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Fターム[5F031GA22]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 移送装置、手段 (13,292) | 保持部 (5,617) | 真空吸着によるもの (850)

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【課題】プローブ装置の省スペース化を実現すると共に、ウェハをテストするテスタの稼働率の低下を防止することができる半導体検査装置を提供することである。
【解決手段】本発明にかかる半導体検査装置は、複数のウェハ1が格納されたロットボックス2がセットされるカセット7と、ロットボックス2からウェハテスト部へウェハを搬送するウェハ搬送部と、カセット7とウェハテスト部との間に複数のウェハのうち所定のウェハを格納するウェハバッファ8と、を備えるプローバを有する。 (もっと読む)


【課題】ロボットの解体・点検作業を必要とするようなトラブルが発生する前に、ロボットの異常状態を検出すること。
【解決手段】本発明のロボットにおいては、ロボット制御手段40が、アーム駆動手段及び手首軸駆動手段を駆動してエンドエフェクタ25を所定の実位置に移動させ、エンドエフェクタ25が所定の実位置に到達した時点でのロボットアーム28の姿勢及び手首軸の角度位置を検出し、その検出結果に基づいて所定の実位置に対応する計測位置を算出して記憶し、異なる時点において取得された複数の計測位置の時系列データに基づいてロボットの状態を判定する。 (もっと読む)


【課題】表示パネルモジュール組立装置において、渡す側の吸着力を残したままパネルの受け渡しを行うと、パネルにストレスがかかり割れや強い湾曲が生じる、あるいは吸着パッド痕を残すなどの課題が発生する。また、逆に弱いと受け渡すときに位置ずれを生じたり、吸着が外れパネル自体の反りによって吸着部分からの浮き上がりが生じたりする課題がある。
【解決手段】表示パネル基板搬送を受け渡すときの吸着力を弱モードに下げることで、パネルにストレスもかからず、また吸引も外れることがない。そして、その方式として、開放弁によって吸引系を開放することで容易に安定した弱吸引モードを作ることができる。さらに、弱段階吸引圧力として開放弁の開放時間で制御できるため、高速化されても制御が容易である。 (もっと読む)


【課題】 積層された半導体ウエハと保護シートとを取り違えることなく吸着して搬送することができるようにする。
【解決手段】 可撓性アーム26の先端部下面で保護シート22を吸着して持ち上げる。この場合、保護シート22の重さは1〜2gと比較的小さい。このため、保護シート22を持ち上げた可撓性アーム26の撓み量は比較的小さい。一方、可撓性アーム26の先端部下面で半導体ウエハ23を吸着して持ち上げた場合には、半導体ウエハ23の重さが保護シート22の重さの数十倍とかなり大きいので、可撓性アーム26の撓み量は比較的大きい。可撓性アーム26の撓み量は歪みゲージ27で検出される。そして、半導体ウエハ23と保護シート22との重さの相違から、今、可撓性アーム26で持ち上げているものが保護シート22および半導体ウエハ23のいずれであるか判別される。この後、保護シート22または半導体ウエハ23を吸着部材で吸着して別の箇所に搬送する。 (もっと読む)


【課題】基板の搬送を効率よく行い、基板処理のスループットを向上させる。
【解決手段】塗布現像処理システム1には、ウェハ搬送装置40の周囲に、第1〜第4のバッファ装置41〜44と第1〜第4の処理装置群G1〜G4が配置されている。第1〜第4のバッファ装置41〜44は、複数のウェハを鉛直方向に多段に保管するバッファ部を有している。第1〜第4のバッファ装置41〜44は、バッファ部搬送機構によってレール45上を第1〜第4の処理装置群G1〜G4に対向する位置に移動可能になっている。第1〜第4の処理装置群G1〜G4の各処理装置には、当該処理装置と第1〜第4のバッファ装置41〜44との間でウェハを搬送するウェハ搬送機構が設けられている。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸が有るチャック上から、異物を効果的に除去する。
【解決手段】表面に複数の凸部11を有するチャック10の上方に吸着手段31を配置し、Xステージ5及びYステージ7によりチャック10を移動して、チャック10上の異物を吸着手段31の下方へ移動し、吸着手段31を昇降させて、吸着手段31によりチャック10上の異物を吸着して除去する。あるいは、チャック10の上方に吸引手段32を配置し、Xステージ5及びYステージ7によりチャック10を吸引手段32の下方で移動して、吸引手段32によりチャック10上の異物を吸引して除去する。吸着手段31又は吸引手段32により、チャック10上の異物を吸着又は吸引して除去するので、チャック10の表面に凹凸が有っても、チャック10上の異物が効果的に除去される。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハの表面に貼付けられた保護テープに剥離テープを適切に貼付け、この剥離テープを剥離することで、保護テープを剥離テープと一体にして半導体ウエハか円滑に剥離する。
【解決手段】貼付け部材54に帯状の剥離テープTsを巻き掛け供給し、貼付けブロック56により半導体ウエハWに貼付けられた保護テープPTの表面における剥離開始側の外周端部にのみ剥離テープTsを押圧して貼付ける。その後、当該貼付け箇所よりもウエハ中心側から他端まで貼付けローラ54を押圧転動させて剥離テープTsを保護テープPTの表面に貼付けるとともに、当該貼付けローラ54とウエハWの相対的な水平移動に伴って、保護テープPTを剥離テープTsと一体にしてウエハ表面から剥離して回収する。 (もっと読む)


【課題】ウェーハをカセットに格納する工程期間内において、ウェーハのオリフラ合わせも共に実施することができる半導体ウェーハのオリエンテーションフラット合わせ装置を提供すること。
【解決手段】ウェーハバンド1は、載置台7の下部に2本のスプリング6を有し、ウェーハハンド1のカセットからの出し入れの間、この2本のスプリング6の長さを調整することにより、ウェーハ10に対して、ウェーハ10の吸着口13(別図)を回転中心とする試行的な小回転を与え、ウェーハ10の刻印No.(11)が刻印読み取り穴14(別図)を介して読み取り可能となる位置を探索する。この読み取り可能となる位置は、オリフラが正しく合わせられた位置なので、この位置で前記の試行的な小回転を停止する。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハが撓むことなく支持できるとともに、当該半導体ウエハを外部から遮蔽した状態で収納することのできる半導体ウエハ収納キャリアを提供すること。
【解決手段】半導体ウエハWを支持する支持体12と、この支持体12を介して半導体ウエハWを収納するキャリア本体11とにより半導体ウエハ収納キャリア10が構成されている。キャリア本体11は、開口部18が形成されているとともに、側壁14の内面に左右一対の受け部20が形成されている。支持体12は、半導体ウエハWを支持する支持部25と、この支持部25の一端側に連なる遮蔽部26とを備え、支持部25が受け部20上を摺動することでキャリア本体11に対して出し入れされる。 (もっと読む)


【課題】研削済みのウエーハをチャックテーブルから搬出する際に、ウエーハを汚すことのない研削装置を提供する。
【解決手段】ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石を回転可能に支持した研削手段と、該チャックテーブルに保持されたウエーハを該チャックテーブルから搬出する搬出手段とを備えた研削装置であって、前記搬出手段は、ウエーハを吸引保持する吸着面を有する吸着部104と、該吸着部の吸着面が露出するように該吸着部を覆う枠体102と、該枠体に連結された搬送アーム98とから構成され、枠体には枠体の外周から該吸着部の吸着面に水が伝わり該吸着面が常時水で濡れるように複数の水噴射孔120を含む水供給手段が配設されている。 (もっと読む)


【課題】CVD装置により薄膜を成膜する基板を、昇温してある成膜プレート上に載置した時の基板の反りを防止することにより、膜質や歩留りの低下を防ぐ。
【解決手段】連続式平行平板型CVD装置に用いる成膜プレートへの基板載置方法において、基板を前記成膜プレート上に載置する前および/または載置した後に、基板の略中央部に対し加熱を行う。 (もっと読む)


【課題】ウエハの割れや、落下を回避してウエハを安定して支持することのできる支持装置を提供すること。
【解決手段】半導体ウエハW等の板状部材を支持する支持装置10であって、当該支持装置10は、板状部材Wに接触する接触面11Aと、この接触面11A側に貫通する貫通孔11Bを備えた環状の接触体11と、貫通孔11Bを通じて板状部材Wに吸引力を付与する吸引手段14と、接触体11の受容部12を備えた保持体13と、接触面11Aを受容部12に出没可能として接触体11に支持された板状部材Wを切り離し可能とする切離手段15とにより構成されている。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板とその保護シートの高速搬送を実現し、併せて、高精度で高品質の積載梱包を達成する。
【解決手段】ガラス基板梱包装置は、保護シート3上にガラス基板4が載置される載置ステーションと、保護シート3とガラス基板4とを交互に積載する積載ステーションと、保護シート3上に載置されたガラス基板4を保護シート3と共に保持し、積載ステーションに積載する積載手段としてのガラス基板積載装置とを備える。ここで、ガラス基板積載装置を構成するロボットアームは保護シート3およびガラス基板4を保持する保持部43を有し、この保持部43は、ガラス基板4を吸着する複数の吸着パッド45と、載置された状態のガラス基板4からはみ出た保護シート3の辺縁部分のうち互いに対向する2つの辺縁部3a,3bを挟持する挟持部46とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板浮上装置、基板検査装置及び基板検査方法において、簡単な構成で確実にガラス基板の浮上状態を検知する。
【解決手段】基板(G)に対しエアを吐出するステージ部2と、基板(G)の浮上状態を、基板(G)に接触することで検知する検知部(3)と、を備える構成とする。好ましくは、検知部(3)は、ステージ部2の上部に配置される構成とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス板表面を直接吸着パッドで吸着することなく、ガラス集合体からガラス板を取り出すことができるガラス板保護用合紙等を提供する。
【解決手段】通気性を有し、ガラス板14上縁部がガラス板裏面側に傾くように、ガラス板移動装置10に近接して配置される場合に、ガラス板14表面を覆った状態でガラス板14と交互に積層され、表面側からガラス板14とともに吸着された状態で、ガラス板移動装置10上に移動され、ガラス板14から分離されるガラス板保護用合紙15であって、一縁部側は、ガラス板14がガラス板移動装置10に近接して配置される場合にガラス板下縁部となるガラス板14一縁部側の表面に対向して配置され、他縁部側は、ガラス板14がガラス板移動装置10に近接して配置される場合にガラス板14上縁部となるガラス板14他縁部側の表面側からガラス板14裏面側に折り込まれ、ガラス板14の一縁部を挟み込んだ構成とした。 (もっと読む)


【課題】
ウェーハと保護部材とを外周部に形成された接着層を介して張り合わせたワークの保護部材側の接着層の内側を切削加工した後に、切削加工された保護部材を確実かつ容易に除去することが可能なワーク分離方法及び切削加工装置を提供すること。
【解決手段】
ワークWの保護部材12側の接着層13の内側を切削加工した後に、切削加工された保護部材12中央上面を分離手段16により吸引吸着して上昇させる。 (もっと読む)


【課題】設置床面積の少ない選別装置を提供する。
【解決手段】選別装置は、予め定められた一定の基準に沿って区分けされた対象物(W)を該区分けに対応する複数のトレイ(51)のうちの対応するものに収容する選別装置において、略同一円周上にそれぞれ配置される、区分された上記対象物が搬入される入口部(IN)及び上記複数のトレイと、当該円の中心部に配置される、上記対象物を保持可能な保持部(43)が先端部に設けられたアーム(42)を回転軸部(41)の外周囲に複数有し、上記対象物を上記アームに保持した状態で回転可能な回転アーム部(40)と、を備え、上記回転アーム部全体の昇降動作によって上記入口部に搬入された対象物を上記アームに保持し、上記回転アーム部の回転によってアームに保持した対象物を上記入口部から当該対象物の区分けに対応するトレイまで搬送する。 (もっと読む)


【課題】 ローディングされたポッドを固定する際に、固定力によるポッドの変形を防止可能なFIMSシステムを提供する。
【解決手段】 FIMSシステムにポッドを固定するポッド固定システムよりポッドに作用する固定力に対し、当該固定力に起因するポッドの変形に対してFIMSシステムに埋設される位置決めピンが当該変形を抑制する抗力を発生可能となるように固定力の作用線を配置する。 (もっと読む)


【課題】第1基板処理装置3の所定位置から第2基板処理装置5の所定位置へ基板を移送するまでの移送時間(搬送時間)を大幅に短縮すること。
【解決手段】システムベース19の第1隣接領域A1に先端側に引出用吸着パッド31を有した複数の引出アーム27がX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19の第2隣接領域A2に送出用吸着パッド49を有した複数の送出アーム45がX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19に中間領域Amに搬送用吸着パッド67(85)を有した複数の搬送アーム63(81)がY軸方向に移動可能かつX軸方向に間隔を置いて設けられたこと。 (もっと読む)


【課題】第1基板処理装置3から第2基板処理装置5へ基板を搬送するまでの移送時間を大幅に短縮すること。
【解決手段】システムベース19の第1隣接領域A1に、先端側に引出用吸着パッド31を有した複数の引出アーム27がX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19の第2隣接領域A2に、先端側に送出用吸着パッド49を有した複数の送出アーム45がX軸方向へ移動可能かつY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19のX軸方向の一端側に、複数の規制ローラ63,73が鉛直な軸心周りに回転可能かつ第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方向に間隔を置いて設けられ、システムベース19のX軸方向の他端側に、複数の押えローラ89が鉛直な軸心周りに回転可能かつ第1隣接領域A1から第2隣接領域A2にかけてY軸方に間隔を置いて設けられたこと。 (もっと読む)


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