【課題】マスク描画装置内でレチクル中心に対するパターン中心のズレを測定し、レチクル原版位置を修正することができ、レチクルの精度と収率の向上を図ることができる基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供する。
【解決手段】それぞれアクチュエータを内蔵し基板を押し当てることによって基板の位置決めを行う複数の位置決め手段（位置決めピン）と、アクチュエータを制御して、基板の位置決めする制御ユニットと、を備えることを特徴とする基板位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】チャックを複数の部材で構成する際、各部材の設置高さの違いによる露光むらを抑制する。
【解決手段】チャック１０を、複数のチャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃで構成する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃに、基板１を真空吸着する１つ以上の真空区画を設け、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅを含む領域に、基板１を真空吸着しない非真空区画を設けて、各チャック部材の真空区画により基板１を真空吸着する。各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さが微妙に異なり、チャック部材とチャク部材との境界１０ｄ，１０ｅに段差があっても、チャック１０に搭載された基板１は、境界１０ｄ，１０ｅを含む領域で真空吸着されないので、段差に倣うことなく緩やかに変形する。従って、各チャック部材１０ａ，１０ｂ，１０ｃの設置高さの違いによる露光むらが抑制される。 （もっと読む）

【課題】
安全性の点で有利な露光装置を提供する。
【解決手段】
基板（１）を露光する露光装置であって、露光装置本体（１２）と、前記露光装置本体（１２）に設けられた開口（２３，２４）を開閉可能なユニット（１３，１４）と、前記ユニット（１３，１４）の開および閉を許可する認証手段（１５，１６）と、前記認証手段（１５，１６）により前記開が許可されてから前記閉が許可されるまでの間、少なくとも一部の動作を禁止する制御手段（１０）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】省スペース化及び低コスト化を図ることができる温調装置、温調方法、ステージ装置及び露光装置を提供すること。
【解決手段】物体の温調を行う温調装置であって、前記物体に熱的に接触された第１空間と、絞り部を介して前記第１空間に接続された第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に前記絞り部を介して気体が流通するように前記第１空間及び前記第２空間のうち少なくとも一方の圧力を調整する圧力調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】 基板の位置ずれに起因する不具合の発生を低減させうる基板の操作装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】 本発明の基板を操作する操作装置は、基板を保持する保持部と、前記保持部を駆動する駆動部と、前記保持部により保持される基板の位置ずれの量を検出する検出器と、前記検出器により検出された位置ずれの量に応じた補正信号を発生する補正部と、を備え、前記基板の位置ずれは、前記補正信号に従って補正される。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板であっても撓みが少なく確実に基板を吸着して搬送できる剛性の優れた吸着搬送部材およびこれを用いた基板搬送装置ならびにこの基板搬送装置を用いた基板処理装置または基板検査装置を提供する。
【解決手段】 先端側が二股に分岐した板状体７の各先端部に基板８を吸着する第１の吸着部３_（１）を備えるとともに、第１の吸着部３_（１）と連通する吸引路４を内設してなる吸着搬送部材１において、板状体７は酸化アルミニウムの含有量が99.5質量％以上のセラミックスからなり、このセラミックスは、酸化カルシウム，酸化珪素および酸化マグネシウムを含み、酸化カルシウム，酸化珪素および酸化マグネシウムの合計100質量％に対して、酸化カルシウムおよび酸化珪素の含有量はそれぞれ20質量％以上37.5質量％以下であって残部が酸化マグネシウムであるとともに、酸化アルミニウムの平均結晶粒径が2.5μｍ以下である吸着搬送部材１である。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の位置制御をより精密に行うことが可能な露光装置及び露光方法を提供すること。
【解決手段】マスクを用いて基板に露光処理を行う露光装置であって、前記マスクを移動可能に保持するステージ装置と、前記ステージ装置に光を照射し、前記光の反射光を用いて前記ステージ装置の位置に関する情報を検出する光干渉装置と、前記光の光路周辺の空間の光屈折率を検出し、検出結果を用いて前記情報の補正を行う補正装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】位置計測用のマークが存在しない移動体の位置を管理することを可能にする。
【解決手段】 所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載された移動体ＷＳＴの位置をその移動座標系を規定する計測装置１８等で計測しつつ、プレート５０の一部をアライメント系ＡＬＧで検出するとともにその検出結果と対応する前記計測装置の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、その移動体ＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレートの位置、すなわち移動体の位置を前記計測装置で規定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置において、簡易な構造で確実にワークと金属製マスクを固定できるワーク保持治具を提供する。
【解決手段】処理チャンバと、プラズマ生成部と、ステージと、ワーク保持治具とで少なくとも構成され、プラズマ生成ガスを吸引しプラズマを処理基板上にダウンフローさせて基板を処理するプラズマ処理装置において、ワーク保持治具が、処理基板６０を所定の位置に保持すると共に磁気を生じさせるワーク保持台５０と、ワーク保持台に保持された処理基板上に載置固定される磁性体からなるメタルマスク８０とによって構成され、ワーク保持台が、ワーク保持台から延出する少なくとも一対の位置決めロッドを具備すると共に、処理基板及びメタルマスクには、所定の位置に位置決め用孔が形成され、処理基板及びメタルマスクを、位置決めロッドがそれぞれの位置決め用孔に貫通するようにワーク保持台に載置することにある。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板などの基板を収容して搬送または保管する際に用いられる基板ケースにおいて、ケース本体内に収容された基板の脱ガスによる汚染を低減する。
【解決手段】基板ケース１は、樹脂製の板材５１〜５５を接着剤で接合した一方のケース片５に対して、樹脂製の板材６１〜６５を接着剤で接合した他方のケース片６が着脱自在に取り付けられたケース本体２を有している。ケース本体２内には、基板収容空間３が形成されている。ケース本体２には、接着剤から発生する脱ガスをケース本体２の外部へ排出する排気孔７が設けられている。これにより、接着剤から発生する脱ガスを排気孔７からケース本体２の外部へ排出して除去することができる。 （もっと読む）

【課題】用力ケーブルから露光動作中のステージに伝達される振動を低減し、ステージ位置決め精度の劣化および解像力の劣化を低減する露光装置を提供する。
【解決手段】 マスクを移動させるマスクステージ２０と、ウエハ等の基板を移動させるプレートステージ３０と、前記マスクのパターンの像を前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において、前記マスクステージおよび前記プレートステージの少なくとも１つと本体構造体２とを反力板３と複数の用力ケーブル１を含むムービングケーブルで接続すると共に、前記複数の用力ケーブルの間に振動を減衰する減衰材５を介在し、ステージ駆動時に前記反力板に発生する振動を減衰することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ステージの温度調節において、流体循環系の流量を低減すること、または、流体循環系を不用にすること。
【解決手段】
基板（１０１）を保持するウエハステージ（４）または原版を保持するレチクルステージ（２）を有し、ウエハステージ（４）に保持された基板（１０１）を露光する露光装置であって、ウエハステージ（４）に設けられた気体室（１０３）と、気体室（１０３）の内部で気体の圧力を変化させてウエハステージ（４）の温度を調節する調節手段（１０７，１０８）と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液体の汚染状態を確認できる確認方法を提供する。
【解決手段】確認方法は、液体を介して露光光で露光される基板をリリース可能に保持する第１保持部で評価部材を保持することと、液体供給装置から供給された液体を評価部材の表面の第１領域に第１時間だけ接触させることと、液体供給装置からの液体を第１領域と異なる評価部材の表面の第２領域に第１時間と異なる第２時間だけ接触させることと、第１領域及び第２領域の表面状態に基づいて、液体供給装置から供給された液体の汚染状態を確認することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】永電磁石を有するキャリヤの状態を検知することにより確実な基板操作可能な基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、磁性材料を含むマスク２００を基板３００を介して磁気吸引することによりマスクおよび基板を保持するキャリヤと、永電磁石１０１から出る磁界を検知する磁気センサ１８０によりキャリヤの状態を検知する検知部１８５とを備える。キャリヤは、永電磁石を含み、永電磁石は、極性が可変の極性可変磁石と、極性可変磁石の極性を変更するための磁界を発生するコイルと、極性が固定された極性固定磁石とを含み、キャリヤの状態は、コイルが発生する磁界によって極性可変磁石の極性を制御することによって、極性可変磁石および極性固定磁石が発生する磁界によってマスクおよび基板を保持する第１状態と、マスクおよび基板を保持しない第２状態とのいずれかに設定される。 （もっと読む）

【課題】 基板ホルダの上面と基板の背面との固着力が問題とはならない基板ホルダを提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明システムと、放射線のビームの経路に配置される平らな物品を支持する物品支持部と、支持手段により支持される際に、物品の背面にバックフィルガスを供給するために物品支持部に配備されたバックフィルガス供給部と、投影の間、物品支持部に物品をクランプするクランプとを含む。本発明の一態様に基づいた装置は、バックフィルガス供給圧を減じる前にクランプを解除することを目的としてクランプおよび／またはバックフィルガス供給圧を調整するコントローラを具備する。 （もっと読む）

【課題】部材の汚染状態を確認できる確認方法を提供する。
【解決手段】確認方法は、液体を介して露光光で露光される基板をリリース可能に保持する第１保持部で第１部材を保持することと、露光光が照射可能な位置に移動可能な第２部材と液浸部材との間に形成された液浸空間の液体と、第２部材の表面とを接触させることと、液浸部材の一側に液浸空間が形成された状態で、液浸部材に対して第１部材及び第２部材を移動して、液浸部材と第１部材との間に形成された液浸空間の液体と、第１部材の表面とを接触させることと、第１部材の表面の状態に基づいて、第２部材の表面の汚染状態を確認することと、を含む。 （もっと読む）

【課題】固定された相対位置でパターニングデバイスと結合される基準ユニットを測定デバイスが含むリソグラフィ装置が提供される。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームにパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持体と、支持体を第一方向に移動する位置決めデバイスと、支持体に対するパターニングデバイスの相対位置を測定して測定信号を生成する測定デバイスとを含み、該測定デバイスは、固定された相対位置でパターニングデバイスに結合される基準ユニットと、支持体に対する基準ユニットの位置を測定する位置センサとを含み、位置決めデバイスは、測定信号に基づいて支持体の位置を補正する。 （もっと読む）

【課題】基板収容容器を、確実に精度良く、載置台上に載置可能な基板収容容器およびその位置決め構造を提供するものである。
【解決手段】本発明に係る基板収容容器１０は、載置台２００上に水平に載置、位置決めされ、その内部に基板Ｗが収容され、基板収容容器１０の、載置台２００の載置面２０１に載置される載置部１５に、先端が載置面２０１と平行な平坦面３１１に形成された突起部３１を少なくとも３つ設けると共に、漏斗状の凹部３２を少なくとも２つ設け、各突起部３１の平坦面３１１を載置面２０１に当接させ、平面同士を面接触させるようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）