満たすガラス基板をより生産性高く製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】記録ディスクに用いられる主表面の微少うねりが０．６ｎｍ以下のガラス基板の製造方法であって、円板状の形状を有し、互いの厚さが異なり、かつその差が２μｍ以下である複数のガラス基板を準備するガラス基板準備工程と、前記複数のガラス基板を上下から一括して研磨パッドで挟圧し、片側の主表面に対する設定研磨量が９μｍ以上になるように該複数のガラス基板を同時に研磨するガラス基板研磨工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させる磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板１の上に、密着層２、軟磁性層３、中間層４、磁性層５、保護膜層６及び潤滑層７が順次積層されてなる磁気記録媒体の製造方法において、保護膜層６を成膜後に、当該保護膜層６を特定の条件で窒化処理することにより、磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】反り及びチッピングが発生するのを抑制することができるとともに平坦度を向上させることができ、さらに洗浄回数を低減することができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】情報記録媒体用ガラス基板は、ガラス素板１１が形状加工１２により円盤状に形成された後、化学強化処理２２により化学強化される。次に洗浄処理１６により洗浄された後、ラップ研磨加工１５、第１研磨加工２０、第２研磨加工２１が施される。ラップ研磨加工１５等では、ガラス素板１１の主表面に形成された強化層２５の厚みの半分以上を除去すべく一対の定盤を用いてガラス素板１１の主表面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】 剥離及び洗浄工程で基板への損傷を最小に抑え、低コストで低ダメージ、環境に優しいプロセスを実現することができる対象物処理装置及び方法を提供すること。
【解決手段】 処理対象面を有する対象物に対して、剥離／洗浄／加工のいずれかを含む処理を行うための対象物処理装置に、大気圧または減圧雰囲気で前記対象物を載置するステージ部と、純水を所定値に加圧した加圧温水をノズル部に供給する加圧温水供給部と、処理対象面に対し、加圧温水または加圧温水と薬液との混合物を噴出するノズル部とを設ける。 （もっと読む）

【課題】塗液を塗布してからエッジリンスを行うまでの時間を被処理基板の両主面において一定とすることができる両面塗布装置を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の両主面２ａに同時に塗液を噴出する塗液用ノズルと、塗液の塗布された被処理基板２の両主面２ａの外縁部に付着した塗液を除去するエッジリンス手段４０とを備え、エッジリンス手段４０は、リンス液の収容された容器４１を備えたものであり、容器４１の上面からリンス液の液面が露出されており、回転している被処理基板２の外縁部がリンス液に浸漬される位置に、容器が移動自在に配置されている両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】複数枚の被処理基板に対して塗布した場合であっても、塗布量のばらつきが少なく、塗布量を高精度で制御できる両面塗布装置および塗液の両面塗布方法を提供する。
【解決手段】被処理基板２の厚み方向が水平方向となるように被処理基板２を保持する保持機構３ａと、被処理基板２を周回りに回転させる回転駆動機構と、被処理基板２の両主面２ａに塗液を噴出する塗液用ノズル１８ａと、リンス液を噴出させて塗液用ノズル１８ａを洗浄するヘッドリンス用ノズル１９ａとを備える両面塗布装置１とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、洗浄工程におけるガラス基板へのパーティクルの付着を防止することにより、洗浄後のガラス基板の表面状態のバラツキを低減することが可能な磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することである。
【解決手段】 ガラス基板の洗浄工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程は、洗浄処理と乾燥処理と測定処理を含み、洗浄処理は、洗浄液にガラス基板を浸漬して洗浄する処理であり、乾燥処理は、水よりも沸点の低い水溶性溶剤を主成分とする液体を蒸気にし、蒸気を洗浄したガラス基板に接触させることによって、ガラス基板を乾燥させる処理であり、測定処理は、乾燥処理における液体の電気抵抗値を測定し、電気抵抗値が所定値以下であった場合に、液体に含まれるパーティクルの含有量が許容値を超えていると判定する処理であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨で生じる砥粒や研磨カスの研磨終了後の研磨基板上における残留が少なく、且つ、高い研磨速度を持ち、基板の平滑性も保つことができる研磨液組成物、及び該研磨液組成物を用いる基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】アミノ基及び／又はイミノ基を分子内に２つ以上有する有機窒素化合物、有機多塩基酸、研磨材、及び水を含有してなる研磨液組成物を基板に供給し、研磨パッドを用い基板を研磨する工程を有する、ハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板上でのパターン倒れを防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、洗浄処理部５ａ〜５ｄを有する。洗浄処理部５ａ〜５ｄは、スピンベース２２、チャック回転駆動機構２４、チャンバ３１、真空ポンプ３３、蒸気供給管３４および液体供給ノズル４６を備える。チャンバ３１がスピンベース２２から離間した位置に設定されかつスピンベース２２が回転されている状態で、スピンベース２２上の基板Ｗに液体供給ノズル４６から薬液およびリンス液が供給される。スピンベース２２が停止されかつチャンバ３１がスピンベース２２に密着した位置に設定されている状態で、真空ポンプ３３によりチャンバ３１内が排気されるとともに蒸気供給管３４からチャンバ３１内にＩＰＡの蒸気が供給される。 （もっと読む）

【課題】十分な耐久性、信頼性を有する垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】基体１１０上に、磁気記録層１２２、媒体保護層１２６および潤滑層１２８をこの順に備える垂直磁気記録媒体１００の製造方法において、潤滑剤を塗布した磁気ディスクに、１０ｎｍ以下の押し込み深さによる押し込み硬さ試験を行う押し込み硬さ試験工程と、押し込み硬さ試験によって求められた弾性変形比が５０〜８５％である場合に潤滑剤で潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）