【課題】検査ステージに載置される基板の貼り付きを防止する。
【解決手段】凹凸状のステージ手２の基板保持部２０１〜２１４の表面に規則正しく配列された凸形のピン状パターン２９を複数設け、基板と載置面との接触面積を小さくする。ピン状パターン２９を基板保持部の全表面に渡って設け、基板保持部の中央付近に真空吸着及び圧空用の穴を複数設ける。真空吸着及び圧空用の穴を基板のサイズに合せその４隅に対応付けて配置する。ピン逃げ穴を千鳥配置とする。基板保持部の基板載置面にプール状窪み部を設け、そこに真空吸着用穴と圧空用穴を設ける。 （もっと読む）

【課題】搬送する基板の大きさに応じて基板保持機構の大きさを調整し得る基板搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明による基板搬送装置１００は、処理台Ａ上の基板Ｂを搬送する基板搬送装置であって、処理台Ａから基板Ｂを持上げる第１基板持上げ機構１１０と、基板Ｂの大きさに合わせて開閉し、持上げた基板Ｂを保持する基板保持機構１２０とを備える。さらに処理台Ａは、第１固定台Ａ１と第２固定台Ａ２とを含み、基板保持機構１２０は、第１固定台Ａ１と第２固定台Ａ２との間を移動し、第１基板持上げ機構１１０と基板保持機構１２０との協働により、基板Ｂを第１固定台Ａ１から第２固定台Ａ２に搬送する。 （もっと読む）

【課題】基板の洗浄処理を効率よく行うことができ、設置スペースを小さくすることができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】供給台３０と、回収台３６と、供給台３０から回収台３６までの搬送経路に沿って配置され、基板を洗浄する一連の洗浄処理工程を行う複数個の洗浄処理槽２２，２４，２６と、互いに隣接する洗浄処理槽２２，２４，２６の間に配置された仮置台３２，３４と、基板が収納されたラック２，４，６，８を搬送する複数の搬送アーム部４４，４６，４８とを備える。搬送アーム部４４，４６，４８は、それぞれ、搬送経路の互いに異なる区間において、基板が収納されたラック２，４，６，８を、供給台３０又は仮置台３２，３４から洗浄処理槽２２，２４，２６に搬送する第１の動作と、洗浄処理槽２２，２４，２６から仮置台３２，３４又は回収台３６に搬送する第２の動作とを繰り返す。 （もっと読む）

【課題】搬送効率の良いワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】搬送路に沿って配置された複数のステージにワークを搬送テーブルに載せて搬送するワーク搬送装置において、並存してワークを交互に保持して搬送する第１及び第２搬送機構と、第１及び第２搬送機構を制御する制御部と、を備え、第１搬送機構は、搬送方向に配置された複数の搬送テーブルからなる第１搬送テーブル列を搬送方向において進退し、第２搬送機構は、搬送方向に配置された複数の搬送テーブルからなる第２搬送テーブル列を搬送方向において進退し、制御部は、第１及び第２搬送機構を交互に進退させ、進退する第１及び第２搬送テーブル列相互間の搬送テーブル同士の位置が同期したときに、ワークの保持をこれから前進する搬送テーブル列側に切換える。 （もっと読む）

【課題】表示パネルモジュール組立装置において、渡す側の吸着力を残したままパネルの受け渡しを行うと、パネルにストレスがかかり割れや強い湾曲が生じる、あるいは吸着パッド痕を残すなどの課題が発生する。また、逆に弱いと受け渡すときに位置ずれを生じたり、吸着が外れパネル自体の反りによって吸着部分からの浮き上がりが生じたりする課題がある。
【解決手段】表示パネル基板搬送を受け渡すときの吸着力を弱モードに下げることで、パネルにストレスもかからず、また吸引も外れることがない。そして、その方式として、開放弁によって吸引系を開放することで容易に安定した弱吸引モードを作ることができる。さらに、弱段階吸引圧力として開放弁の開放時間で制御できるため、高速化されても制御が容易である。 （もっと読む）

【課題】縦向きの半導体基板を処理するモジュール式半導体基板洗浄システムを提供する。
【解決手段】このシステム１１は、メガソニックタンク式洗浄機１５および後続のスクラバ１７，１９を含むことができる複数の洗浄モジュールを特徴としている。入力モジュール１３は、横向きの基板を受け取って縦向きに回転させ、出力モジュール２３は、縦向きの基板を受け取って横向きに回転させる。各モジュール（入力、洗浄および出力）は、基板支持体２５を有し、隣接するモジュールの基板支持体が等間隔で離間するように配置されている。これらのモジュールは、複数の基板ハンドラ３３を有するオーバヘッド搬送機構３１によって連結されている。これらの基板ハンドラは、その下方にあるモジュールの基板支持体と同じ距離（Ｘ）で離間されている。 （もっと読む）

【課題】基板の保持位置が上下変動するような基板搬送を行う場合において、その位置変動に対して、基板保持位置が滑らかに追従することで、基板保持位置と基板高さ位置の相対位置関係を常に一定の位置に保つことが可能な基板移動装置および基板搬送装置および基板撮像装置を提供する。
【解決手段】基板保持機構と、前記基板保持機構を流れ方向に移動可能な基板保持機構移動機構とからなる基板移動装置において、前記基板保持機構を上下動可能な基板保持機構上下動機構を備えており、例えばさらに基板保持機構上下動機構に対して上下動対象重量をキャンセルする上下動制御を行う上下動制御手段をさらに具備する基板移動装置および基板搬送装置および基板撮像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】支持足の突出量として十分な量を確保できるようにする。
【解決手段】基台３上に昇降用圧電素子５を配設し、その上に下部連結体７を介して３個の駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃを連結し、これら駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃ上には上部連結体１１を介して上下方向に長尺の支持足１３を連結、支持する。基台３には受台１７を立設し、この受台１７の上部中央の開口１７ａを支持足１３が昇降するように構成し、支持足１３は各駆動用圧電素子９ａ，９ｂ，９ｃの上下方向への伸縮によって、支持足１３の先端（上端）が受台１７の上面よりも上、下に移動する。そして、基台３、受台１７、昇降用圧電素子５、下部連結体７、ピエゾ駆動手段１５および支持足１３が一体となった駆動ユニット１９を形成し、３個の駆動ユニット１９をほぼ円周上に配列して位置決め装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】搬送装置固有の占有面積を削減し、基板サイズの大型化／多様化の影響を受けないで、安定した高速搬送が実現できる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともステージ１０と、ワイヤー供給ヘッド２０と、ワイヤー架張ヘッド３０と、ワイヤーを架張するためにワイヤー架張ヘッド３０を搬送方向と直角に移動するための第１駆動軸４０と、ワイヤー供給ヘッド２０とワイヤー架張ヘッド３０とを搬送方向に移動するための第２駆動軸５０ａ、５０ｂとから構成されてなる基板搬送装置である。 （もっと読む）

【課題】連続してガラス基板に処理を施す基板処理装置にて、１枚当たりの処理時間を短縮せず処理能力を増加、また処理能力を減少せず１枚当の処理時間を延長する基板処理装置。
【解決手段】第１又は第２基板搬送機構１０Ａ、１０Ｂを用いた処理動作が終了した直後に、第２又は第１基板搬送機構を用いた処理動作を開始する基板処理装置。また、第１又は第２基板搬送機構による処理動作の開始時点は、基板搬送機構が１基の場合の処理動作の開始時点と同一時点であり、第１又は第２基板搬送機構による処理動作の終了時点は、基板搬送機構が１基の場合の次のガラス基板への処理動作の開始時点の直前迄である基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】簡易、低コストの構成で浮上搬送式の基板処理を行うようにした基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送方向（Ｘ方向）からみてステージ８０の左右両サイドにそれぞれ複数個のローラまたはサイドローラ１１０が搬送方向に一定ピッチで一列に配置されている。ステージ８０上で基板Ｇは、真下（ステージ上面）の噴出口１００から受ける気体の圧力で空中に浮きながらその左右両側端部がステージ両サイドのサイドローラ１１０の上に乗る。サイドローラ１１０の回転運動により、ステージ８０上で浮上する基板Ｇはサイドローラ１１０の上を転々と伝わりながら搬送方向（Ｘ方向）に平流しで移動する。 （もっと読む）

【課題】マガジン内に混在して収納された未処理の基板と処理済の基板の判別を視覚的に的確に行うことができる基板の処理装置および処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】マガジン５に積層して収納した未処理の基板８を順次搬出し、これに所定の処理を施した処理済の基板８’をマガジン５に順次回収する基板の処理装置において、処理済の基板８’が未処理の基板８が収納されていた元の位置と変位した位置に回収され、処理済の基板８’と未処理の基板８が互いにずれた位置にマガジン５内に収納されるようにした。これにより両者の判別を視覚的に的確に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】板状のワーク１０を搬送するウォーキングビーム式の搬送装置において、板状のワーク１０の搬送過程におけるワーク１０の破損を防止する。
【解決手段】移動ビーム３上におけるワーク１０の搬送方向所定間隔おきにワーク受け部４が設けられており、このワーク受け部４の受け面が、凸凹形状に形成されている。これにより、ワーク受け部４上に異物がのった場合、この異物が凹部４ｂに入りこむ確率が高くなるので、ワーク受け部４上にワーク１０が当接したときに、ワーク受け部４の凸部４ａとワーク１０との間に異物が挟まりにくくなり、異物が原因となってワーク１０が損傷することが回避される。 （もっと読む）

【課題】所定位置における基板の状態を極力維持した状態で基板交換を開始させる。
【解決手段】基板（Ｗ１又はＷ２等）が載置され、該基板に対する所定の処理が行われる領域と基板交換が行われる交換位置とを含む所定範囲の領域内で移動可能なウエハステージ（ＷＳＴ）と、所定の搬送経路に沿って前記交換位置に対して基板を搬送するロードスライダ（５０）を含む搬送系と、基板に対する前記処理が終了した後に交換位置で基板交換が可能になる第１のタイミングを考慮して、前記処理中の第２のタイミングでロードスライダ（５０）による基板交換のための一連の作業が所定位置（５２）で開始されるように、搬送系を制御する制御装置（２０，２１）と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】被搬送物に割れが発生してもビームから脱落し難く、そのまま搬送可能なウオーキングビーム式搬送装置を提供する。
【解決手段】ウオーキングビーム式搬送装置１８によれば、固定ビーム３０に設けられた水平支持軸５２の先端部と可動ビーム３４に設けられた水平支持軸５２の先端部とが搬送方向において互いに重複していることから、基板１６の底面に対して互いに隣接する固定ビーム３０による支持範囲と可動ビーム３４による支持範囲とが搬送方向において互いに重複するので、割れなどによって複数に分割された基板１６であっても好適にそのまま搬送される。 （もっと読む）

【課題】エージング装置に適用でき，パレットをラックの棚に簡単に的確に入出庫させ，エージングの処理を高速化して適正な時間管理を容易にする自動倉庫を提供する。
【解決手段】棚６を備えたラックにスタッカクレーン２でパレット８を入出庫させるプッシュ・プル装置１０を備えている。プッシュ・プル装置１０は，パレット８を棚６への押し込み作動と棚６から引き出す作動とを行うプッシュ・プル爪１２，プッシュ・プル爪１２の往復移動を直動案内装置を介して往復移動させる駆動装置，及びプッシュ・プル爪１２をパレットへの係脱位置と解除位置とにチルトさせるリンク機構を有する。 （もっと読む）

【課題】 検査箇所を変更する際の移動時間とともに検査時間を短縮でき、検査効率を向上させることができる基板検査システム及び基板検査方法を提供すること。
【解決手段】 ガラス基板３を浮上させる基板浮上機構と、浮上したガラス基板３の端部を保持して一方向に搬送する基板搬送機構と、ガラス基板３の表面を光学的に拡大して観察する検査部Ｅと、ガラス基板３と平行で、かつ、ガラス基板３の搬送方向Ｃに直交する方向Ｖに検査部Ｅを移動する門型アーム１４と、基板搬送機構よりも精度よく搬送方向Ｃに検査部Ｅを移動する微動機構４９とを備えている。 （もっと読む）

【課題】 第１ビームおよび第２ビームの協働によって搬送される基板のずれや脱落が好適に防止されるウオーキングビーム式熱処理装置を提供する。
【解決手段】 ウオーキングビーム式熱処理装置１０によれば、共通の基板１６を協働して搬送するための固定ビーム（第１ビーム）２０および可動ビーム（第２ビーム）２２のうちの外側に位置する固定ビーム２０に、その固定ビーム２０により支持された基板１６の側縁に係合してその基板１６を案内する横方向案内突起７４が備えられているので、固定ビーム２０および可動ビーム２２の協働によって搬送される基板１６のずれや脱落が好適に防止される。 （もっと読む）

【課題】可及的に加熱立ち上がり時間を短くでき、或いは加熱処理時間を短縮できるウオーキングビーム式熱処理装置を提供する。
【解決手段】ウオーキングビーム式熱処理装置１０によれば、固定ビーム２０および可動ビーム２２は、透明な石英管から構成されたものであることから、その透明な石英管を通してハロゲンヒータ（加熱体）７８からの輻射エネルギが基板の裏面へ到達できるので、従来のウオーキングビーム式熱処理装置に比較して、均一に急速加熱することが容易となり、立ち上がり時間或いは加熱処理時間が短縮される。この結果、熱処理が基板の特性に影響を与えることが可及的に少なくされる。 （もっと読む）

【課題】 断線対策費用等の増大を招くこと無く、トラブルの発生を未然に防止することができるワーク搬送装置を提供する。
【解決手段】 各レール８１〜８３とワーク送り装置とでリードフレームを搬送するワーク搬送装置を構成する。各レール８１〜８３を支持する支持ブロック８４を昇降機構８７で昇降自在に支持し、昇降機構８７を、エアシリンダで水平駆動される板カム９１と、支持ブロック８４に設けられたカムフォロア９２で構成する。板カム９１を水平移動してカム面９３を転動するカムフォロア９２を上下動することで、カムフォロア９２が設けられた支持ブロック８４及び各レール８１〜８３を昇降して、各レール８１〜８３をワーク送り装置の各搬送爪に対して昇降できるように構成する。 （もっと読む）