【課題】良好な表面凹凸の精度と耐衝撃性を備えた磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】主表面の粗さが０．０１μｍ以下であり、かつ、磁気ディスク用ガラス基板としての目標平坦度の平坦度を有する板状ガラス素材を作製するプレス成形工程と、少なくとも前記板状ガラス素材の主表面に圧縮応力層を形成させたガラス基板を作製する化学強化工程と、前記ガラス基板の主表面に研磨パッドを押圧させ、前記ガラス基板と研磨パッドとの間に研磨材を含む研磨液を供給しながら、前記ガラス基板と前記研磨パッドとを相対的に移動させて、前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、を有する。さらに、プレス成形工程で作製される板状ガラス素材の板厚を、磁気ディスク用ガラス基板としての目標板厚に対して、前記主表面研磨工程による研磨量の分だけ厚くする。 （もっと読む）

【課題】主表面の表面凹凸を抑制した磁気ディスク用ガラス基板を、効率よく製造する方法及び磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造するとき、溶融ガラスあるいは軟化したガラスをプレス成形することにより、主表面が磁気ディスク用ガラス基板における目標平坦度を有し、主表面の粗さが０．０１μｍ〜１０μｍである表面凹凸と、ヘイズ率が２０％以上の光学特性とを有する板状ガラス素材を成形し、前記表面凹凸および前記表面特性を有する前記板状ガラス素材を、固定砥粒を用いて研削する。その後、前記固定砥粒を用いて研削した前記主表面の表面凹凸を有する前記板状ガラス素材を、遊離砥粒を用いて研磨する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板の上に磁性層を形成する工程と、前記磁性層を部分的に除去し、その面上にＳｉＯ_２からなる非磁性層を形成する工程と、前記磁性層が表出するまで前記非磁性層に研磨加工を施す工程と、を含み、前記研磨加工は、前記非磁性基板を回転させながら、前記非磁性層の表面にセリアスラリーを供給し、走行する研磨テープを前記非磁性層の表面に押し付けることにより行い、前記セリアスラリーは、一次粒子の平均一次粒子径が０．０１μｍ〜１μｍの範囲内であり、平均二次粒子径が０．０５μｍ〜５μｍの範囲内である酸化セリウム粒子を含み、かつ、分散液として水系分散剤または水を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の研磨方法を提供する。
【解決手段】本発明は、（ｉ）（ａ）８以上のモース硬さを有する第１の研磨粒子を５〜４５ｗｔ％、（ｂ）より小さな一次粒子の凝集体を含む三次元構造を有する第２の研磨粒子を１〜４５ｗｔ％、及び（ｃ）シリカを含む第３の研磨粒子を１０〜９０ｗｔ％含む研磨材と、（ｉｉ）液体キャリヤーとを含む、研磨用組成物を提供する。本発明はまた、（ｉ）上記の研磨用組成物を用意する工程、（ｉｉ）表面を有する基板を用意する工程、及び（ｉｉｉ）基板表面の少なくとも一部を研磨用組成物で削って基板を研磨する工程を含む、基板の研磨方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 秩序立った核形成層を有する垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上の下層と、下層の上に設けられ、粒状強磁性Ｃｏ合金とＳｉ、Ｔａ、Ｔｉ、およびＮｂの１つ以上の１つ以上の酸化物との連続層を備える垂直型磁気記録層と、下層と記録層との間に設けられ、記録層のＣｏ合金からなるアレイを備えた核形成層とを備える。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板１の上に磁性層２を形成する工程と、前記磁性層２の上にカーボンマスク層２０を形成する工程と、前記カーボンマスク層２０の上にレジスト剥離層２１を形成する工程と、前記レジスト剥離層２１の上に、前記磁気記録パターンに対応した形状にパターニングされたレジスト層３を形成する工程と、前記レジスト層３をマスクにして前記レジスト剥離層２１、前記カーボンマスク層２０、前記磁性層２を部分的に除去する工程と、前記磁性層２が除去された面上を覆い、少なくとも前記レジスト剥離層２１の一部を埋設する非磁性層４を形成する工程と、前記磁性層２が露出するまで前記非磁性層４に研磨加工を施す工程と、を具備してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化セリウムの粒子径を大粒径化することなく研磨レートの向上、ひいては生産性の向上を実現する、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨スラリーを研磨布と円形ガラス板の間に供給し、研磨布により円形ガラス板の主表面を研磨する研磨工程と、該研磨スラリーが当該研磨工程で使用された研磨スラリーを含むようにするスラリー循環工程とを有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、該研磨スラリーが、メディアン径が０．３〜３μｍである酸化セリウム粒子とアセチレン系界面活性剤とを含有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性を損なうことなく、研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整する研磨パッドのドレス処理と、該ドレス処理で調整した研磨パッドを用いてガラス基板の主平面を研磨するガラス基板の研磨方法及び該研磨方法を用いたガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨パッドの研磨面を所定の平坦度と表面粗さに調整するドレス治具として、ドレス処理を行う表面の算術平均粗さＲａが０．１０μｍ〜２．５μｍのドレス治具を用いる。該ドレス治具を用いてドレス処理した研磨パッドの研磨面でガラス基板の主平面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】最終研磨にコロイダルシリカスラリーを用いる場合、研磨時間に比例して端部のダレ量が増加する傾向が見られるため、最終研磨前のガラス基板のロールオフを小さくしてこの問題を解決する。
【解決手段】円形ガラス板を研磨して磁気ディスク用ガラス基板を製造する方法であって、アミノ基を有する水溶性有機高分子、アミン塩基を有する水溶性有機高分子および第４級アンモニウム塩基を有する水溶性有機高分子からなる群から選ばれる１以上の水溶性有機高分子および平均粒径が０．４〜１．８μｍの酸化セリウム砥粒を含有するスラリーと、研磨布とを用いて円形ガラス板の主表面を研磨する工程を有する。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン転写が可能な紫外線硬化性樹脂材料を得る。
【解決手段】中心孔を有する磁気記録媒体の第１の主面上に第1の凹凸パターンを有する硬化した第1の紫外線硬化性樹脂材料層を形成し、磁気記録媒体の第１の主面とは反対側の第２の主面上に第２の凹凸パターンを有する硬化した第２の紫外線硬化性樹脂材料層を形成する。 （もっと読む）

【課題】メモリ素子の基板の表面にスピンコートによって薄膜を設けるときに前記基板を保持するスピンコート用治具において、薄膜を設ける作業を簡素化することができるものを提供する。
【解決手段】メモリ素子の基板Ｗ１の表面に、スピンコートによって薄膜Ｗ２を設けるときに基板Ｗ１を保持するスピンコート用治具１において、基部３と、複数の係合片５Ａ，５Ｂで構成され、各係合片５Ａ，５Ｂが基板Ｗ１に設けられている貫通孔ｈ１に係合して基板Ｗ１を保持する係合部５と、各係合片５Ａ，５Ｂと基部３との間に設けられている複数の弾性片７Ａ，７Ｂで構成されている弾性部７と、弾性部７を弾性変形させるための外力を受ける外力受け部９とを有する。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、回転する研磨パッド１０１を非磁性基板１の表面に押し付けながら、この非磁性基板１の表面と研磨パッド１０１との間に研磨液Ｓを供給し、非磁性基板を回転又は揺動させることにより行い、研磨液Ｓは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その１次粒子径が１〜１０ｎｍの範囲、その２次粒子径が５０〜１００ｎｍの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 （もっと読む）

【課題】磁性層のパターン形状を精度よく形成できる、歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１に、磁性層２と、炭素により構成される炭素マスク層３と、Ｓｉ、ＳｉＯ_２、Ｔａのいずれかを主として構成される膜厚０．５ｎｍ〜２ｎｍの薄膜１０と、レジスト層４とを順次積層して、前記レジスト層４に前記磁気記録パターンを転写する工程と、前記レジスト層４をマスクにして前記炭素マスク層３を酸素を用いたイオンエッチングによりパターニングする工程と、前記レジスト層４と前記薄膜１０及び前記炭素マスク層３を除去する工程を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法を採用する。 （もっと読む）

【課題】短い洗浄時間にて基板の全面を洗浄することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。
【解決手段】洗浄ヘッド６０の底面には２０個の吐出孔を所定の配列間隔で一列に並べた孔列ＮＲを４列設けている。また、洗浄ヘッド６０の外壁面には圧電素子が貼設されている。洗浄ヘッド６０の内部に洗浄液を供給しつつ、圧電素子により洗浄液に振動を付与することによって、合計８０個の吐出孔６４から直径が一定である洗浄液の液滴を生成して一定速度にて連続して吐出する。洗浄ヘッド６０から液滴を吐出する際には、カバーリンスノズル８０から基板Ｗの上面にカバーリンス液を吐出して液膜を形成しつつ洗浄ヘッド６０を基板Ｗの中心部と端縁部との間でスキャンさせる。８０個の吐出孔６４から液滴を吐出することによって、短い洗浄時間にて基板Ｗの全面を洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】樹脂材料により形成されたハードディスク用の基板において表面精度を確保する。
【解決手段】可動金型と固定金型から構成される成形金型の内部に熱可塑性樹脂を射出し、前記可動金型、前記固定金型の少なくとも一方に装着されたスタンパを用いて磁気記録媒体用基板を製造する磁気記録媒体用基板の製造装置であって、スタンパ３１Ｓ、３２Ｓの表面粗さＲａが１ｎｍ以下であり、可動金型３１の成形面３１Ｓａより固定金型３２の成形面３２Ｓａの方が離型性が高い。 （もっと読む）

【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、非磁性基板１を回転させながら、非磁性基板１の表面にダイヤモンドスラリーＳを供給し、走行する研磨テープ１０５を非磁性基板１の表面に押し付けることにより行い、ダイヤモンドスラリーＳは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その１次粒子径が１〜１０ｎｍの範囲、その２次粒子径が５０〜１００ｎｍの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、高いスループットで精度良く描画する。
【解決手段】 電子線描画装置は、電子光学鏡筒及び試料室を有する本体部、及び主制御装置２５０などを備えている。主制御装置２５０は、制御装置２５１、回転コントローラ２５２、位置コントローラ２５３、同心円演算処理装置２５４、多角形演算処理装置２５５を有している。そして、多角形演算処理装置２５５は、多角形を描画する際の基板の回転数、描画開始位置、多角形の辺の数、及び走査電極の偏向感度に基づいて、偏向周波数を演算する振幅演算調整回路、偏向周波数と同じ周波数の方形波信号から２次関数波信号を生成する第１の信号処理回路、及び２次関数波信号における基板の半径方向の外向きの偏向成分を折り返し、半径方向の内向きの偏向成分と加算して、同心円生成信号に重畳する第２の信号処理回路を有している。 （もっと読む）

【課題】所望の表面粗さに修正処理された固定砥粒シートを用いて、バッチ間で板厚のばらつきが小さくなるように研削加工を行うことができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、固定砥粒を有するシートを用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面の平坦度を調整する表面研削工程を備えた磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記表面研削工程において、ジルコニアを含有する遊離砥粒を含む研磨液及び鋳鉄製リングを用いて修正した前記シートを用いて表面研削を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドへの汚染物質や腐食物の付着を防止することができる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に少なくとも磁性層２、保護層３、潤滑剤層４を備える磁気記録媒体１１であって、前記潤滑剤層は、ベンゼン環の水素原子と、２以上の水酸基を末端に有するパーフルオロエーテル基と、を２以上置換した化合物を含有するとともに、前記磁気記録媒体を２０００ｒｐｍ以上で回転させてオクタメチルシクロテトラシロキサンを含む空気に大気圧で８時間曝露した後の、当該磁気記録媒体の表面のシロキサンの付着量が、曝露する前の付着量の４倍以下となるように設けられていることを特徴とする磁気記録媒体を採用する。 （もっと読む）

【課題】プレス時にガラスがプレス面に融着するのを抑制し、厚み／直径のより小さい形ガラスブランクを作製すること。
【解決手段】表面温度が下式１、２を満たす下型プレス面中央に、軟化状態のガラスを供給し上型と下型でプレスする工程を経てガラスブランクを製造する方法。これに用いる下型およびプレス装置、ならびに、これを用いた情報記録媒体用基板および情報記録媒体製造方法。
・式１ Ｔｇ−２００≦Ｔｃ＜Ｔｅ≦Ｔｇ＋５０
・式２ １．５≦ΔＴ≦６
式中、Ｔｃはガラスブランクの中心点に対応する位置のプレス面におけるプレス成型直前の温度（℃）、Ｔｅはガラスブランクの最外周に対応する位置のプレス面におけるプレス成型直前の温度（℃）、Ｔｇはガラスのガラス転位温度（℃）、ΔＴはプレス成型直前のプレス面の温度勾配（℃／ｍｍ）を表す。 （もっと読む）