【課題】中心部に円孔を有する磁気記録媒体用基板を複数枚重ねて、それらの内周端面を研磨するときに、それら複数枚の基板の研磨部分に適切に研磨液を供給する。
【解決手段】中心部に円孔を有する磁気記録媒体用基板１２は複数枚重ねて保持され、その円孔を形成する基板１２の内周端面１２ｉをまとめて研磨するように、重ねられた複数枚の基板１２により少なくとも部分的に区画形成された中央孔ＣＨに共通の研磨ブラシ１８が挿入される。研磨ブラシ１８が基板１２の内周端面１２ｉに接触させられつつ相対運動させられるとき、中央孔ＣＨにはその鉛直方向下方からその上方に向けて研磨液が流れるように、研磨液供給手段２０によって研磨液が供給される。 （もっと読む）

【課題】スペーシングロスを小さくして良好な磁気記録再生特性を発揮することができる磁気記録媒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に、柱状の磁性粒子間に非磁性の粒界部を有するグラニュラ構造の磁気記録層と、前記磁気記録層上に設けられ、前記磁性粒子同士を交換結合させる作用を付与するための交換結合層とを具備する磁気記録媒体を製造するものであって、前記磁気記録層上に交換結合層を積層した後、前記交換結合層の全面に対してイオン照射を行うイオン照射工程を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【解決課題】 加工プロセスや磁気記録層の成膜プロセスを複雑なものとすることがなく、表面平坦性に優れ、しかも熱伝導率が単結晶や多結晶のバルク基板と変わらない磁気記録媒体用Ｓｉ基板を提供する。
【解決手段】 粗研磨（Ｓ６）後の多結晶シリコン基板表面に金属膜を成膜し（Ｓ７）、シリサイド化もしくはシリコン合金化した後（Ｓ８）、該膜をＣＭＰ研磨等の精密研磨（Ｓ９）して基板の平坦性を高めることとした。これにより、多結晶粒の結晶方位の違いや結晶粒界の存在には影響を受けずに平坦で平滑な表面を得ることができ、かつバルクＳｉ基板とほぼ同等な耐熱性と熱伝導率を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク全面にわたって均一なバニッシュ処理が行える磁気ディスクバニッシュ装置を提供する。
【解決手段】回転している磁気ディスク３０表面にバニッシュテープ２４を押し当てて磁気ディスク３０表面をバニッシュ処理する磁気ディスクバニッシュ装置４０において、装着部２１に装着された磁気ディスク３０を回転させる回転手段と、バニッシュテープ２４を磁気ディスクの表面上で走行させるテープ走行手段２８と、バニッシュテープ２４を所定の押圧力で磁気ディスク表面に押圧する押圧手段４２と、バニッシュテープ２４の走行方向に対して直交する方向にバニッシュテープ２４を移動させて磁気ディスクの全面をバニッシュ処理するテープ移動手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ダブオフが小さいガラス基板を生産性高く製造できるガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】記録ディスク用のガラス基板の製造方法であって、ガラス板から円板状のガラス基板を成形するガラス基板成形工程と、粒径が０．１〜０．８μｍの大径研磨砥粒を含む研磨液と硬質研磨パッドとを用いて前記成形したガラス基板を研磨する粗研磨工程と、粒径が０．０１〜０．１μｍの小径研磨砥粒を含む研磨液と軟質研磨パッドとを用いて前記研磨したガラス基板をさらに研磨する精密研磨工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】磁性層のエッチングに使用した磁性層上のエッチングレジストを、磁性層の磁気特性を劣化させること無く完全剥離する工程を含むパターン化磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層のエッチングに用いたエッチングレジストの剥離工程が、磁性層または保護層上のエッチングレジストに、減圧下にエキシマＶＵＶレーザを照射する工程、および磁性層または保護層上に残存するレジストをレジスト剥離剤溶液に浸漬して洗浄除去する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造方法が簡便であり、かつ、良好な記録再生特性を示すパターン型磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】強磁性結晶粒子と酸化物からなる結晶粒界で構成された第一磁気記録層２４と酸化物を含まない第二磁気記録層２６を有する磁気記録媒体の第二磁気記録層２６の前駆層に、イオン注入法を用い、強磁性元素のイオンを注入することで、イオン注入部位の強磁性元素の原子含有率を増加させる。この方法により、第二磁気記録層２６において磁気記録領域となる強磁性元素の原子含有率の相対的に大きい領域４０と相対的に小さい領域４２とが基板面内方向に周期的に存在するパターン型磁気記録媒体を作製する。イオン注入に伴うイオン注入部の体積増加のため、強磁性元素の原子含有率の相対的に大きい領域４０表面の基板表面からの距離は、強磁性元素の原子含有率の相対的に小さい領域４２表面のそれと比較して大きくなる。 （もっと読む）

【課題】凹凸のある表面を有するガラス基材の製造方法において、圧子に用いる材料の自由度を広げる。
【解決手段】ガラス基材の表面の所定領域を押圧し、前記押圧した所定領域を含む領域をエッチングすることにより、前記所定領域と前記所定領域を除く領域とにおけるエッチング速度の相違を利用して前記表面に凹凸を形成する、凹凸のある表面を有するガラス基材の製造方法であって、前記ガラス基材と同等以下のモース硬度を有する材料を先端部に用いた圧子を用い、前記先端部を前記表面に押し付けながら、前記先端部が前記表面に及ぼす剪断力および押圧力が前記エッチング速度の相違を生じせしめるのに足りる大きさとなるように剪断力が発生する相対速度により、前記圧子を前記ガラス基材に対して移動させることを含む、ガラス基材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の微小うねりを低減できる基板の製造方法、研磨方法、及び微小うねり低減方法を提供する。
【解決手段】研磨材と水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法であって、前記研磨材が、式（１６）：σ＞０．９０６７×ｒ＋０．５８８（１６）（式中、ｒは個数基準の平均粒子径（ｎｍ）、σは個数基準の標準偏差（ｎｍ）を示す）で表される粒径分布の研磨材（第１成分）と第１成分とは平均粒子径及び／又は標準偏差が１０％以上異なる他の研磨材（第２成分）とを含む、メモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】記録再生ヘッドの浮上性を確保しつつ、ヘッド位置決め精度がよく、ＳＮ比が良好で、高温多湿環境下でも高い信頼性を示す磁気記録媒体を製造できる方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁気記録層を成膜し、前記磁気記録層の記録部に対応する領域にマスクを形成し、前記マスクに覆われていない領域の磁気記録層の一部をエッチングガスによりエッチングして磁気記録層に凹凸を形成し、凹部に残存する磁気記録層をＮｅガスにより改質して非記録部を形成し、全面に保護膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 メモリーハードディスクの仕上げ研磨や半導体素子の研磨用として、研磨後の被研磨物の表面粗さが小さく、かつ突起やスクラッチ、特にマイクロマックスで観察されるようなナノスクラッチや幅が１０〜５０μｍと非常に広く、深さが５ｎｍ以下の浅い幅広スクラッチを顕著に低減し、しかも効率的な研磨が可能な基板の製造方法、研磨方法、及びスクラッチの低減方法を提供すること。
【解決手段】 研磨材、酸化剤、酸及び／又はその塩、及び水を含有してなる研磨液組成物と、少なくともベース層と発泡した表面層とを有するスエードタイプであって、平均気孔径が１〜２５μｍで、気孔径の最大値が６０μｍ以下のポリウレタン製の表面部材を有する研磨パッドを用いるメモリーハードディスク用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品質の特性を備えると共に、表面欠陥のないアルミニウム合金基板を製造することができる磁気ディスク用アルミニウム合金基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム合金板を円板状に打ち抜いて、ディスクブランクを作製する打ち抜き工程（Ｓ１）と、打ち抜き工程（Ｓ１）で作製したディスクブランクの表面の異物を除去する異物除去工程（Ｓ３）と、異物除去工程（Ｓ３）で異物を除去したディスクブランクを乾燥させる乾燥工程（Ｓ４）と、を含み、異物除去工程（Ｓ３）は、ディスクブランクの表面に高圧水を噴射して、ディスクブランクの表面を洗浄することを特徴とする。また、必要に応じて、打ち抜き工程（Ｓ１）の後に、打ち抜き工程（Ｓ１）で作製したディスクブランクの表面を、湿式ブラスト、または、ショットブラストするブラスト工程（Ｓ２）を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に磁性層を成膜したのちに磁気パターンを形成する磁気記録媒体の製造方法において、不良品の発生が少なく、製造コストの低い方法を提供する。
【解決手段】磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法において、中央に開口部を有する基板に磁性層を形成する工程、磁性層に樹脂膜を塗布する工程、凹凸形状のパターンが形成されたフィルム状のモールドを基板に押しあてる工程、モールドの凹凸パターンを樹脂膜に転写する工程、基板からモールドを剥離する工程、転写した凹凸パターンを用いて磁性層に磁気記録パターンを形成する工程をこの順で行う。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程ＰＲ１と、研磨工程ＰＲ１の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程ＰＲ２と、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程ＰＲ３とを有し、スクラブ洗浄工程ＰＲ２の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。 （もっと読む）

【課題】磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁気的に分離した磁気記録パターンを有する磁気記録媒体の製造方法である。その方法は非磁性基板上に酸化物を０．５原子％〜６原子％の範囲内で含む磁性層を形成する。この磁性層の磁気的に分離する領域を反応性プラズマもしくは反応性イオンにさらす。これによって形成された非磁性化領域で磁性層を分離する方法である。 （もっと読む）

【課題】平坦性が良好で、サーボデータの正常な読み出しが可能な情報記録媒体を提供する。
【解決手段】凹凸パターン２０ｔ，２０ｓ（データトラックパターンおよびサーボパターン）は、凹凸パターン２０ｔと同心の複数の環状領域Ａｚ，Ａ１〜Ａ４に区分けされると共に、単位凸部長および単位凹部長が環状領域Ａ内において中心Ｏからの距離に比例してその内周側から外周側に向かうほど長くなり、かつ、単位凸部長の各環状領域Ａ内における平均長を中心Ｏからその環状領域Ａまでの距離で除した値と、単位凹部長の各環状領域Ａ内における平均長を中心Ｏからその環状領域Ａまでの距離で除した値とが外周側の環状領域Ａほど小さくなるように各環状領域Ａ毎に単位凸部長および単位凹部長が規定されると共に、各環状領域Ａ１〜Ａ４は、基材の半径方向に沿った長さＬ１〜Ｌ４が外周側の環状領域Ａほど長くなるように規定されている。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録用ハードディスクに使用する研磨布であって、従来の研磨布では実現できなかった電波変換特性の高いハードディスクに使用する織物からなる研磨布を提供する。
【解決手段】数平均による単繊維繊度が１×１０-8〜４×１０-4ｄｔｅｘである熱可塑性ポリマーからなる極細繊維が凝集した繊維束を一部に有する織物からなり、径糸が繊維束の撚糸の撚角度が１０度以上７０度以下であり、縦糸が繊維束の撚糸の撚角度が２０度以上８０度以下である研磨布。 （もっと読む）

【課題】試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。
【解決手段】基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、位置コントローラ７４からは偏差情報が位置補正制御回路７２へ出力される。位置補正制御回路７２は、主として回転テーブルユニット３０を構成する回転機構３２の駆動に起因する回転同期振動成分と、スライドユニット３３によって移動ステージが移動されることに起因する振動成分とが除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することによって、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。これにより、電子線描画装置１００が載置された床面など、装置の外部から伝わる振動に基づく電子線の照射位置の変動分を効率的に補正することができ、結果的に、基板Ｗに精度よくパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】記録再生特性を低下させることなく、コロージョンの発生を抑制できるディスクリートトラック型の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】サーボ信号および記録トラックに相当する磁性体のパターンを含む記録部と、前記記録部間に形成された前記磁性体の酸化物を含む非記録部と、前記記録部および非記録部の表面に形成された保護膜とを有し、前記記録部上の保護膜の膜厚が前記非記録部上の保護膜の膜厚よりも厚いことを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 磁気ディスクのグライドハイトテスト中に発生するグライドヘッドのノイズレ
ベルを上昇させる潤滑剤の突起検出部流出端付着を抑制する。
【解決手段】 グライドヘッドスライダーの正の浮上圧力を発生させる浮上レールもしく
は突起検出レールの流出端を、浮上レール面に対し８０°以上９０°未満の角度で面取り
し、面取り深さを１０μｍ以上とすることにより、潤滑剤の突起検出部流出端付着を抑制
し、検査できる磁気ディスク枚数を上げる事ができる。 （もっと読む）