【課題】ウェハ収納容器等の薄板収納容器の変形の検査における判定を正確に行うことができると共に、その検査効率を向上させる手段を提供する。
【解決手段】絶縁性を有し、薄板を１枚毎に支持する段ガイドを備えた薄板収納容器の検査装置が、上面および下面を有し、段落ガイドに支持されると共に導電性を有する導電板７と、上面および下面に、それぞれ隙間Ｃを介して配置された導電性を有するシャフトと、導電板に当接する導電性を有する接触子２５とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハに形成されたアライメントマークを利用して、半導体ウェハを移動させるための移動テーブルを高精度に位置決めすること。
【解決手段】グローバルアライメント調整用マークＤ、Ｅを使用してグローバルアライメントされた調整用ウェハ１８Ａがウェハチャック３６に保持された状態で第１のスライダ２６をＸ軸方向へ移動したとき、及び、第２のスライダ３０をＹ軸方向へ移動したときのラインＬ１、Ｌ２の位置の変化をアライメントユニット５０により、検出した結果に基づき、グローバルアライメント誤差及びステップ送り誤差の情報を得て、必要に応じて補正を施すことによりワークステージ３４を高精度に位置決めする。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置における基板テーブル位置をキャリブレーションする。
【解決手段】基板の表面に二次元パターン配列が作成されるように基板の表面にパターンを繰り返し照射すること５００と、この繰り返し照射に、基板の表面の別の場所にそのパターンを照射するために連続照射の合間に基板テーブルをずらすことを含めることと、２つの次元におけるパターンを読み出して、パターン読み出し結果を取得すること５１０と、２つの次元における基板テーブルの位置に応じて隣接パターンの読み出し結果から増分位置偏差を導出すること５２０と、増分位置偏差から、基板テーブルの位置誤差を、基板テーブルの二次元位置の関数として導出すること５３０と、位置に依存する位置誤差を用いて基板テーブルの位置をキャリブレーションすること５４０とを含む。 （もっと読む）

【課題】真空吸着した基板がこの真空吸着力によって撓むことなく、且つシール材の材質に関係なく確実に基板の引き剥がしができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】吸着ヘッド２０８９の下面に基板の裏面を吸着保持する基板保持装置において、基板保持装置には、吸着ヘッド２０８９の下面外周に位置して、基板の裏面をリング状に真空吸着するとともに基板の裏面の真空吸着した部分より内側への処理液の浸入を防止してシールするリング状の基板吸着部２０９５と、基板吸着部２０９５に吸着した基板を吸着ヘッド２０８９から引き離す方向に押圧するプッシャ２１００が取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハ収納容器の金属不純物を高回収率で回収し、容器内の金属汚染を高感度に分析し得る手段を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハ収納容器内に、シリコンウェーハならびにＨＦガスおよびＨＮＯ₃ガス発生源を配置した後に容器を密閉し、ガス発生源からＨＦガスおよびＨＮＯ₃ガスを発生させて５〜６０分放置した後に、容器内部に発生した液滴を回収し、次いで、回収された液滴中の金属成分を分析する。ガス発生源はフッ化水素酸、硝酸および硫酸を含む溶液である。 （もっと読む）

【課題】ラインセンサの配置調整レベルに依存せず、位置補正精度の再現性維持を図る。
【解決手段】基板を任意の場所に移載可能な移載手段と、移載手段における基板搬送軌道上に少なくとも１つ以上配設され、基板に加工を施す処理面と平行な平面座標に対する基板のエッジ位置を検出可能な検出手段１１、１２と、基板のエッジ位置の座標情報ａ、ｂを基板の移載機会毎に記憶する座標記憶手段と、検出手段１１、１２により検出した座標情報ａ、ｂと予め登録された基板移載時の正規位置の座標情報とを比較し、基板の位置ズレ量を演算する演算手段と、位置ズレ量に基づいて移載手段による基板搬送軌道の補正を行いながら、基板を移載先に載置する補正手段と、を備え、位置ズレ量を演算するためのパラメータを、前記各手段を実行することにより自動的に取得するキャリブレーション機能を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面にパーティクルが付着するのを防止することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１０はチャンバ１１内にウエハＷを載置するサセプタ１２を備え、該サセプタ１２には下部高周波電源２０が接続され、サセプタ１２の上部には電極板２３を内部に有する静電チャック４２が配置され、電極板２３には直流電源２４が接続され、下部高周波電源２０がサセプタ１２に所定の高周波電力を印加した後、直流電源２４が電極板２３に負電圧を印加することによって静電チャック４２がクーロン力等によりウエハＷを吸着する。 （もっと読む）

【課題】紫外線による劣化がなく、保存安定性に優れ、かつ、異物除去性能および搬送性能に優れたクリーニング機能付搬送部材を提供すること。
【解決手段】クリーニング機能付搬送部材１００は、搬送部材１０と、搬送部材の少なくとも片面に設けられたクリーニング層２０とを有する。クリーニング層２０は、９５％以上のゲル分率を有するポリエチレン系樹脂を含む。好ましくは、クリーニング層２０は、エネルギー線照射により架橋したポリエチレン系樹脂を含む。クリーニング層２０の融点は１８０℃以上であり、ビッカーズ硬度は２０以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイなどの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニング部材又はシートを提供する。
【解決手段】支持体に、耐熱性樹脂からなるクリーニング層が設けられてなるクリーニング部材又はシート、特にクリーニング層が、ガラス転移温度が１５０℃以上の耐熱性樹脂からなる上記構成のクリーニング部材又はシート、また支持体が、被洗浄装置内に搬送される搬送部材である上記構成のクリーニング部材、さらにシート状支持体に耐熱性樹脂からなるクリーニング層が設けられてなるクリーニングシートが、被洗浄装置内に搬送される搬送部材に設けられてなるクリーニング部材である。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置、半導体製造装置のプリメンテナンス周期決定方法、及び、半導体装置のプリメンテナンス方法に関し、半導体製造装置を製造ラインに投入する前に、プリメンテナンス周期を適正に設定する。
【解決手段】 裏面を鏡面研磨するとともに表面を裏面より高い鏡面度に研磨した裏面ウェハ５を製品用ウェハ３とは別個に格納できる裏面ウェハ格納部６と、格納した裏面ウェハ５をステージ１上に搬送する搬送機構２とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ等の試料の搬送中における異常の発生を抑制し、長期間安定して稼動することのできるプラズマ処理技術を提供する。
【解決手段】載置された試料２０３を吸引して保持する試料載置台２０４および試料載置台２０４上にプラズマを生成するプラズマ生成手段を備え真空処理室１０６と、バッファ室１０５内に配置され、ロードロック室に搬送された試料２０３をバッファ室１０５を介して試料載置台２０４に載置し、試料載置台２０４に載置された処理済みの試料２０３をバッファ室１０５を介してロードロック室に搬送する真空搬送手段２０１とを備え、真空搬送手段２０１による試料２０３の搬送経路には、搬出される試料２０３の位置を検出するセンサ２０２ａ、２０２bを備えた。 （もっと読む）

【課題】搬送容器の入れ替えおよび搬送を自動化して工場全体の自動化を図る。
【解決手段】半導体ウェハ１を収容可能なＦＯＵＰ２間における半導体ウェハ１の移し替えが行われる移し替え部４と、複数のＦＯＵＰ２を保管可能なストッカー５と、移し替え部４とストッカー５との間でＦＯＵＰ２を移動させるクレーン７とによって構成され、半導体ウェハ１をＦＯＵＰ２から他のＦＯＵＰ２に移し替える移し替え部４と、ＦＯＵＰ２の保管を行うストッカー５とが一体化されたことにより、半導体ウェハ１の移し替え時のＦＯＵＰ２の配置および移し替え後のＦＯＵＰ２の移動を自動で行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 搬送体と搬送面との接触箇所を特定することが容易な気体浮上搬送装置及び検査方法を提供すること。
【解決手段】 搬送体に向けてエアを噴射して搬送面１５から浮上させるエア浮上搬送装置１において、前記エアの噴射により前記搬送面１５から浮上して搬送される検出用平板基板２と、該検出用平板基板２と前記搬送面１５との接触を検出する検出手段４とを備える。 （もっと読む）

【課題】収納スペース内に人が介入することなく、基板搬送ロボットのハンド部材上にスタート用または再スタート用の基板を載置することができる基板搬送方法及び基板搬送システムを提供する。
【解決手段】基板搬送ロボット１が収納された収納スペース３外に位置する基板載置スペース５に、基板搬送ロボット１の基板を載置するハンド部材を移動させる工程と、収納スペース３外に移動させたハンド部材上にスタート用または再スタート用の基板を載置する工程と、基板を載置した状態で基板搬送ロボット１を駆動させて基板を収納するカセット２と基板を処理する基板処理装置４とにおける基板を収納する位置を認識して基板搬送ロボット１を制御する制御装置に記憶する工程と、認識した位置によってカセット２と基板処理装置４とに設置された基板を基板搬送ロボット１によって搬入出するように駆動制御する工程とからなる基板搬送方法及び基板搬送システム。 （もっと読む）

【課題】非接触支持されるワークの接触／非接触の状態を簡易かつ確実に検査することができる非接触支持装置の検査方法を提供する。
【解決手段】搬送装置は、導電性を有しかつ平坦面である表面部から気体を噴出させる浮上テーブル１２を備え、該浮上テーブル１２による気体の噴出に伴い板状のワークＷが非接触状態で支持される。かかる搬送装置の接触検査に際し、テストワークＷＴを導電性面側を下にして浮上テーブル１２に搭載するとともに、浮上テーブル１２の表面部とテストワークＷＴとにテスタＴを接続する。そして、その状態で浮上テーブル１２から気体を噴出させてテストワークＷＴを浮上状態とし、テスタＴによる計測結果に基づきこれら浮上テーブル１２とテストワークＷＴとの接触の状態を検査する。 （もっと読む）

【課題】処理の歩留まりを向上させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器内に配置され内部でプラズマが形成される処理室２０７と、この処理室内の下部に配置されその上面に処理対象の試料が載置される試料台２１２と、前記処理室２０７の上方に配置されこの処理室内に処理用のガスを導入するための導入孔を有するプレート２０８と、前記真空容器２０２と連結されて減圧された内部を前記処理対象の試料が搬送される搬送容器２１８と、この搬送容器２１８の内部と前記真空容器内とを連通する通路を開閉するゲートバルブ２１７とを備え、前記真空容器内に前記導入孔から所定のガスを導入しつつこの真空容器内の圧力と前記搬送容器内の圧力とを略同等に調節した後に前記ゲートバルブ２１７を開放して前記試料を前記真空容器２０２と前記真空搬送容器２１８との間で搬送する。 （もっと読む）

【課題】基板移載作業の効率化を図ることができる半導体製造装置の提供を目的とする。
【解決手段】移載機１４は、ボートの両端側にサイドダミー基板をそれぞれ移載した後、両サイドダミー基板の間に処理用基板を移載する。この移載機１４が移載作業を開始する前に、操作部３の移載方式選択手段８により第１の移載方式を選択すると、処理用基板の移載状態に関わらず、一旦ボートの所定位置に積載したサイドダミー基板を移動させることがなく、短時間で基板の移載作業を終了する。操作部３の移載方式選択手段８により第２の移載方式を選択すると、処理用基板の移載状態に応じて、一旦ボートの所定位置に積載したサイドダミー基板を移動させ、処理用基板の処理に最適な位置へサイドダミー基板を配置する。 （もっと読む）

【課題】 レーザ干渉計とミラーを用いて位置計測をするステージ装置において、計測誤差の影響を低減することを目的とする。
【解決手段】 レーザ干渉計と、前記レーザ干渉計からの光を反射するミラーとを用いてステージの位置を計測するステージ装置であって、前記ミラーの形状を算出するミラー形状算出手段と、前記ミラー形状算出手段からの出力に基づいて、前記ミラーの温度を調節する温度調節手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】安価な装置で、ウェーハの中心をウェーハキャリアの中心軸上に合わせて搬送することのできる、ウェーハ搬送方法及びウェーハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】ウェーハＷの搬送経路Ｒの途中で搬送中のウェーハＷの外周を検出して基準保持位置Ｃ１からの偏移量を算出し、搬送位置を修正するようにし、ウェーハＷの中心を搬送先の中心位置Ｃ２と合致するように修正して搬送することができるようにした。 （もっと読む）

【課題】
カメラ１台でウェーハの回転位置を検出することを可能にする。
【解決手段】
ステージ５と、ウェーハのノッチ部を含むウェーハ外周輪郭像を撮像する１台の撮像装置７と、垂直基準線１３と水平基準線１４とを有する固定された第一視野１２を設定する第一視野設定部９ａと、第一視野よりも狭くかつウェーハの外周のエッジ位置を検出するための垂直基準線に平行な２本のエッジ位置検出線１７ａ、１７ｂを有する可動な第二視野１６を設定する第二視野設定部９ｂと、ウェーハ外周輪郭画像からノッチ代表位置とのずれ量を求めるノッチ代表位置検出部９ｄと、ずれ量に基づいて、第二視野を移動させる第二視野移動部９ｃと、エッジ位置１８ａ、１８ｂを検出するエッジ位置検出部９ｅと、エッジ位置と水平基準線との距離を求め、この距離に基づいて回転量を演算するウェーハ回転量演算部９ｆと、を備えている。 （もっと読む）