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Fターム[5F031CA07]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理の対象物 (12,583) | マスク,レティクル (724)

Fターム[5F031CA07]に分類される特許

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【課題】取り付けおよび取り外しが容易で、しかも確実に本体に固定できるハンドルを有する基板収納容器を提供する。
【解決手段】基板収納容器は、所定の挿入方向に前記基部を擦動可能に案内する一対のレール溝7と、ストッパーリブ8とほぼ平行に形成される係合リブ9と、基部の挿入方向の先端部に形成され、前記係合リブ9に当接する脚部、及び該脚部の端部から前記基部の外側方向に延びて形成され貫通穴を持つ取付部14と、前記ハンドル3の基部をレール溝7に挿入して摺動させた後、前記貫通穴が前記係合リブ9を超えた後に、前記貫通穴に挿入される係止部材とを備え、前記係止部材の貫通穴への挿入により、当該係止部材と前記脚部で前記係合リブ9を挟持して、前記ハンドル3を前記容器本体1に固定する。 (もっと読む)


【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第1の計測手段と、前記第1の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第2の計測手段と、前記第1および第2の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第1の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第1の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する1つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】レチクルを保護する保護部材を設けた場合でも、レチクルを搬送して露光装置の取り付ける場合に、適当な位置に取り付け可能なレチクル搬送装置を提供する。
【解決手段】位置測定装置29はレチクル1の下面に形成された位置測定用マーク26の位置を測定し、これによりレチクル1の位置を測定する。位置測定装置30は、下蓋2bの下面に形成された位置測定用マーク27の位置を測定し、これにより下蓋2bの位置を測定する。レチクル1の位置と下蓋2bの位置が分かれば、レチクル1と下蓋2bの相対的な位置ずれが分かる。よって、搬送装置によりレチクル1を搭載した下蓋2bを搬送して露光装置にセットするとき、このずれを勘案して下蓋2bの停止位置を決定することにより、レチクル1を正しく露光装置にセットできる。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第1本体と、第1本体に対して移動可能である第2本体と、第1本体、第2本体、およびシールによって第2空間から第1空間が分離されるように第1本体と第2本体の間に配置されるシールであって、第1本体からある距離に位置するシールと、第1本体とシールの間に流体流を作り出し、第1空間と第2空間の間に非接触シールを生成して第1本体と第2本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第1本体と第2本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置などで使用される基板を位置決めするθZ駆動装置を小型にすることを課題とする。
【解決手段】ベース6に立設する円筒状のフレーム17と、フレーム17の内面に設けられてテーブル1をZ方向とθ方向に駆動するθZアクチュエータ15と、テーブル1がZ方向へ昇降可能となるよう支持する昇降支持部7と、テーブル1がθ方向へ回転可能となるよう支持する回転支持部4と、テーブル1の昇降位置および回転位置を取得するための位置検出部31と、を備え、昇降支持部7と回転支持部4と位置検出部31のすべてが、θZアクチュエータ15の内側にあって、かつθZアクチュエータ15のZ方向の高さにほぼ収まるよう配置されるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】
電子デバイスの製造設備内で基板キャリアを搬送するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】
キャリアを運ぶコンベヤ・システムに結合された複数のキャリア支持体を含むと共に、複数の基板ローディング・ステーションを含む電子デバイス製造設備の第1の基板ローディング・ステーションから第2の基板ローディング・ステーションへキャリアを搬送する要求を受信し205、少なくともこの搬送のために必要とされる時間が短くなり、且つ、コンベヤ・システムのバランスが維持されるように、第1の基板ローディング・ステーションから第2の基板ローディング・ステーションへ、キャリアを搬送するために、複数のキャリア支持体のうちの1つを割り当て207、第1の基板ローディング・ステーションからキャリアを運び209、第2の基板ローディング・ステーションへキャリアを運ぶ211ステップを含む。 (もっと読む)


【課題】フォトマスク18を光軸を回転中心として所定角度に亘り容易に回転できるようにする。
【解決手段】
感光性樹脂を塗布した被露光基板を保持する基板保持部11と、保持された被露光基板2の表面の高さと略同一となるように、基板保持部11の周囲に形成された載置棚12と、中央に孔部が形成されてなるとともに載置棚12上に端縁が載置され、パターン露光を行うためのフォトマスク18が上面に載置され、被露光基板に対向させつつその上面側に微小間隔をあけて保持するためのスペーサー15とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】移動の際の基板の位置ずれ、歪み、変形を抑制できる基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】マスクMの移動方向両側においてマスクMを所定圧で押圧して挟持する挟持部110と、マスクMの移動に伴う慣性力により、マスクMが移動する順方向と相反する逆方向に移動して、前記順方向側の前記挟持部110の押圧を減圧させると共に前記逆方向側の前記挟持部材110の押圧を増圧させる液体金属MLとを有する基板側面クランプ装置100を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置(29)のメンテナンス方法は、CZ軸駆動部(26)によってケース保持部(23)を上下方向の第1位置に配置する工程(S102)と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のCZ軸駆動部26のカバー部材のうち第1位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第1取り外し作業を行う工程(S106)と、第1取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第1位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第2取り外し作業を行う工程(S107)と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 ウェハステージの移動距離を短くして作業時間を短縮する。
【解決手段】 マスクステージ14は、マスクステージ基準マーク15を備えると共にマスク30を支持する。ウェハステージ16は、マスクステージ14に対して露光光の光軸方向に間隔をあけて配置され、ウェハ40を支持する。ナノインプリント装置24は、ウェハ40上にアラインメントマーク44を形成可能である。オンアクシスカメラ20は、マスクステージ基準マーク15とアラインメントマーク44とを投影光学系12を介して同時に撮像する。位置調整装置26は、マスクステージ14に対するウェハステージ16の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク15とアラインメントマーク44をオンアクシスカメラ20によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ16の位置を調整する。 (もっと読む)


【課題】容器本体に装着可能であり、基板支持部の寸法精度の向上を図り、基板支持部によって支持された基板の撓みを抑制することができる支持部材、及び支持部材を備えた基板収納容器を提供する。
【解決手段】開口を有し基板を収納する容器本体と、容器本体の開口を閉鎖する蓋体と、容器本体の内面に設けられ基板を支持する支持部材5と、支持部材を容器本体に固定する支柱部材51A,51Bとを有する基板収納容器であって、支持部材5は、基板を載置可能な複数の支持片61を有し、支柱部材51A,51Bは、支持片61を所定間隔で挟持する複数の棚部52を有し、支持片61は、棚部52間に嵌入されている。これにより、複数の支持片61が支柱部材51A,51Bとは、別部材として形成されているため、支持片61の成形が容易となり寸法精度を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】大型基板を複数の基板保持部で保持する露光装置において、隣接する基板保持部の間の段差と基板保持部全体の平面度を精度良く補正できる技術の実現。
【解決手段】投影光学系を介して原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、前記基板を保持する基板保持面が複数の領域に分割されている基板保持部と、前記基板保持部の前記複数の領域のそれぞれの姿勢及び位置を調整する駆動部と、前記基板保持部に保持された前記基板の平面度を計測する計測部と、前記計測部によって計測された結果に基づいて、前記駆動部を駆動する制御部とを有し、前記制御部は、前記複数に分割された領域のうち、隣接する領域の端部の間の段差を小さくし、且つ前記複数の領域で構成される基板保持面が平坦となるように前記駆動部を駆動する。 (もっと読む)


【課題】マスクのパターン形成領域の平面性を確保しつつ、マスクを保持することができるマスク保持装置、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】所定のパターンが形成されたパターン形成領域43及び該パターン形成領域43の周囲の周辺領域44を有する表面Rbと、該表面Rbの裏側の裏面Raとが形成されたレチクルRを保持する第1静電吸着保持装置25において、レチクルRの裏面Raを静電吸着する支持面37aを有する基体37と、基体37に設けられ、パターン形成領域43を含む大きさで形成された電極面39aを有する第1電極部39と、基体37に設けられ、第1電極部39の周囲に配置された第2電極部40と、を備える。 (もっと読む)


【課題】減圧乾燥処理の開始からパージング終了までの全処理工程時間を通してチャンバ内の雰囲気温度の変動を小さくすること。
【解決手段】この減圧乾燥ユニット12は、被処理基板Gの平流し搬送を行うコロ搬送路38Bをチャンバ40内に引き込み、基板リフト機構60によりチャンバ40内で基板Gをリフトピン62で上げ下げする。そして、チャンバ40内の雰囲気温度の変動を低減させるために、コロ搬送路の近くで基板Gの下を覆うように遮蔽板100を配置している。この遮蔽板100は、リフトピン62を昇降可能に貫通させるための円形の開口100aと、内部コロ搬送路38Bのコロ42Bとの干渉を避けるための矩形の開口100bとを有している。 (もっと読む)


【課題】容器本体を成形するための設備の大型化を抑制し、設備投資金額の増大を抑えて、容器本体の大型化を図ることが可能な基板収納容器を提供すること。
【解決手段】開口2aを有し基板Wを収納する容器本体2と、容器本体2の開口2aを閉鎖する蓋体3と、搬送用のフランジ部品4とを有する基板収納容器1において、容器本体2を、複数のパーツ7〜9に分割して形成し、分割された複数のパーツ7〜9を組み立てることで一体化する。このように、容器本体2を複数のパーツに分割することで、設備投資金額の増大を抑えて、容器本体2の大型化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】マスクブランクを大気に曝すことなく描画から熱処理までを行うことができるフォトマスクの製造装置を提供する。
【解決手段】描画手段100の真空状態にある描画チャンバ100a内でフォトレジスト塗布後のマスクブランク上にパターン像を描画する。描画後のマスクブランクを真空状態に保持された真空搬送路105内を通して熱処理手段110の真空状態にある熱処理チャンバ110a内に搬送する。そして、熱処理チャンバ110a内に搬送された描画後のフォトレジストを加熱しベーキングする。これにより素子精度・安定性およびパターン荒さを向上させ、抜け不良を低減させ、孤立スペースパターンの解像度を向上させる。 (もっと読む)


【課題】基板収納容器の蓋体を取り除くときに、瞬時に基板収納容器内外の圧力差を無くして、蓋体の開閉を問題なく行うことが可能な基板収納容器を提供する。
【解決手段】開口部を有し基板を収納する容器本体2と、容器本体2の開口部をガスケット部材によってシール可能に閉鎖する蓋体3と、を有する基板収納容器1であって、基板収納容器1内外の圧力を平衡状態にする圧力調整手段が設けられていることを特徴とする基板収納容器。 (もっと読む)


【課題】レチクル伸縮補正モデルを修正して、レチクル伸縮に伴う重ね合わせ誤差を補正する。
【解決手段】ステップ512でロット内のウエハのそれぞれにパターンが転写されるが、その転写に先だって、そのウエハに先の露光でパターンとともに形成されたアライメントマークが検出される(ステップ506)。パターン転写後、ステップ518にてパターンの重ね合わせ計測が行われる。ステップ522で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。パラメータ修正後の重ね合わせ誤差を算出することで、他のアライメント処理条件の最適化も同時に行える。 (もっと読む)


【課題】振動を軽減するためのモードと、加速、減速するためのモードとを備えたステージ装置を提供する。
【解決手段】天板62、第1固定子58、第1可動子59を有し、前記天板を所定の方向に走行させる第1リニアモータと、第2固定子58、前記第1可動子を両側から挟むように配置された一対の第2可動子64,64とを有し、前記天板を前記所定の方向に走行させる第2リニアモータと、前記第2可動子の前記第1可動子と対向する面のそれぞれに配置され、前記第2リニアモータの駆動力を前記第1可動子に伝達するための一対の伝達部材68,68と、前記第1リニアモータ、前記第2リニアモータ及び前記一対の伝達部材を制御する制御部とを備え、制御部は、前記第2リニアモータを駆動し前記伝達部材の一方を介して前記天板を移動させる第1モードと、前記第1リニアモータ及び第2リニアモータの双方を駆動し前記天板を移動させる第2モードとを含む。 (もっと読む)


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