搬送装置は、隔壁（２１）で隔てられた第１空間（ＣＲ）と第２空間（２０）との間で、隔壁に形成された開口部（２２）を介して基板（１０）を搬送する。搬送装置は、基板を支持する支持部を有し、支持部が開口部内を通って第１空間と第２空間との間を移動する支持装置と、開口部に挿入された支持装置と隔壁との間の隙間を調整して、第１空間と第２空間との間の流体の移動を抑制する調整装置と、を有する。
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【課題】基板接触部材を定期的に自動清掃可能な構成を安価に構築し得る枚葉搬送ユニットを適用することで、現像装置のようなウェット搬送設備だけでなく、プロセス装置、検査装置等のドライ搬送設備へも適用可能な枚葉基板搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送方向に平行に複数本のワイヤーをループ状に駆動可能な軸間に張架して形成された搬送部のループ状ワイヤーの上方側に基板を担持して、該ループ状ワイヤーを回転駆動させることで前記基板を搬送する枚葉基板搬送装置において、前記ループ状ワイヤー搬送部の下方側の基板とは接触しない位置で、前記ワイヤーを回転駆動中に洗浄する自動洗浄機構を具備している。 （もっと読む）

方法は、感光材料の層を上に有する基板を用意する工程と、連続する第１、第２、及び第３の部分を有するマスクを用意する工程であって、順次、ｉ）第１の部分を第１の速度の光線で走査し、その後露光領域で感光材料に衝突させ、ｉｉ）第２の部分内に走査する工程を固定し、ｉｉｉ）第３の部分にわたって走査を再開する、工程と、を含む。該プロセスにわたって、該基板が露光領域を通って移動する。該プロセスを実行するための装置は、光線源と、マスクマウントと、マスクステージと、コンベヤーアセンブリと、光線を矩形光線に操作するための少なくとも１つの光学素子と、を含む。 （もっと読む）

【課題】制御モデルの同定を最適化し、以ってフィードフォワード制御による高精度な位置制御を行う。
【解決手段】制御対象物の制御特性を表すモデルを用いた完全追従制御により前記制御対象物をフィードフォワード制御するフィードフォワード制御手段を備えた制御装置において、前記モデルは、前記制御対象物の周波数応答曲線における第１の変曲点が周波数１０Ｈｚより低い領域に存在し、且つ、第２の変曲点が前記第１の変曲点の周波数より高く周波数１０Ｈｚより低い領域に存在している場合に、前記第１及び第２の変曲点を含む周波数範囲において前記周波数応答曲線との誤差が最小となるようにモデルパラメータが設定されている。 （もっと読む）

【課題】高精度なフォーカス制御を実現する。
【解決手段】第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。ステージに第３基板を載置してステージを所定方向に走査する第１ステップと、第３基板上に所定方向に沿って配置された複数のマークを第１投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第１投影光学ユニットの第１フォーカス位置情報を計測する第２ステップと、複数のマークを第２投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第２投影光学ユニットの第２フォーカス位置情報を計測する第３ステップと、第１及び第２フォーカス位置情報に基づいて、前記パターンに対応する第１及び第２投影光学ユニットの各フォーカス位置と第２基板との相対位置を調整する第４ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】載置ずれや変形を生じさせることなく基板をの受け渡すことができる基板保持装置、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法を提供するしを行うこと。
【解決手段】基板を保持する基板保持装置９は、基板が載置される複数の基板載置部３１と、複数の基板載置部３１を区画する凹部３０と、凹部３０と載置部３１の背部空間とを連通させる複数の連通孔４０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】プロキシミティ露光装置の振動によるマスクの損傷を防止する。
【解決手段】基板１をチャック１０により支持し、マスク２をマスクホルダ２０により保持する。所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０との間隔を広げて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。あるいは、所定値以上の振動の発生を検知したとき、マスクホルダ２０とチャック１０又はチャック１０に支持された基板１との間に緩衝部材を入れて、マスクホルダ２０に保持されたマスク２がチャック１０又はチャック１０に支持された基板１に接触するのを防止する。 （もっと読む）

本発明の或る実施形態によれば、静電チャックが提供されている。静電チャックは、基板を静電チャックに静電的にクランプする目的で電荷を形成するために電極内の電圧によって活性化される表面層を備えている。表面層は、複数のポリマー突起と、複数のポリマー突起が接着する電荷制御層と、を含んでいる。複数のポリマー突起は、基板の静電クランプの間、基板を複数のポリマー突起上で支持するために複数のポリマー突起を取り囲む電荷制御層の一部より上方の高さまで伸張している。 （もっと読む）

【課題】ストッカーのシェルフの平坦度を容易に点検することのできるストッカーシステム及びストッカー管理方法を提供する。
【解決手段】本発明のストッカーシステムは、被積載物を積載できるシェルフ１１０を備えたストッカー１００と、ストッカー側に被積載物を移動できるように、ボディー部２１０とボディー部に連結されたアーム部２３０とを備えたラックマスター２００と、アーム部上に積載できるように形成されたセンサーユニット３００とを備え、センサーユニット３００は、アーム部上に積載された状態でシェルフの上部に移動した時、センサーユニットとシェルフとの間の相互位置関係を複数の地点で測定するように複数の変位センサーが配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
精度の高い位置決めを効率よく行う駆動装置を提供する。
【解決手段】
非圧縮性液体を充鎮させた膜構造のダイヤフラム構造体（１２０）と、前記ダイヤフラム構造体（１２０）に前記非圧縮性液体を送り込むピストン機構（１２１，１２２）と、を備え、物体を駆動する駆動装置において、前記ピストン機構（１２１，１２２）は異なる断面積を有する複数のピストンを有する、ことを特徴とする駆動装置。 （もっと読む）

【課題】 各処理ユニットの配置に基づいた搬送順に制限されることなく、所望の処理順で基板を処理することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 基板処理部２０は、複数の処理ユニットＵ１〜Ｕ３を有している。各処理ユニットＵ１〜Ｕ３間の基板搬送としては、平流し方式が採用されており、基板は、各処理ユニットＵ１〜Ｕ３の配置に基づいた搬送順で、各処理ユニットＵ１〜Ｕ３に受け渡される。メインコントローラは、各処理ユニットＵ１〜Ｕ３に対し、少なくとも処理ユニットＵ２による処理を含む一連の第１基板処理を実行させる。続いて、メインコントローラは、各処理ユニットＵ１〜Ｕ３に対し、少なくとも処理ユニットＵ１による処理を含む一連の第２基板処理を実行させる。 （もっと読む）

【課題】エンコーダ等の位置計測装置を使用した基板ステージの位置決めを行う際に、スケールの形状に依存する誤差を最小限に抑える露光装置を提供する。
【解決手段】基板５を保持する基板ステージ６と、該基板ステージ６の位置を計測する光学式計測部７と、該光学式計測部７からの計測光の反射対象となるスケール８とを備える露光装置５０であって、基板ステージ６が設置された空間内を温度調節するための温調エアを供給する供給系と排気する排気系を有し、供給系は、基板ステージの走査部周辺に温調エアを供給する第１の供給系１１、排気系１４と、スケール８の設置部周辺に温調エアを供給する第２の供給系１３、排気系１５とを備える。 （もっと読む）

例えば低圧力環境において高電圧を運ぶケーブルを接続するのに適している電気コネクタであって、導電性表面を有するハウジングと、複数のケーブル挿入部とを含み、各ケーブル挿入部は、電気ケーブルに接続するように構成された電気導体と、前記導体を取り囲む絶縁性スリーブとを含み、前記ハウジングは複数のケーブル挿入部を取り囲む、電気コネクタ。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィ装置中に液浸液が残存することに関連した問題を軽減し、適切なデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ装置の対象物Ｗ、基板テーブルＷＴ、又はその両方から能動的に液体を除去するための能動型乾燥ステーションＡＤＳが投射システムと基板露光後処理モジュールとの間に設けられ、基板テーブルＷＴは該能動型乾燥ステーションＡＤＳに対象物Ｗを搬送し、該能動型乾燥ステーションＡＤＳがガス流手段を有する。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージに位置検出用の光を照射する照射装置と、前記ステージの移動に応じて前記ステージの移動経路上の気体を前記光の光路から外れた位置に移動させる気体移動装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】
静圧軸受手段が走査する定盤案内面の面精度を高め、渦電流をさらに低減する定盤の構成により、露光装置を高速化し、転写精度を向上するステージ装置を提供する。
【解決手段】
定盤と、該定盤面に沿って移動するステージと、該ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージと前記定盤面との間を非接触に保つための静圧軸受手段と、前記定盤面の所定部位に対向するように前記ステージに保持された磁気手段と、を有するステージ装置において、前記磁気手段が対向する前記定盤の所定部位に磁性体を配置すると共に前記静圧軸受手段が対向する前記磁性体の表面に非磁性体を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の基板処理部が搬送路に沿って配列されている場合でも、基板搬送時間の増加を抑制または回避することができる基板処理装置および基板搬送方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、複数の処理ユニット６と、シャトルＳＴと、メインロボットＭＲと、ＭＲ移動機構７と、シャトル移動機構とを含む。複数の処理ユニット６は、それぞれ基板Ｗを１枚ずつ処理するためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って配列されている。また、シャトルＳＴは、基板Ｗを待機させておくためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って移動可能に設けられている。また、メインロボットＭＲは、シャトルＳＴと各処理ユニット６との間で基板Ｗを搬送するためのものであり、搬送路Ｃ１に沿って移動可能に設けられている。シャトル移動機構は、搬送路Ｃ１に沿ってシャトルＳＴを移動させる。また、ＭＲ移動機構７は、搬送路Ｃ１に沿ってメインロボットＭＲを移動させる。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上を図ることができる、基板処理装置および基板受渡方法を提供する。
【解決手段】ハンド９の上下面に、それぞれウエハＷを保持するための４つの支持突起２３および４つの挟持部材２４が備えられている。そのため、次の４つの動作ステップ１〜４で、ハンド９によるスピンチャックに対するウエハＷの受け取りおよび受け渡しが達成される。
１．４つの支持突起２３にウエハＷが保持されている状態で、ハンド９がスピンチャックと対向する位置に進出される。
２．スピンチャックに支持されているウエハＷが４つの挟持部材２４により保持されて、スピンチャックから４つの挟持部材２４にウエハＷが受け取られる。
３．４つの挟持部材２４によるウエハＷの受け取りに前後して、４つの支持突起２３からスピンチャックにウエハＷが受け渡される。
４．ハンドがスピンチャックと対向する位置から退避される。 （もっと読む）

【課題】液体を、液浸リソグラフィシステムのレンズとウェハテーブルアセンブリの間に実質的に閉じ込めることを可能とするための方法及び装置が開示される。
【解決手段】本発明の一態様に従えば、露光装置はレンズとウェハテーブルアセンブリを含む。ウェハテーブルアセンブリは上面を有し、ウェハを支持して、レンズ及び少なくとも１つのコンポーネントに対して動かされるように配置されている。ウェハの上面とコンポーネントの上面は各々、ウェハテーブルアセンブリの上面とほぼ同じ高さである。ウェハの上面、ウェハテーブルアセンブリの上面及び少なくとも一つのコンポーネントの上面を含むウェハテーブルアセンブリの全上面は、実質的に平面状である。 （もっと読む）

【課題】シャトルユニットなどの搬送ロボットと対向する部分のメンテナンス作業がしやすい、基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１では、フレーム１４内に、ウエハＷを搬送するシャトルユニット１７が設けられている。シャトルユニット１７のシャトル本体１９を支持する土台１８は、固定用ボルト４６により、フレーム１４に対して第１位置で固定される。一方、固定用ボルト４６による土台１８の固定が解除された状態では、スライド機構４１により、シャトル本体１９を土台１８ごと第１位置から第２位置へスライドさせることができる。 （もっと読む）