説明

Fターム[5F031CA07]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | マスク,レティクル (724)

Fターム[5F031CA07]に分類される特許

141 - 160 / 724


【課題】基板収納容器の蓋体を取り除くときに、瞬時に基板収納容器内外の圧力差を無くして、蓋体の開閉を問題なく行うことが可能な基板収納容器を提供する。
【解決手段】開口部を有し基板を収納する容器本体2と、容器本体2の開口部をガスケット部材によってシール可能に閉鎖する蓋体3と、を有する基板収納容器1であって、基板収納容器1内外の圧力を平衡状態にする圧力調整手段が設けられていることを特徴とする基板収納容器。 (もっと読む)


【課題】レチクル伸縮補正モデルを修正して、レチクル伸縮に伴う重ね合わせ誤差を補正する。
【解決手段】ステップ512でロット内のウエハのそれぞれにパターンが転写されるが、その転写に先だって、そのウエハに先の露光でパターンとともに形成されたアライメントマークが検出される(ステップ506)。パターン転写後、ステップ518にてパターンの重ね合わせ計測が行われる。ステップ522で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。パラメータ修正後の重ね合わせ誤差を算出することで、他のアライメント処理条件の最適化も同時に行える。 (もっと読む)


【課題】振動を軽減するためのモードと、加速、減速するためのモードとを備えたステージ装置を提供する。
【解決手段】天板62、第1固定子58、第1可動子59を有し、前記天板を所定の方向に走行させる第1リニアモータと、第2固定子58、前記第1可動子を両側から挟むように配置された一対の第2可動子64,64とを有し、前記天板を前記所定の方向に走行させる第2リニアモータと、前記第2可動子の前記第1可動子と対向する面のそれぞれに配置され、前記第2リニアモータの駆動力を前記第1可動子に伝達するための一対の伝達部材68,68と、前記第1リニアモータ、前記第2リニアモータ及び前記一対の伝達部材を制御する制御部とを備え、制御部は、前記第2リニアモータを駆動し前記伝達部材の一方を介して前記天板を移動させる第1モードと、前記第1リニアモータ及び第2リニアモータの双方を駆動し前記天板を移動させる第2モードとを含む。 (もっと読む)


【課題】部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。
【解決手段】第1のマスクM1での露光中に、第1のハンドラ11aがマスク保管部6から次に使用する第2のマスクM2を取り出し、プリアライメントステージ5に載せてプリアライメントを行う。露光が終わると第2のハンドラ12aが第1のマスクM1をプリアライメントステージ5まで運ぶ。マスク退避機構13の第3のハンドラ13aは第1のマスクM1を受け取りいったん保持する。第2のハンドラ12aは、第2のマスクM2を保持し、マスクステージ2へ搬送する。同時に第3のハンドラ13aが保持していた第1のマスクM1を第1のハンドラが受け取ってマスク保管部6に回収する。マスク退避機構13を設けマスクを退避させるようにしたのでマスクの交換時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】基板が使用されている時に、保護カバーの内面が汚染されることを容易、かつ確実に防止する。
【解決手段】露光装置は、チャンバ13内に配置されるレチクル37を保持するレチクルステージ11を備え、レチクル37に形成されたパターンの像をウエハに露光する。第1搬送部は、レチクル37が収納される第1カバー部材を保護する第2カバー部材を開いて第1カバー部材を取り出すとともに、第1カバー部材をチャンバ13内に搬送する。第2搬送部は、チャンバ13内で、第1カバー部材を開いてレチクル37を取り出し、レチクル37をレチクルステージ11に搬送するとともに、レチクル37が取り出された第1カバー部材を閉じた状態で保持する。 (もっと読む)


【課題】基板の位置合わせ(ウエハアライメント)を短時間で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】ステージ50に保持された基板40に形成されたマークからの光を検出する複数の領域が第1の方向に配列されたセンサ704と、ステージを駆動する第1の駆動部60と、センサに入射するマークAMからの光が第1の方向に沿って移動しながら、複数の領域に順に入射するように、ステージを基板の高さ方向に直交する第2の方向に駆動しつつ、ステージを基板の高さ方向にも駆動するように、第1の駆動部を制御する制御部80と、センサからの信号を処理する処理部90と、を有し、処理部は、信号によって与えられる第1の方向に沿った光強度の分布において、ピークを示す基板の高さ方向の位置を決定することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板の一面を複数の露光領域に分けて露光するプロキシミティ露光装置を小型化する。
【解決手段】基板1を支持するチャック10と、マスク2を保持するマスクホルダ20と、チャック10を移動するステージと、マスクホルダ20を移動するマスクホルダ移動装置とを設け、ステージによりチャック10をX方向(又はY方向)へ移動して、基板1の露光領域のX方向(又はY方向)への変更を行い、マスクホルダ移動装置によりマスクホルダ20をY方向(又はX方向)へ移動して、基板1の露光領域のY方向(又はX方向)への変更を行う。露光領域をY方向(又はX方向)へ変更する際は、マスク2より大きな基板1をY方向(又はX方向)へ移動する必要が無く、マスク2がマスク2より大きな基板1の上方でY方向(又はX方向)へ移動される。従って、露光装置のY方向(又はX方向)の寸法を小さくすることができる。 (もっと読む)


【課題】サブステージにまたはその近傍に力を発生させるための熱が発生しない改善されたリソグラフィ装置の位置決めシステムを提供する。
【解決手段】サブステージ9は、メインステージ5に対して第1位置11と第2位置13の間で一方向に移動可能である。この方法は、メインステージ5の位置決めによって起動される受動力システムを使用して第1ステージを位置決めすることを含む。受動力システムは二つの磁石システム19、21を備える。各磁石システム19,21は、第2ステージに対して第1ステージに上記方向の力を非接触で与えるように構成される。力は、受動力システムによって第1ステージに与えられる上記移動方向の合力となる。合力の大きさおよび/または方向は、第2ステージに対する第1ステージの位置によって決まる。第1ステージは、合力がゼロとなるゼロ力位置23を第1位置11と第2位置13との間に有する。 (もっと読む)


【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体LQを用いた液浸露光が実施される基板Pを保持して移動する基板ステージ2であって、保持された基板Pの周囲に設けられて液体LQを回収する第2溝部42と、第2溝部42の底部42aに設けられ、第2溝部42で回収した液体LQを、第2溝部42の外部に排出する排出孔45と、液体LQよりも比重の小さい材料で形成され、第2溝部42に配置されて第2溝部42に貯溜した液体LQの液位に応じて浮沈することにより排出孔45を開閉するフロート弁51とを有するという構成を採用する。 (もっと読む)


【課題】 レチクルのような板部材を強固に保持すると共に、板部材の上面、下面又は板部材を保持する部材に異物が付着していても板部材を歪ませることのないステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージに設けられていて、前記板部材の下面に当接して前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第1位置決め部材と、前記ステージに設けられていて、前記板部材の上面に当接して前記第1位置決め部材と共に前記板部材の面に垂直な方向における前記板部材を位置決めする第2位置決め部材と、前記第1位置決め部材の周囲に第1密閉空間を形成する弾性を有する第1密閉部材と、前記第2位置決め部材の周囲に第2密閉空間を形成する弾性を有する第2密閉部材と、前記第1密閉空間と前記第2密閉空間とに前記板部材を真空吸着させるように、前記第1密閉空間及び前記第2密閉空間から空気をそれぞれ吸引する第1吸引機構及び第2吸引機構と、を備える。 (もっと読む)


【課題】簡単な機構でマスクと基板ステージとの位置関係情報を高精度に計測する。
【解決手段】マスクアライメント系12Aであって、マスクMAに形成されたマスクマーク15A,15Bのうちのマスクマーク15Aを照明する照明系と、プレートステージPSTに設けられ、基準マーク27A,27Bが形成された基準マーク部材26と、基準マーク27Aの形成面と基準マーク27Bの形成面とを光学的に共役にするリレー光学系29Aと、マスクマーク15A,15B及び基準マーク27A,27Bの像を共通の撮像面で検出する撮像ユニット14Aとを備える。 (もっと読む)


【課題】吸湿性や水分透過性を低減し、基板の有機汚染を抑制することのできる安価な基板収納容器を提供する。
【解決手段】複数枚の半導体ウェーハを整列収納するフロントオープンボックスタイプの容器本体1と、この容器本体1の開口した正面6にシール用のガスケットを介し着脱自在に嵌合される蓋体20とを備え、これら容器本体1と蓋体20とを、吸水率が0.1%以下、80℃で24時間加熱してダイナミックヘッドスペース法により測定した総アウトガス量が15ppm以下の合成樹脂を含有する成形材料でそれぞれ射出成形する。成形材料の合成樹脂を、シクロオレフィンポリマー、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート、若しくはポリエチレンテレフタレートから選択された少なくとも一種、又はこれらのアロイ樹脂とする。 (もっと読む)


【課題】レチクルを交換する時間を削減しつつ、露光処理を精度良く行うための計測、補正時間をも削減する露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版3を載置及び保持する原版ステージ4と、基板6を載置及び保持する少なくとも2つの基板ステージ7、8とを有し、原版3のパターンを基板6に対して多重露光する露光装置1であって、更に、原版ステージ4及び各基板ステージ7、8の動作と、露光処理を制御する制御部9を有し、制御部9は、第1の原版のパターンを、露光処理部に位置する第1の基板ステージ7に載置された第1の基板に対して投影転写させ、次に、各基板ステージ7、8を移動させて基板6を交換し、第1の原版のパターンを、第2の基板ステージ8に載置された第2の基板に対して投影転写させ、更に、投影転写に使用する原版3を、第1の原版から第2の原版へと交換した場合は、原版3の交換前後で同一の基板ステージに載置された同一の基板6に対して投影転写させる。 (もっと読む)


【課題】走査露光処理を中断させることなく、基板上のショット領域において、両スキャン方向の同期精度を算出する。
【解決手段】原版を保持するレチクルステージと、基板を保持するウエハステージとを所定の走査方向に同期移動させて、基板に定義される配列を構成する複数の領域を露光する露光処理方法であって、複数の領域において露光処理を通して取得する装置情報を抽出する抽出工程S1と、走査方向が第1の走査方向で同期移動された領域における装置情報に基づいて、第2の走査方向で同期移動された領域における装置情報を補間するための補間値を算出する算出工程S4、S5とを有する。 (もっと読む)


【課題】テーブルが軽量化及び小型化され、テーブルの緊急停止時に、位置制御や速度制御などの制御駆動機能に依存せずに、強い制動力を有する位置決め装置を提供する。
【解決手段】定盤2上の駆動領域内でテーブル1を駆動するモータ12と、テーブル1の位置を検出する位置検出器3と、モータ12を制御する制御部30とを備え、テーブル1を位置決めする位置決め装置であって、制御部30は、位置検出器3の出力に基づいて、テーブル1の位置を制御するための電流を出力する第1出力部7、8a、8dと、駆動領域の中心に向かう推力をテーブル1に付与するための電流を出力する第2出力部16a、16dと、テーブル1を停止させるための停止信号に基づいて、第1出力部7、8a、8dの出力に応じてモータ12が制御される状態から、第2出力部16a、16dの出力に応じてモータ12が制御される状態に切り替える切替部10a、10dとを備える。 (もっと読む)


【課題】簡易な構造に構成され、かつ高い吸着力を発揮する静電チャックを提供する。
【解決手段】静電チャックZは、シリカガラスからなる基材1と、基材1の一方の主表面上に形成されるシリカガラスからなる誘電体層3と、誘電体層3と基材1との間に埋設されている、帯状の電極2aを所定の電極パターンに配列した電極部2とを備えている。また、電極2aは、厚さ寸法aが0.2μm以上1.0μm以下になされ、誘電体層3は、厚さ寸法dが40μm以上100μm以下になされている。また、電極2aの幅寸法bは、誘電体層3の厚さ寸法dが40μm以上75μm未満の場合に100μm以上330μm以下になされ、誘電体層3の厚さ寸法dが75μm以上100μm以下の場合に200μm以上430μm以下になされ、隣接する前記電極2a同士の間隔cは、80μm以上300μm以下になされている。 (もっと読む)


【課題】移動体を精度良く駆動する。
【解決手段】 移動体RSTのY軸方向の位置情報を、干渉計16yと、該干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダ((24A,26A1)、(24B,26B1))とを用いて計測し、その計測結果に基づいてエンコーダの計測値を補正する補正情報を取得するための所定の較正動作を実行する。これにより、干渉計の計測値を用いて、その干渉計に比べて計測値の短期安定性が優れるエンコーダの計測値を補正する補正情報が取得される。そして、エンコーダの計測値と前記補正情報とに基づいて、移動体をY軸方向に精度良く駆動する。 (もっと読む)


【課題】軟X線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止すること。
【解決手段】本発明のマスクケースは、マスク10を収容する内ケース上部1及び内ケース下部2と、この内ケースを運搬中に振動を防止するための上緩衝材3,下緩衝材4と、全体を収納する出荷ケース上部5及び出荷ケース下部6と、を備えて構成する。内ケース上部1の左右両端には、内ケース下部2を係合するための留め具(クリップ)11を取り付ける。内ケース下部2の上面周辺部には、マスク10の下面周辺部と係合するパッキン21を取り付ける。内ケース上部1の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴12を設ける。ガス抜き穴12の下部には、ガスを吸着できる吸着膜を貼り付ける。 (もっと読む)


【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション200では、ウエハを保持するステージWFS1の位置情報は、計測アーム71Aを含む第1の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション300では、ウエハを保持するステージWFS2の位置情報は、計測アーム71Bを含む第2の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置100は、ステージWFS2が計測ステーション300から露光ステーション200へ搬送される際、このステージWFS2の位置情報を計測可能な第3の微動ステージ計測系を有する。第3の微動ステージ計測系は、複数のYヘッド96,97を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計76a〜76dを含むレーザ干渉計システムとを含む。 (もっと読む)


【課題】コイルに流れる電流の遅れに起因して生じる、駆動すべき方向とは異なる方向への力を低減させる。
【解決手段】コイル4、及び複数の永久磁石を有するリニアモータと、コイル4に電流を供給する電流ドライバ9と、該電流ドライバ9への指令を生成する制御手段7とを備えたステージ装置であって、制御手段7は、コイル4と永久磁石との相対位置に基づいて算出した電気角を用いた正弦波を、リニアモータへの推力指令値に乗ずるコミュテーション処理により指令を生成し、更に、指令に対して、推力指令値に比例した振幅を持ち、かつ、正弦波と90度に位相がずれた正弦波の成分を含ませる。 (もっと読む)


141 - 160 / 724