【課題】生産性を損なうことなく、研磨後の基板表面のスクラッチやうねりを低減できる研磨液組成物、並びにこれを用いた基板の製造及び研磨方法の提供。
【解決手段】研磨材、水溶性重合体、及び水を含有する研磨液組成物であって、前記水溶性重合体が、スルホン酸基を有し、主鎖及び側鎖のそれぞれに芳香族環を有する研磨液組成物。前記研磨液組成物を被研磨基板の研磨対象面に供給し、前記研磨対象面に研磨パッドを接触させ、前記研磨パッド及び／又は前記被研磨基板を動かして研磨する工程を含む、基板の製造方法及び研磨方法。 （もっと読む）

【課題】研磨工程において、ガラス基板の微小うねりを悪化させることなく高精度に制御でき、かつガラス基板へのダメージ傷の付着が抑制可能なハードディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】研磨スラリー粒子を含む研磨スラリーを用いてガラス基板表面の研磨を行う研磨工程を含むハードディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記研磨工程において、前記研磨スラリー粒子の実効粒子径を経時的に変化させる処理を用いることを特徴とするハードディスク用ガラス基板の製造方法。前記処理は、前記研磨スラリー粒子の表面電位を経時的に変化させる手段により行うことが好適である。また、前記手段は、交流電流を前記研磨スラリー粒子へ印加することが好適である。また、前記手段は、前記研磨スラリーのｐＨを変化させることが好適である。また、前記手段が、交流電流を前記研磨スラリー粒子へ印加すること、かつ、前記研磨スラリーのｐＨを変化させることが好適である。 （もっと読む）

【課題】砥粒に対する洗浄性が非常に高く、かつ、基板への残留が極めて少ない電子材料用洗浄剤、および電子材料の製造方法を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるフェノール系化合物（Ａ）またはこの塩を０．０１〜１０重量％と水を必須成分として含有し、１重量％水溶液の２５℃における表面張力が５０ｍＮ／ｍ以下である界面活性剤（Ｂ）の含有量が０．０１重量％未満である電子材料用洗浄剤。


［式中、Ｘ^１〜Ｘ^５はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、カルボキシル基またはアミノ基を表す。］ （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用基板を研磨する用途での使用により適した研磨用組成物を提供する。
【解決手段】研磨用組成物は、コロイダルシリカのような砥粒と、クエン酸やオルトリン酸のような酸と、過酸化水素のような酸化剤と、ベンゾトリアゾールのようなアゾール類及びその誘導体から選ばれる化合物とを含有してなる。研磨用組成物は、磁気ディスク用基板を研磨する用途で好適に使用される。 （もっと読む）

【課題】循環耐久性に優れ、高研磨速度と低表面粗さを両立できる、ガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】研磨材、酸、ベンゼン環上に互いに隣接する２個以上の水酸基を有する多価ヒドロキシベンゼン化合物、及び水を含有し、ｐＨ１．０〜４．０である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０．１〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂およびＰ₂Ｏ₅の少なくとも１種を３０質量％以上含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が０〜０．１質量％であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１０〜１６質量％であるガラス組成を有し、該表層は、ＳｉＯ₂を４０〜７０質量％含み、かつＬｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ、およびＫ₂Ｏからなる特定アルカリ成分の合計量が１〜９．９質量％であるガラス組成を有し、内層の特定アルカリ成分の合計量と表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、０．１質量％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】研磨速度が高く、精密研磨に適した研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルは動的光散乱法により測定される平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にある非球状シリカ微粒子を分散媒に分散してなり、固形分濃度が１０〜６０重量％であって、２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定時のケミカルシフト−７３〜−１２０ｐｐｍのピーク面積におけるＱ４の面積が８８％以上、Ｑ３の面積が１１％以下である。但し、前記ケミカルシフトは、テトラメチルシランを基準物質とし、Ｑ４は−１００〜−１２０ｐｐｍの範囲のピークであり、Ｑ３は−８２〜−１００ｐｐｍの範囲のピークである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平行度に優れる磁気記録媒体用ガラス基板の提供を目的とする。
【解決手段】ガラス基板を研磨する前の両面研磨装置の上定盤の研磨面と下定盤の研磨面の形状を、内周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｉｎとし、外周端における上定盤の研磨面と下定盤の研磨面との距離をＤｏｕｔとしたとき、ＤｏｕｔからＤｉｎを引いたΔＤ（＝Ｄｏｕｔ−Ｄｉｎ）を−３０μｍ〜＋２３μｍとしてガラス基板を研磨する工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により、レーザ干渉計を用いて測定する磁気記録媒体用ガラス基板の少なくとも記録再生領域における前記両主平面の平行度が２．８μｍ以下である磁気記録媒体用ガラス基板を提供できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は研磨パッドの全面に研磨用液を安定供給することを課題とする。
【解決手段】研磨用液供給装置１００は、研磨用液を貯留する液貯留部１１０と、液貯留部１１０に研磨用液を補給する液補給部１２０と、両面研磨装置２００の上定盤２０１と下定盤２０２との間に研磨用液を供給する複数の液供給チューブ１３０とを有する。液貯留部１１０は、環状に形成された多重溝１４０と、多重溝１４０を支持する支持部材１６０とを有する。多重溝１４０は、内側溝部材１４２と、外側溝部材１４４とが同心円状に配されている。内側溝部材１４２及び外側溝部材１４４は、複数の液供給チューブ１３０を通して上定盤２０１に保持された上側研磨パッド３３０に連通される。 （もっと読む）

【課題】研磨時の被鏡面研磨面のスクラッチ・パーティクル等の欠陥が少なく、かつ、被鏡面研磨面の表面粗さが小さくなる安定した研磨特性が得られる仕上げ用研磨パッドを提供する。
【解決手段】異なる２種以上の層からなる研磨シート（ａ）とクッション層（ｂ）からなる研磨パッドであって、前記研磨シート（ａ）の表層が湿式凝固法で得られるポリウレタンを主成分とする多孔質ポリウレタン層（ｃ）であり、その他の層のいずれかが圧縮弾性率が０．０８ＭＰa以上０．２５ＭＰａ以下の発泡プラスチック層（ｄ）からなる研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】不活性ガスの使用量を抑え、コスト低減を図ることができる磁気記録媒体の製造装置を提供する。
【解決手段】外側チャンバ１と、外側チャンバ１内に設けられて磁気記録媒体５０に紫外線を照射する光源２と、外側チャンバ２内に設けられて磁気記録媒体５０を収容する内側チャンバ３と、内側チャンバ３内に不活性ガスを供給する供給経路４と、内側チャンバ３内の不活性ガスを排出する排出経路５とを備えた紫外線照射装置１０を備えた製造装置。 （もっと読む）

【課題】被処理面にスクラッチや異物を発生させずに異物を除去することのできる機能を持ち、且つ安定したクリーニング特性を有するワイピングフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材１と、基材１上に配置された凹凸を有する下地層２と、凹凸を有する下地層２上に配置されたコーティング層３とコーティング層３内に分散する研磨粒子４とを含む表面層５とを備えるワイピングフィルムである。 （もっと読む）

【課題】研磨後の被研磨物の表面粗さ及びパーティクルを低減できる研磨液組成物の製造方法。
【解決手段】一次粒子の平均粒子径が１〜１００ｎｍのコロイダルシリカを含有する被処理シリカ分散液を、ろ過助剤を含むフィルターでろ過処理する工程を有する研磨液組成物の製造方法であって、前記ろ過助剤は水銀圧入法による平均細孔径が０．１〜３．５μｍである、研磨液組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れた情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス素板の表面を、研磨剤を用いて研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後に、研磨されたガラス素板の表面を、化学強化処理液を用いて強化する化学強化工程とを備え、前記ガラス素板として、そのガラス組成が、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３とＢ_２Ｏ_３との合計、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏとの合計、ＭｇＯとＣａＯとＢａＯとＳｒＯとＺｎＯとの合計がそれぞれ所定量であるものを用い、前記研磨剤として、希土類酸化物を含み、ＣｅＯ_２の含有量が、前記希土類酸化物の含有量に対して９９〜９９．９９９９質量％であり、アルカリ土類金属の含有量が、前記研磨剤全量に対して１０ｐｐｍ以下であるものを用いる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】従来の極細繊維からなる研磨布ではなし得なかった、極細繊維束が均一に分散した緻密化な表面状態と、優れた平滑性を有する高性能研磨布を提供する。
【解決手段】研磨布は、平均単繊維直径が０．０５〜２．０μｍの極細繊維が収束してなる極細繊維束が絡合してなる不織布と高分子弾性体から構成される研磨布であって、前記不織布の前記極細繊維束が構成する表面繊維立毛部分の前記極細繊維束の幅方向の平均サイズが５０〜１８０μｍである。 （もっと読む）

【課題】超臨界状態を実現するために必要な圧力よりも低い圧力環境下で、基板Ｗに設けられたパターンを倒壊させることなく基板Ｗを乾燥できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】乾燥処理ユニット３０は、主に、乾燥処理チャンバ３１、二酸化炭素供給機構３２、第１窒素供給機構３３、液体窒素供給機構３４、第２窒素供給機構４４、及び排出機構３５を備える。置換液であるＩＰＡ液で覆われた基板Ｗが乾燥処理チャンバ３１内に保持された状態で、液体二酸化炭素が基板Ｗの表面を覆う。乾燥処理チャンバ３１内が、液体窒素供給機構３４により冷却されることで液体二酸化炭素は固体二酸化炭素へと凝固する。そして排出機構３５により、乾燥処理チャンバ３１内を大気圧に戻すとともに、第１窒素供給機構３３が気体窒素を供給することで昇温され、基板Ｗ表面の液体は昇華する。 （もっと読む）

【課題】
磁気ディスク検査において、カセットから取り出した磁気ディスクの両面を検査し、検査結果に応じたグレード分けをして再びカセットに戻すまでのトータルをスループットを高い状態を維持しつつ、低発塵環境の中で実施することを可能にする。
【解決手段】
カセットに収納された複数の未検査の基板をカセットから取出し、このカセットから取出した複数の基板を磁気ディスク検査装置の複数の基板取出・供給位置で複数の回転駆動部に載置し複数の検査位置に搬送し、この複数の基板を複数の回転駆動部で回転させながら光を照射して光学的に検査し、光学的な検査を終了した複数の基板を複数の基板取出・供給位置に搬送し、この搬送された複数の基板を取出し、この取出した複数の基板を検査が終了した基板を収納するカセットに光学的な検査の結果に応じて分別して収納するようにした。 （もっと読む）

【課題】凹凸形状が形成された基板を作製する。
【解決手段】高周波電源２１から、基板１６及び基板ホルダ１２の少なくとも一方に対して高周波電圧を印加する。供給材料膜１５から基板１６へ供給材料を供給し、基板表面の下地材料上に供給材料による凸部を形成する。供給材料膜１５は、基板１６の表面へ供給材料を直接入射させることができない位置に配置されている。基板１６の表面の下地材料の常温における表面エネルギーγ_ｓｕｂと、供給材料の融点における表面エネルギーγ_ｓｐとは、γ_ｓｕｂ−γ_ｓｐ＞０の関係にある。 （もっと読む）

【課題】パターンの形状ラフネスを増加させることなく、パターンを転写することを可能にする。
【解決手段】基板上にハードマスクを形成する工程と、ハードマスク上にマスク補助材を形成する工程と、マスク補助材上に海島構造を有するジブロックコポリマー層を形成する工程と、ジブロックコポリマー層に前記海島構造の島部が凸部となる凹凸状構造のパターンを形成する工程と、ジブロックコポリマー層に形成されたパターンをマスクとしてマスク補助材およびハードマスクをエッチングし、ハードマスクにパターンを転写する工程と、を備え、マスク補助材はエッチング速度が、ハードマスクのエッチング速度より大きく、ジブロックコポリマーの海島構造の海の部分のエッチング速度より小さい材料である。 （もっと読む）