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Fターム[5E343BB23]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 導体パターンの形状、構造・材料 (16,522) | 導体材料(サーメット等) (10,751) | 金属単体 (9,947) | 1B族(Au) (5,412)

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【課題】 めっき引き出し線の断線を検知することが容易な多数個取り配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】複数のセラミックグリーンシート11a〜11cに、配線導体4となる金属ペースト14、配線導体4同士を互いに接続し、互いに電気的に独立した複数のめっき引き出し線5となる金属ペースト15および配線基板領域2を取り囲む枠状導体層6となる金属ペースト16を印刷する工程と、積層して焼成する工程と、めっき引き出し線5における断線の有無を検査する工程と、めっき引き出し線5の露出部分と枠状導体層6とを導電性接続材8を介して電気的に接続した後、枠状導体層6から配線導体4に電流を供給しめっき層を被着させる工程とを備える多数個取り配線基板9の製造方法である。めっき引き出し線5の断線の有無を検査した後でめっき層を被着させるので、めっき層を配線導体4に正常に被着させ得る配線基板領域2を容易に検知することができる。 (もっと読む)


【課題】 多様な保安コードを生成することができる電磁気バンドギャップパターン及びその製造方法、並びに電磁気バンドギャップパターンを利用した保安製品を提供する。
【解決手段】 不導体の基板、及び基板上に伝導性物質で形成され、複数の閉ループパターン及び複数の開ループパターンが組み合せられて規則的に配列されたパターン部を含む。これは、伝導性物質層が形成された基板上に感光性フィルムを被着し、前記感光性フィルム上に、前記パターン部が描かれた陰性感光性フィルムを被着し、前記陰性感光性フィルムが被着された感光性フィルムを露光処理し、前記露光処理された感光性フィルムを現像することで、前記感光性フィルム上に前記パターン部を形成し、前記現像された感光性フィルムを利用して前記基板上の前記伝導性物質層の一部をエッチングし、前記基板上に前記伝導性物質でなる前記パターン部を形成することで製造される。 (もっと読む)


【課題】より細線化され、電気抵抗の増大が抑制され、且つ密着強度に優れた配線パターンを有する配線板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】配線板の基材の表面に多孔膜部14が形成されている。多孔膜部14には、インクジェット方式により、径が多孔膜部14の平均孔径よりも大きい第1導電体粒子18と、径が多孔膜部14の平均孔径よりも小さい第2導電体粒子20とを含むペーストが供給される。第1導電体粒子18は多孔膜部14の表面よりも上に残留する。第2導電体粒子20の一部分は多孔膜部14の表面よりも上に残留して各第1導電体粒子18の隙間をうめる。第2導電体粒子20の大部分は多孔膜部14の内部に浸透し、焼結されることで結合材として機能する。 (もっと読む)


【課題】製造に真空設備を必要とせず、また有機物接着剤を使用することなく、且つ導電層(銅箔層)を十分に薄くすることを可能とするプリント配線板用基板、プリント配線板、及びプリント配線板用基板の製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】絶縁性の基材11と、該絶縁性の基材11の上に積層される第1導電層12と、該第1導電層12の上に積層される第2導電層13とを有し、前記第1導電層12が金属粒子を含む導電性インクの塗布層として構成され、前記第2導電層13がめっき層として構成されていることを特徴とするプリント配線板用基板である。 (もっと読む)


【課題】ポリマーフィルムと金属箔間の接着強度の強い、高精細且つ高周波用途に適したフレキシブル金属配線板の作製方法を提供すること。
【解決手段】ポリマーフィルム上に金属箔を形成する際、低速電子線を照射しながら導電体金属膜厚を1μm以下の厚さで蒸着形成した後、電気メッキを1μm以上30μm以下形成して、樹脂フィルムと金属膜との密着性を高めた配線基板用フィルム基材を作製する。 (もっと読む)


【課題】コアレス・パッケージ基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】構築構造は第1外側部および反対側の第2外側部を有すると共に、該構築構造は、ひとつ以上の第2誘電層261および第2配線層262、および、複数の導電性ビア263を含む。上記第2誘電層261は、夫々、上記第1および第2外側部の方を向く第1および第2表面を有する。上記第2配線層262は上記第2表面上に配設される。上記導電性ビア263は、上記第2誘電層261内に配設される。上記第2外側部における上記最外側の第2配線層262は、複数の第2導電性パッドを有する。上記第1配線層25は上記第1外側部における上記最外側の第2誘電層261の上記第1表面内に埋設され且つ該表面から露出され、且つ、該第1配線層25は複数の第1導電性パッドを有する。上記導電性ビア263は、上記第1配線層25および上記第2配線層262を電気接続する。 (もっと読む)


【課題】極めて微細な配線パターン等を含む導体パターンを精確に(高精度かつ確実に)形成することができるプリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】下地金属パターン2を形成する工程と、前記下地金属パターン2が形成された片面上にネガ型のフォトレジスト6をコーティングする工程と、前記下地金属パターン2を用いて、前記絶縁性基板1を透過する光7を照射して前記フォトレジスト6を露光することによってめっきレジストパターン8を形成する工程と、前記めっきレジストパターン8を用いて、当該めっきレジストパターン8が設けられていない部分のみに前記下地金属パターン2をシード層とするめっきを施すことにより、前記下地金属パターン2の上にのみ選択的にめっき金属パターン3を形成する工程とを備えて、前記下地金属パターン2と前記めっき金属パターン3とを積層してなる導体パターン4を形成する。 (もっと読む)


【課題】ビアの形成後にデスミア処理された場合に、ビア周辺の樹脂が除去され難い絶縁フィルムを提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、硬化剤及び無機充填剤を含むエポキシ樹脂組成物を用いた絶縁フィルムであって、絶縁フィルムを単独で180℃で3時間硬化させた硬化物のガラス転移温度をT1(℃)とし、基板上に絶縁フィルムを積層し、次に絶縁フィルムを(T1−30)〜(T1+20)℃で5分間以上硬化させることにより、絶縁硬化フィルムを形成したときに、基板側の絶縁硬化フィルムの表面から0〜5μmの領域12Aの絶縁硬化フィルムのガラス転移温度T2(℃)及び基板側とは反対側の絶縁硬化フィルムの表面から0〜5μmの領域12Bの絶縁硬化フィルムのガラス転移温度T3(℃)がそれぞれ150℃以上であり、かつ、T2とT3との温度差が10℃以下である絶縁フィルム。 (もっと読む)


【課題】簡明な工程で、配線パターンの変更等に対する柔軟性が高く、電流容量に応じた厚膜を形成可能な、電気配線の形成方法、形成装置を提供する。
【解決手段】基板の表面に電気配線を形成する装置WSは、基板Bを保持する基板保持装置1と、ノズル30に供給された金属微粒子Gをノズルの内部のガス流に分散させて流下させ、所定開口寸法の噴射口35から気体とともに噴射する噴射装置3と、基板Bとノズル30とを相対移動させる移動機構とを備える。そして、基板保持装置に保持された基板Bに、金属微粒子Gを噴射して衝突固着させながら移動機構3により基板Bとノズル30とを相対移動させて、常温かつ常圧下で基板Bの表面に噴射口35の開口寸法に応じた線幅の電気配線を形成するように構成される。 (もっと読む)


【課題】吐出孔における射出安定性、目詰まり耐性に優れ、高精度の描画、より詳しくは導電性パターンを高精度で形成することができる非水系のインクジェット用インクと、それを用いた導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】吐出口が0.1μm以上、20μm未満である電界アシスト吐出方式を用いたインクジェット吐出装置で用いられるインクジェット用インクであって、電気伝導度が0.01μS/cm未満である溶媒を全溶媒量の80質量%以上含有し、かつ脂肪酸エステル型非イオン性界面活性剤またはポリカルボン酸型高分子界面活性剤を含有することを特徴とするインクジェット用インク。 (もっと読む)


【課題】グラビア印刷方法等の印刷方法において、どのようなインク材料が使用された場合であっても、高精細な印刷画像の形成が可能な被印刷基材を提供し、その被印刷基材を用いて高精細な印刷画像を形成する方法を提供する。
【解決手段】印刷版14上に形成されたインク材料16からなる画像を転写するための被印刷基材10であって、被印刷基材10が、画像が印刷される側の表面に、粘着性のある光硬化性組成物からなる光硬化性転写層11が設けられた構成を有することを特徴とする被印刷基材10。更に、印刷版14上に形成されたインク材料16からなる画像をその被印刷基材10の光硬化性転写層11の表面に転写する工程、その画像が転写された光硬化性転写層11を紫外線照射により硬化させる工程を含む印刷画像の形成方法。 (もっと読む)


【課題】はんだバンプを形成する際の脱落や針状結晶の発生を防止し、正常な回路基板の安定した提供を可能とする回路基板製造方法を提供する。
【解決手段】回路基板1上の端子2の表面に粘着性付与化合物を塗布して粘着層5を形成する工程と、前記粘着層上に、はんだ粒子11を付着する工程と、前記はんだ粒子に有機酸塩基のハロゲン化水素酸塩を含む活性剤を塗布してから、前記はんだ粒子が付着された回路基板を、はんだの融点以下で加熱して、はんだ粒子を定着させる工程と、前記はんだ粒子が定着された回路基板にフラックスを塗布する工程と、前記回路基板を加熱して、前記はんだ粒子を溶融する工程と、を具備してなることを特徴とする回路基板の製造方法を採用する。 (もっと読む)


【課題】基板表面に凹凸がある場合でも、基板を損傷することなく10μm以下の微細なパターンを容易に修正することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】この塗布ユニット1では、円筒部材2の下端をフィルム3で閉蓋し、フィルム3の中央部に貫通孔3aを形成し、貫通孔3aを覆うようにしてペースト容器5を設け、ペースト容器5を上下方向に移動可能に支持し、ペースト容器5内に修正ペースト6を注入し、オープン欠陥部16aと貫通孔3aを位置合わせした状態でフィルム3と基板15を隙間を開けて対峙させ、ペースト容器5の上端にノズル6を介して気体を噴射し、フィルム3の中央部を下方に突出させて基板15に接触させ、貫通孔3aを介して修正ペースト6をオープン欠陥部16aに塗布する。したがって、基板15の表面に凹凸がある場合でも、基板15を局部的に強く押圧することなく修正ペースト6を塗布できる。 (もっと読む)


【課題】導電性及び透明性、パターニング性、平滑性に優れた電極の製造方法及びその製造方法により製造したパターン電極を提供する。
【解決手段】第一の支持体上に液相法により形成された金属微粒子を含有する導電層を、接着層を介して第二の支持体上に接着させて硬化処理を施した後に、第一の支持体を剥離することで該導電層を第二の支持体上に転写し、さらに、該導電層に金属微粒子除去液をパターン印刷し、次いで水洗を行うことによって形成するパターン電極の製造方法であって、該接着層が少なくとも水系ポリマー樹脂と液状の架橋剤とを含有することを特徴とするパターン電極の製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】水溶性金塩と還元剤と錯化剤とを含有し、シアンイオンを含有しない無電解非シアン化金めっき浴であって、下記一般式(1)


で示されるバルビツール酸化合物を含有する無電解金めっき浴。
【効果】無電解金めっき浴は、ニッケルに対する金めっき及びパラジウムに対する金めっきの双方に使用することができ、この無電解金めっき浴を用いれば、例えば、1つの製造ラインでNi/AuプロセスにもNi/Pd/Auプロセスにも対応することができ、生産性が高い。また、形成された金めっき皮膜の特性も良好である。更に、めっき浴の安定性も高い。 (もっと読む)


【課題】めっき触媒等の金属に対して充分な吸着性を有し、吸水性が低く、重合性に優れ、且つアルカリ水溶液による加水分解を抑制しうる新規共重合ポリマーの提供。
【解決手段】下記式(1)で表されるユニット、及び、下記式(2)で表されるユニットを含むポリマー。式(1)及び式(2)中、R〜Rは、夫々独立して、水素原子、又は置換若しくは無置換のアルキル基を表し、Rは、無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、V及びZは、夫々独立して、単結合、置換若しく無置換の二価の有機基、エステル基、アミド基、又はエーテル基を表し、L及びLは、夫々独立して、置換若しくは無置換の二価の有機基を表す。
(もっと読む)


【課題】インクジェット印刷法により配線パターンおよび抵抗体を基板の上に形成する場合の制御を容易にすることができる配線板および配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】基材12の表面に第1多孔膜部14および第2多孔膜部16が形成されている。第1多孔膜部14および第2多孔膜部16には、インクジェット印刷法により、同じ組成の導電体の微粒子を含むペーストが同一の印刷制御により供給されて配線パターン18または抵抗体20が形成される。ここで、第2多孔膜部16のペーストの拡散率は第1多孔膜部14のペーストの拡散率の1.5倍以上となっている。 (もっと読む)


【課題】 基板の表面上に特別な加工や処理等を行なったりする必要がなく、耐熱性に乏しい種々の基材に対して密着性に優れる導電被膜・導電パターン等を簡便・安全且つ安定的に得ることができる金属製膜基板の製造方法と、該手法で得られる耐屈曲性に優れるフレキシブル基板を提供すること
【解決手段】 (1)ポリエチレンイミン中のアミノ基にポリエチレングリコールが結合してなる化合物、又はポリエチレンイミン中のアミノ基に、ポリエチレングリコールと、線状エポキシ樹脂とが結合してなる化合物と、金属ナノ粒子と、分散媒体とを含有するペーストを、基材上に直接塗布する工程、(2)前記工程(1)で得られた金属ペースト塗布後の基材を低温で乾燥する工程、を有する金属製膜基板の製造方法、及び該製法で得られるフレキシブル基板。 (もっと読む)


【課題】非インク吸収性基板に対するインクのパターン描画性および形成した金属の膜厚均一性に優れた金属パターン形成方法を提供する。
【解決手段】非インク吸収性基板の上に、少なくとも触媒、溶媒を含有するインクをインクジェット方式でパターン部を印字し、該パターン部の上に無電解めっき処理によって金属パターンを形成する金属パターン形成方法において、該インク中の、沸点180℃〜350℃の溶媒の合計の含有量が10質量%以下であることを特徴とする金属パターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】電子部品が載置される配線基板にシールド構造を形成し、複雑な製造プロセスが不要で低コストに製造可能な配線基板を提供する。
【解決手段】本発明の配線基板10は、コア基板11と、ビルドアップ層16、17を備え、上面に電子部品を搭載可能な構造を有する。配線基板10は、電子部品の端子群と対向して配置された電極パッド群40aと、その周囲に配置された電極パッド群40bを備え、少なくともパラジウムを含むメッキ層41が電極パッド群40a、40bの表面に形成されている。また、電極パッド群40bの上部に接合され、パラジウムを含まない第2メッキ層が表面に形成された金属部材が設けられ、その上部に導電性接着剤を介して導電性材料からなるキャップ部材を接合可能となっている。よって、電極パッド群40a、40bに対し1種類のメッキ層41を形成しつつ、金属部材とキャップ部材により良好なシールド構造を形成可能となる。 (もっと読む)


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