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Fターム[5E346DD22]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 各層形成の方法 (10,210) | 導体層形成の方法 (4,026) | メッキ (1,757)

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【課題】セミアディティブ法により平滑な絶縁樹脂層の上に微細な配線層を密着性よく形成できる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】第1絶縁樹脂層40の上に、第1カップリング剤層18に第1銅・錫合金層16及び銅層12が順に配置された積層体を得る工程と、銅層12の上にシード層52を形成する工程と、開口部32aが設けられためっきレジスト32をシード層52の上に形成する工程と、電解めっきによりめっきレジスト32の開口部32aに金属めっき層54を形成する工程と、めっきレジスト32を除去する工程と、金属めっき層54をマスクにしてシード層52から第1銅・錫合金層16までエッチングすることにより、第1カップリング剤層18の上に第1配線層50を形成する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】チップ部品を確実に保持した、板厚の薄い部品内蔵印刷配線板を得る。
【解決手段】ガラス材入り有機樹脂コア基板の空孔に、平面視が矩形形状であるチップ部品が設置された部品内蔵印刷配線板であって、前記空孔の四隅が、前記チップ部品の4つの角から間隙を開けて形成され、前記空孔の四辺部が前記チップ部品の四辺と平行に密着し、前記空孔から削り取られたガラス材と樹脂の粒子の塊が前記空孔と前記チップ部品との間に集積して前記チップ部品の四辺を前記空孔に強固に保持させ、前記コア基板と前記チップ部品の両面がビルドアップ層で覆われ、前記ビルドアップ層の表面から前記チップ部品の電極端子に達して電気接続する部品電極接続バイアホールが金属めっきで形成された部品内蔵印刷配線板を製造する。 (もっと読む)


【課題】埋め込み回路を形成することにより微細で密着力のある外層回路が形成可能であり、しかも任意の箇所に立体回路を形成することによりバンプやピラー、ダミー端子等の種々の導体回路の構成を形成可能な半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】キャリア金属箔とベース金属箔とを積層した多層金属箔を準備し、基材と積層してコア基板を形成する工程と、キャリア金属箔上に第1のパターンめっきを行う工程と、第1のパターンめっき上に絶縁層と導体回路と層間接続と形成して積層体を形成する工程と、積層体をキャリア金属箔とともにコア基板から分離する工程と、分離した積層体のキャリア金属箔上にエッチングレジストを形成してエッチングを行うことにより、埋め込み回路または立体回路を形成する工程と、を有する半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】モールド樹脂の硬化時に、樹脂基板とベアチップとの相対位置が変動することにより、ベアチップの電極パッドと貫通電極とを再配線で接続する際の歩留まりが低下してしまうことのない電子装置の製造方法及び電子装置を提供する。
【解決手段】機能素子が形成されたチップ15を支持体に仮固定するとともに、絶縁部材17を前記支持体に仮固定する。支持体に仮固定したチップ15及び絶縁部材17を、樹脂層16で被覆する。チップ15、絶縁部材17、及び樹脂層16を、支持体から引き離す。絶縁部材17が露出するまで樹脂層16を研磨することにより、チップ15、絶縁部材17、及び樹脂層16からなる再構築ウエハ10を得る。再構築ウエハ10の絶縁部材17に貫通孔を形成し、貫通孔内に貫通電極18を形成するとともに、再構築ウエハ10の上に、チップ15と貫通電極18とを接続する配線21を含む再配線層20を形成する。 (もっと読む)


【課題】複数の導波管が重ね合わされ、各導波管の内部が誘電体で充填された構成において、高集積化及び軽量化を図ることができるとともに、信頼性を向上させることができる多層導波管、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基礎導波管形成部101と積層導波管形成部102とは、絶縁性の第1の接着剤50により互いに接着されている。基礎導波管形成部101は、互いに間隔をおいて対向配置された板状の第1及び第2の主導体1a,1bと、それらの間に充填された第1の誘電体2とを有している。積層導波管形成部102は、第3の主導体21と、第3の主導体層21の主面に層状に形成された第2の誘電体22とを有している。第2の誘電体22の主面における第2の貫通導体23aの接着剤50に接する側には、第2の誘電体22の主面から突出するように、ランド24が設けられている。 (もっと読む)


【課題】多層基板の内層と外層とを接続する貫通ビアホールのインピーダンスを制御する。
【解決手段】一方の基板表面の導体層に形成された外層パターンと内層パターンとの間に、内層パターンを非貫通であって、グランドに接続されるベリードビアホール、ベリードビアホールの内側に形成された管状の絶縁体、及び、管状絶縁体の管内面に形成され、外層パターンと内層パターンとを少なくとも接続する貫通ビアホールを設ける。 (もっと読む)


【課題】アンダーフィル樹脂と半導体素子搭載面となる絶縁層やソルダーレジスト層との間の濡れ性を調整し、アンダーフィル樹脂を充填する時にアンダーフィル樹脂にボイド等発生しないような配線基板を得る。
【解決手段】支持体(20)の表面に粗化処理を施して、粗化面に配線層(25)を形成し、支持体の粗化面と配線層上に誘電体層(23、25)を積層し、このように構成した中間体から支持体を除去し、配線基板を得る。 (もっと読む)


【課題】本発明は、仮基板上に剥離できる状態でビルドアップ配線層を形成する配線基板の製造方法で、何ら不具合の発生なく、信頼性よく低コストで製造できる方法を提供する。
【解決手段】プリプレグ上の配線形成領域Aに下地層が配置され、下地層より大きな金属箔が配線形成領域Aの外周部Bに接するように、下地層を介して金属箔をプリプレグ上に配置し、加熱・加圧によってプリプレグを硬化させることにより、仮基板を得ると同時に、仮基板に金属箔を接着する。その際に下地層と金属箔の密着強度が0.01N/cm〜0.04/cmとなるような構成とする。その後に、金属箔の上にビルドアップ配線層を形成し、その構造体の下地層の周縁部分を切断することにより、前記仮基板から金属箔を分離して、金属箔の上にビルドアップ配線層が形成された配線部材を得る。その後、金属箔を取り除いて、コア基材のない配線基板を得るものである。 (もっと読む)


【課題】電極パッドのピッチ間隔を狭めることのできる回路基板の製造方法及び電子装置の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板30の表面に形成され且つ電子部品の端子を接続させる第1の電極18が埋め込まれた第1の層11を形成する工程と、第1の電極18の表面を露出させるように、第1の層11を研磨する工程と、第1の電極18の表面を露出させた後、第1の層11の表面に、第1の電極18に接続される第1の配線12を形成する工程と、第1の配線12を形成した後に、支持基板30を除去することにより、第1の電極18の裏面を露出させる工程と、を備える回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】平坦性によるインピーダンス整合及び設計自由度が高く、高密度実装が可能な多層配線基板及びその製造方法並びに半導体装置を提供する。
【解決手段】多層配線基板10は、基板11の上部に絶縁層12を備え、これと対称に基板11の下部に絶縁層13を備える。これらの絶縁層は、ポリイミド樹脂により形成されており、基板11に対してキャスティングによりビルドアップして形成される。ビルドアップされた絶縁層12,13のいずれか又は両方が、基板の流れ方向であるMD方向と、基板の垂直方向であるTD方向とにおいて強度を同じに設定している。 (もっと読む)


【課題】導体層及び絶縁樹脂層が交互に積層されてなる多層プリント配線板の絶縁樹脂粗化面形成方法において、絶縁樹脂に求められる低粗度且つ均一な粗化面をインプリント法により簡便に形成することを目的とする。
【解決手段】少なくとも(a)微細形状を有した面状の金型により前記絶縁樹脂層を上下から挟む工程と、(b)前記絶縁樹脂層を加圧及び硬化させる工程と、(c)前記金型及び前記絶縁樹脂層を引き剥がす工程と、を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 積層体の一面側に形成された半導体素子搭載用のパッドを備え、薄型かつ長期間安定して電子部品を搭載できるプリント配線板を提供することを目的とする。
【解決手段】 金属箔を支持部材に超音波で固定する工程;前記金属箔上に樹脂絶縁層を形成する工程;前記樹脂絶縁層にビア導体用の開口部を形成する工程;前記樹脂絶縁層上に導体回路を形成する工程;前記開口部に、ビア導体を形成する工程;及び支持部材と金属箔とを分離する工程;を含む、プリント配線板の製造方法を提供する。
本発明の積層体の製造方法によれば、接続信頼性に優れた薄型のプリント配線板を歩留まりよく製造することができる。 (もっと読む)


【課題】内層回路の埋め込み性の向上と、厚み精度の向上との両立を図る。
【解決手段】ビルドアップ用プリプレグ1は、繊維基材2と、繊維基材2の両面に設けられた樹脂層3、4とを備え、IPC−TM−650 Method 2.3.17に準拠し、171±3℃、1380±70kPaの条件で5分間加熱加圧して測定された樹脂流れが、15重量%以上50重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】内層回路の埋め込み性の向上と、厚み精度の向上との両立を図る。
【解決手段】ビルドアップ用プリプレグ1は、繊維基材2と、繊維基材2の両面に設けられた樹脂層3、4とを備え、IPC−TM−650 Method 2.3.17に準拠し、171±3℃、1380±70kPaの条件で5分間加熱加圧して測定された樹脂流れが、15重量%以上50重量%以下であり、対向する一対のゴム板によりプリプレグ1を挟んだ状態で、120℃、2.5MPaの条件下に加熱及び加圧したとき、平面視で繊維基材2の外縁からはみ出る樹脂層3、4の重量が、樹脂層3、4の全体に対して、5重量%以下である。 (もっと読む)


【課題】安価な発光素子搭載用セラミック基板、及び発光素子搭載モジュールを提供する。
【解決手段】セラミック部2と、 セラミック部2の少なくとも1面に、酸化チタン(TiO2)もしくは酸化カルシウム(CaO)が拡散された反射改善層3と、から構成される発光素子搭載用セラミック基板1としたので、反射金属膜を形成する高価な工法(湿式めっき法、乾式めっき法、エッチング等)を使用する必要がなく、その結果として、安価な発光素子搭載用セラミック基板1、及び発光素子搭載モジュール6を提供することができる。 (もっと読む)


【課題】歪みや反りがなく信頼性が高い多層配線基板を低コストで形成することができる多層配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂絶縁層21〜24よりも剛性が大きな絶縁材で構成された板状のコア絶縁材13を準備する。コア絶縁材13のコア主面14及びコア裏面15にて貫通するスルーホール16を形成するとともにそのスルーホール16内にスルーホール導体17を形成する。板状の基材52を準備するとともに、基材52上に樹脂絶縁層21,22と導体層26とを積層する。樹脂絶縁層22及び導体層26にコア絶縁材13を密着させるととともに、導体層26とスルーホール導体17とを電気的に接続させる。コア絶縁材13上に樹脂絶縁層23,24と導体層26とを積層する。 (もっと読む)


【課題】リジッド部とフレキシブル部を構成する基板材料が同じでありながら、高い硬度を有するリジッド部と、屈曲性が良好で配線抵抗が低いフレキシブル部とを備えたリジッドフレキシブル基板、および、その製造方法を提供すること。
【解決手段】可撓性の絶縁性基板と、該絶縁性基板の少なくとも一方の表面に形成された導体配線層とを有するプリント基板を用いて作製され、導体配線層の密度が低いフレキシブル部と、該フレキシブル部よりも導体配線層の密度が高いリジッド部を有するリジッドフレキシブル基板であって、前記リジッド部の表面の少なくとも一部に平面電極を備え、前記平面電極が、Snを含有する第1金属と該第1金属よりも高い融点を有する第2金属との反応により生成する300℃以上の融点を有する金属間化合物を含み、前記第2金属の表面に最初に生成する金属間化合物の格子定数と前記第2金属の格子定数との差が、前記第2金属の格子定数に対して50%以上であることを特徴とする、リジッドフレキシブル基板。 (もっと読む)


【課題】良好な高周波特性を保ちつつ、導体層と絶縁層との高い密着信頼性を確保し得る高周波用途の配線基板を実現することを目的とする。
【解決手段】配線基板10は、コア材20の上下の積層部に絶縁層と導体層とを交互に積層形成してなり、積層部の導体層のうちの信号配線層42、43に対して表面改質処理としてのシランカップリング処理が施されており、各々の信号配線SLは平坦面を有する。一方、積層部の他の導体層40、41、44、45に対して粗化処理が施され、その表面が粗化面となっている。このような構造により、配線基板10の信号配線層42、43に高周波信号を伝送する際、信号配線SLが平坦面を有するので、表皮効果の影響による導体損失の増加を防止できるとともに、シランカップリング処理による化学結合で絶縁層32、33との間の密着信頼性を十分に確保することができる。 (もっと読む)


【課題】多層配線基板の表層から内層に到る有底ビアを電気的に接続するためのめっきを行う際に、内層とめっきとの接続信頼性を確保可能なめっき前処理装置及びめっき前処理方法を提供する。
【解決手段】被めっき体である前記多層配線基板の脱脂を行う脱脂槽と、脱脂に用いた脱脂液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Aと、前記多層配線板の貫通ビアの内壁に露出した内層端面または有底ビアの底部に露出した内層表面に対してエッチングを行うソフトエッチング槽と、前記エッチングに用いたソフトエッチング液を前記多層配線基板から洗浄除去する水洗槽Bと、を備え、前記水洗槽Aの水洗水の実際の温度が、前記ソフトエッチング槽のソフトエッチング液の設定温度に対して、所定範囲に制御されるめっき前処理装置及びこれを用いためっき前処理方法。 (もっと読む)


【課題】 スルーホール導体の信頼性を低下させない多層プリント配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】 第1開口28A、第3開口28Cと、該第1、第2開口部に続いて形成する第2開口28B、第4開口28Dとを比較した場合、第2、第4開口の方が小径であるため、第1、第3開口に対して第2、第4開口の形成位置にマージンができ、第2、第4開口の形成位置が多少ずれても、貫通孔28の形成に支障を来さないため、スルーホール導体の信頼性が向上する。 (もっと読む)


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