説明

Fターム[5D112GA22]の内容

Fターム[5D112GA22]に分類される特許

1 - 20 / 66


【課題】 磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】 磁気記録媒体は、垂直磁気記録層、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むRu非磁性下地層、及び非磁性基板を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも1つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びBからなる群から選択される少なくとも1種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 (もっと読む)


【課題】 パターンド媒体における磁性ドットごとの反転磁界のばらつきを低減することで、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 磁気記録媒体は、基板、基板上に形成された補助層、補助層上に形成された少なくとも一層の垂直磁気記録層を含む。垂直磁気記録層は、磁性ドットパターンを有する。垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち1つの元素と、プラチナ及びパラジウムのうち1つの元素とを含有する合金材料からなる。また、この合金材料はL1構造を有し、(001)面配向している。補助層は、磁性ドットパターンで覆われたドット状の第1の領域と、磁性ドットパターンで覆われていない第2の領域を有する。第1の領域は、(100)面配向したニッケル及び鉄のうち1つの金属からなる。第2の領域は、第1の領域に用いられた金属の酸化物を含有する。 (もっと読む)


【課題】保護膜の膜厚を薄くしつつ、耐久性および耐食性を向上させると同時に潤滑膜に対する保護膜表面の結合力を増加させる。さらに、該保護膜を備えた良好な電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のための保護膜であって、該保護膜がフッ素と窒素とを含んでいることを特徴とする保護膜である。磁気記録媒体のための保護膜を製造する方法であって、基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に該保護膜を形成する工程と、フッ素含有ガスおよび窒素含有ガス中で該保護膜をプラズマ処理する工程とを含むことを特徴とする方法である。 (もっと読む)


【課題】トラック間の磁気的な相互干渉を低減し、かつ記録密度を向上させるために、複合磁気記録層に設けた凹凸形状における凸部を、連続膜で設計した垂直磁気記録層と同等の膜厚で同等の垂直磁気記録特性を示すように高品質に形成されるディスクリートトラックメディア型垂直磁気記録媒体の製造方法を提供すること。
【解決手段】非磁性基体1上に少なくとも磁気記録層5と犠牲層とカーボン保護層6とをこの順に積層する第1工程と、記録トラックとなる凸部を形成するように同心円状に形成したレジスト膜パターンをマスクとして開口部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6を除去して凹部を形成する第2工程と、該凹部に露出する前記犠牲層と磁気記録層5とを非磁性化する第3工程と、前記凹部に挟まれる前記凸部の前記レジスト膜と前記カーボン保護層6と前記犠牲層を除去する第4工程と、前記凹部と前記凸部の上にカーボン保護層6と潤滑層7をこの順に被着する第5工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】複数のチャンバと、複数のチャンバ内で非磁性基板を保持するキャリアと、キャリアを複数のチャンバの間で順次搬送させる搬送機構とを備えたインライン式成膜装置を用いて、非磁性基板80の少なくとも一方の面上に形成された磁性層83に、磁気的に分離された磁気記録パターン83aが形成されてなる磁気記録媒体を製造する際に、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行うと共に、保護層84を形成する前に、磁性層83の表面を水素プラズマに曝し、この磁性層83の表面に形成された酸化膜を還元除去する。 (もっと読む)


【課題】複数のワークピースの両面に、同時に、プラズマプロセスを行う必要がある。
【解決手段】プラズマ処理システムのプロセス空間の内側に、同時に複数のワークピースを支持する装置及び方法により解決する。装置は、プロセス空間の内部に支持されるべく構成されたキャリアプレートを有し、キャリアプレートの厚みを貫通する複数の第1の開口部を有する取付具である。キャリアプレートは、外側周辺縁部にて環状領域に載せてそれぞれのワークピースに接触すべく構成され、ワークピースの第1及び第2の面は、前記複数の第1の開口部のそれぞれ1つを通してプラズマに暴露される。 (もっと読む)


【課題】薄膜化してもコロージョン耐性、機械的耐久性、潤滑層との密着性、ヘッドの浮上安定性に優れた保護層を備えた磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と炭素系保護層と潤滑層が順次設けられた磁気記録媒体の製造方法であって、前記炭素系保護層は、前記磁性層側に形成される下層と、前記潤滑層側に形成される上層とを備え、炭化水素系ガスを用いて化学気相成長(CVD)法で前記下層を形成し、次いで、炭化水素系ガスと窒素ガスの混合ガスを用いて前記上層を形成した後、該上層の表面を窒素化する処理を施す。 (もっと読む)


【課題】さらなる薄膜化に耐え得る高い機械的強度と、潤滑層との高い親和性を有する保護層を備えた磁気ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】基板10上に磁性層50と保護層60と潤滑層70を順に備える磁気ディスクであって、基板10上に磁性層50と保護層60を順に形成した後、前記保護層60を常圧下でのプラズマに曝し、しかる後、前記保護層60上に前記潤滑層70を形成する。上記プラズマは、窒素ガス、アルゴンガス、酸素ガス、フッ素系炭化水素ガスから選ばれる少なくとも1種のガス中で発生させたプラズマである。また、前記保護層60は水素化炭素系保護層である。 (もっと読む)


【課題】還元・窒化に要する時間を短縮し、磁気特性に優れた窒化鉄系磁性微粒子を効率良く製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の窒化鉄系磁性微粒子の製造方法では、まず、酸化鉄微粒子を用意する(第1工程)。次に、水素を含むプラズマによって前記酸化鉄微粒子に対する還元処理を行い、前記酸化鉄微粒子からα−Fe金属微粒子を形成する(第2工程)。更に、窒素を含むプラズマによってα−Fe金属微粒子に対する窒化処理を行い、α−Fe金属微粒子からFe162化合物微粒子を形成する(第3工程)。第2工程と第3工程との間において前記α−Fe金属微粒子を大気に暴露しない、窒化鉄系磁性微粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行う際に処理ムラが生じることを防止したインライン式成膜装置を提供する。
【解決手段】キャリアは、基板を内側に配置する孔部29が設けられたホルダ27と、ホルダ27の孔部29の周囲に弾性変形可能に取り付けられた複数の支持部材30とを備え、複数の支持部材30に基板の外周部を当接させながら、これら支持部材30の内側に嵌め込まれた基板を着脱自在に保持することが可能であり、キャリアに保持された基板に対して反応性プラズマ処理又はイオン照射処理を行うチャンバ内において、ホルダ27が接地されると共に、複数の支持部材30の内側には、外径が100mm以下である円盤状の基板が嵌め込まれ、なお且つ、この基板とホルダ27の孔部29との間に形成される隙間Sが、半径方向に少なくとも11mm以上ある。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層からのCoの溶出を抑制するとともに、膜厚が3nm以下の、磁気記録媒体用保護層の形成方法を提供することにある。
【解決手段】(1)基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に、炭化水素ガスを原料として用いるプラズマCVD法によって保護膜を形成する工程であって、上記炭化水素ガスの流量が50sccm以上200sccm以下であり、放電電流が0.1A以上0.3A以下である、保護膜の形成工程と、(2)工程(1)で形成した保護膜の表面処理工程であって、(2a)アルゴンガス中でのプラズマ処理、及び(2b)窒素ガスを含むガス中でのプラズマ処理を含む表面処理工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体用保護膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】耐環境性、特に耐腐食性を高めることを可能とした磁気記録媒体の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】インライン式成膜装置を用いて、少なくとも非磁性基板の面上に形成された記録磁性層に磁気記録パターンを有する磁気記録媒体を製造する際に、少なくとも記録磁性層83と磁気記録パターン83aに対応したマスク層とがこの順で積層された非磁性基板80をキャリアに取り付ける工程と、記録磁性層83のマスク層で覆われていない箇所を反応性プラズマ処理又はイオン照射処理することにより、磁気記録パターン83aを形成する工程と、記録磁性層83上からマスク層を除去する工程と、キャリアから非磁性基板80を取り外す工程とを含み、キャリアが各チャンバの間を通過する間に、各チャンバ内を減圧雰囲気とし、大気と遮断された状態で各工程を連続して行う。 (もっと読む)


【課題】FeやCoを含有する材料を容易に腐食させない磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板10上に磁性層30を形成する工程と、磁性層30に凹部65を形成する工程と、凹部65の露出面を覆うように耐食性膜60を形成する工程と、耐食性膜60に覆われた凹部65を埋めるように非磁性層40を形成して、磁気的に分離された磁性層からなる磁気記録パターンを形成する工程と、を有する磁気記録媒体122の製造方法を用いることにより、上記課題を解決できる。 (もっと読む)


基板上の磁気薄膜をパターン化する方法であって、磁気薄膜の周りにパターンを設けるステップを含み、そのパターンの選択領域は、1つまたは複数の元素の高エネルギーイオンを通すことができる。高エネルギーイオンは、選択領域および選択領域に近接した磁気薄膜の一部に侵入するのに十分なエネルギーを持った状態で生成される。基板は、高エネルギーイオンを受け取るように配置される。磁気薄膜の部分は、熱励起することができる。磁気薄膜の部分は、選択された他の部分と異なる磁気特性を示す。両面に磁気薄膜を持った磁気媒体をパターン化する方法も開示される。
(もっと読む)


【課題】十分な記録再生特性を確保でき、高記録密度に対応可能であって、特に書き込み特性に優れた磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】磁気的に互いに分離された複数の磁気記録パターン2が備えられている磁気記録媒体1であって、各磁気記録パターン2が、低保磁力領域2aと、低保磁力領域2aよりも保磁力の高い高保磁力領域2bとを備えたものであり、平面視で低保磁力領域2aの中央部に高保磁力領域2bが配置されている磁気記録媒体1とする。 (もっと読む)


【課題】潤滑膜との良好な結合を達成し、同時にコンタミネーションガスの吸着を抑制して、薄膜化を可能とする磁気記録媒体用の保護膜の形成方法の提供。
【解決手段】(1)基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に、炭化水素ガスを原料として用いるプラズマCVD法によって保護膜を形成する工程と;(2)工程(1)で形成した保護膜の表面処理工程であって、(2a)アルゴンガス中でのプラズマ処理と、(2b)少なくとも窒素ガスを含むガス中でのプラズマ処理とを含む表面処理工程とを含むことを特徴とする磁気記録媒体用保護膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体及びその製造方法において、表面が平滑な磁気記録媒体を安価、且つ、容易に形成可能とすることを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体は、金属層と磁性材料で形成され前記金属層上に設けられた記録層を備え、記録層が分断されている箇所で露出している金属層は酸化により金属酸化物となっており、磁気記録媒体の媒体表面は酸化により膨張した前記金属酸化物の上面を媒体表面に合わせることで平坦化されている。 (もっと読む)


【課題】イオンミリングによって磁気記録層を有する基板表面が消失することなく、かつ大気の影響を受けずに磁気記録媒体を製造する。
【解決手段】磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入した後、該イオンビーム注入後の磁気記録層を有する基板の表面をアッシングにより除去して磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体製造装置10であって、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板にイオンビームを注入するイオン注入室20と、レジスト膜またはメタルマスクが塗布された磁気記録層を有する基板のレジスト膜またはメタルマスクを、プラズマによりアッシングして除去するアッシング室30と、を有し、イオン注入室20とアッシング室30とは真空状態で連結されると共に、イオンビーム注入後の基板をイオン注入室20からアッシング室30に搬送する基板搬送機60を備える。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させる磁気記録媒体の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】非磁性基板1の上に、密着層2、軟磁性層3、中間層4、磁性層5、保護膜層6及び潤滑層7が順次積層されてなる磁気記録媒体の製造方法において、保護膜層6を成膜後に、当該保護膜層6を特定の条件で窒化処理することにより、磁気記録媒体の耐久性、耐腐食性を向上させることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】十分な記録再生特性を確保しつつ、記録密度を大幅に増加させることができ、特に、書き込み特性に優れた磁気記録媒体、その製造方法およびこの磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】本発明では、互いに分離した複数の磁気記録パターン部4aを有する磁気記録媒体を製造するに際して、非磁性基板1上に連続して磁性層4を形成した後、該磁性層4の磁気記録パターン部4aに対応する領域に、イオン注入または反応性プラズマ処理を行い、磁性層4の保磁力(Hc)および磁気異方性定数(Ku)を低下させることにより、磁気記録パターン部4aを形成する。 (もっと読む)


1 - 20 / 66