【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにする。
【解決手段】シート剥離装置１０は、ウエハＷの一方の面に貼付された接着シートＳを剥離用テープＰＴを介してウエハＷから剥離する。接着シートＳは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とを含む。シート剥離装置１０は、基材シート及び接着剤層を切断する切断手段１６と、剥離用テープＰＴを繰り出す繰出手段１２と、接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１４と、ウエハＷと剥離用テープＰＴと相対移動させることで接着シートＳを剥離可能な移動手段１５とを備えている。切断手段１６は、一端のみが基材シートの外縁に達する切り込みを形成可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】移動の際の基板の位置ずれ、歪み、変形を抑制できる基板保持装置、ステージ装置、露光装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】マスクＭの移動方向両側においてマスクＭを所定圧で押圧して挟持する挟持部１１０と、マスクＭの移動に伴う慣性力により、マスクＭが移動する順方向と相反する逆方向に移動して、前記順方向側の前記挟持部１１０の押圧を減圧させると共に前記逆方向側の前記挟持部材１１０の押圧を増圧させる液体金属ＭＬとを有する基板側面クランプ装置１００を用いる。 （もっと読む）

【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにする。
【解決手段】シート剥離装置１０は、ウエハＷの一方の面に貼付された接着シートＳを剥離用テープＰＴを介してウエハＷから剥離する。接着シートＳは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とを含む。接着シートＳは、基材シートの外縁に両端がそれぞれ達する切り込みを備えて複数の分割シートを形成する。シート剥離装置１０は、剥離用テープＰＴを繰り出す繰出手段１２と、接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１４と、ウエハＷと剥離用テープＰＴと相対移動させることで接着シートＳを剥離可能な移動手段１５とを備えている。 （もっと読む）

【課題】ピンチャックを採用した基板保持装置であって、反ったウエハを平面矯正し、正常に吸着することができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】複数のピン状凸部６が形成された底部２２、２３と、複数のピン状凸部６の外周に位置するように底部２３に形成された隔壁部７と、底部２２の中心付近に貫設された真空排気のための真空穴１０とを備えたチャック本体２１を有し、ピン状凸部６を含む載置面に基板２が載置された際に基板２と底部２２、２３との間に形成された領域２４、２５を真空排気することで基板２を吸着保持する基板保持装置２０であって、底部２２、２３は、中心領域とその外周に設けられた外周領域とを含み、中心領域の深さが外周領域よりも深い。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる重ね合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数の基板を位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、対向方向に直交する方向へ移動可能な第３ステージと、第２ステージを重力方向に支持する支持機構と、第３ステージの移動に非接触で追従して第２ステージ及び支持機構が一体的に移動するように、第３ステージと支持機構の間に設けられた推力伝達部とを備える。 （もっと読む）

【課題】光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、光ビームにより描画されるパターンの走査毎のずれを抑制して、描画精度を向上させる。
【解決手段】チャック１０と光ビーム照射装置２０とを相対的に移動しながら、描画データを光ビーム照射装置２０の駆動回路２７へ供給する。チャック１０に設けられた受光手段（ＣＣＤカメラ５１）により、光ビーム照射装置２０のヘッド部２０ａから照射された光ビームを受光し、受光した光ビームから、予め、光ビームにより描画されるパターン２の走査毎のずれを検出し、検出結果に基づき、描画データの座標を補正する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハステージの移動距離を短くして作業時間を短縮する。
【解決手段】 マスクステージ１４は、マスクステージ基準マーク１５を備えると共にマスク３０を支持する。ウェハステージ１６は、マスクステージ１４に対して露光光の光軸方向に間隔をあけて配置され、ウェハ４０を支持する。ナノインプリント装置２４は、ウェハ４０上にアラインメントマーク４４を形成可能である。オンアクシスカメラ２０は、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４とを投影光学系１２を介して同時に撮像する。位置調整装置２６は、マスクステージ１４に対するウェハステージ１６の位置を調整可能であって、かつ、マスクステージ基準マーク１５とアラインメントマーク４４をオンアクシスカメラ２０によって撮像することにより得られる画像データに基づいて、ウェハステージ１６の位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジを滑らかに描画して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０を、光ビームによる基板１の走査方向に複数設け、走査方向の各光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）を、走査方向に対して互いに異なる角度に傾けて配置し、基板１に描画するパターンのエッジを構成する線の角度に応じて、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０の内の１つ又は２つ以上を用いて、パターンのエッジを描画する。パターンのエッジを構成する線の角度が、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０のいずれの空間的光変調器（ＤＭＤ２５）の角度とも大きく異なるときは、走査方向の複数の光ビーム照射装置２０を用いてパターンのエッジを描画すると、互いに異なった傾きの光ビーム照射領域が重なり合って、１つの光ビーム照射装置２０だけを用いるときよりもパターンのエッジが滑らかに描画される。 （もっと読む）

【課題】高精度な露光を実現する。
【解決手段】 サブルーチン２０１及びステップ２０５において、投影光学系ＰＬの最良結像面及び多点ＡＦ系のオフセット成分を較正情報として検出する。ステップ２１５でのアライメント系ＡＬＧによるウエハアライメントマークの計測中に、多点ＡＦ系により、ウエハの露光対象面の面形状に関する情報（Ｚマップ）を検出し、ステップ２１９では、走査露光中におけるウエハステージのＸＹの位置指令プロファイルとともに、オートフォーカス・レベリング制御に関する位置指令（Ｚ，θｘ，θｙ）に関するＺ位置指令プロファイルを作成し、ステップ２２１においてその位置指令に基づいてオープン制御を行いつつ、走査露光を行う。 （もっと読む）

【課題】露光装置のフットプリントの狭小化を図る。
【解決手段】投影光学系ＰＬ等を備える露光ステーション２００とアライメント装置９９等を備える計測ステーション３００とが、それぞれの基準軸ＬＶ，ＬＨが直交するように、配置されている。さらに、露光ステーション２００と計測ステーション３００とのそれぞれから離間する基準軸ＬＶ，ＬＨの交点上に、粗動ステージＷＣＳ１，ＷＣＳ２間で微動ステージＷＦＳ１，ＷＦＳ２をリレーするためのセンターテーブル１３０が設置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の搬送に用いる基板トレイ上に基板を平面度良く載置する。
【解決手段】複数の第１支持ピン６２上に載置された基板Ｐは、複数の第２支持ピン６３によりその下面が押圧されることにより、その撓みが抑制される。そして、撓みの抑制された基板Ｐが、基板トレイ９０上に載置されるので、基板を基板トレイ９０上に基板を平面度良く載置できる。基板Ｐは，基板Ｐの端部を下方から支持する基板搬送ロボットにより複数の第１支持ピン６２上に載置されるために、複数の第１支持ピン６２は、基板Ｐの端部を支持することができず、基板Ｐは、複数の第１支持ピン６２に載置された状態で、その端部が自重により垂れ下がっているが、複数の第２支持ピン６３によりその垂れ下がりが抑制される。 （もっと読む）

【課題】突き上げピンと突き上げピンを上下に移動するモータとを有する複数の突き上げピンユニットを用いて、基板のロード／アンロードを行う際、異常発生時に、全ての突き上げピンユニットのモータを迅速に停止させて、基板の損傷を防止する。
【解決手段】複数の突き上げピンユニットを、複数のグループに分ける。各同期制御回路６０において、グループ内の各突き上げピンユニットのモータ１１から発生された異常信号を検出し、グループ内の少なくとも１つの突き上げピンユニットのモータ１１からの異常信号を検出したとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させると共に、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０へ異常を通知し、また、通信ケーブル５２を介して他の同期制御回路６０から異常の通知を受けたとき、グループ内の全ての突き上げピンユニットのモータ１１を停止させる。 （もっと読む）

【課題】搬送部とステージ等との間の受け渡しにおいて、電力が供給されない時間を短縮する。
【解決手段】基板を載置するホルダ本体と、基板をホルダ本体に静電吸着させる静電吸着部と、ホルダ本体を搬送する第１の搬送部から静電吸着部へ電力を供給する第１の搬送部用端子と、第１の搬送部との間でホルダを受け渡してホルダを搬送する第２の搬送部から静電吸着部へ電力を供給し、第１の搬送用端子と異なる位置に配された第２の搬送部用端子とを備える基板ホルダが提供される。 （もっと読む）

【課題】 基板のステージ載置後の相対位置を求めて簡単に精密な位置決めを行う。
【解決手段】 基板位置決め装置は、ステージ５とステージ移動機構５１とカメラ６より構成され、カメラ６に基板Ｗの表面が撮像される。低倍率でアライメントマーク２０４を撮像した基板回転中心位置情報を用いるセンタリング処理によって基板Ｗの回転中心位置を位置補正する。次に、ステップＳ１８において、低倍率で撮像したアライメントマーク２０５とスクライブライン領域２０３を用いた基板端部位置情報から基板Ｗの位置を計測し、その計測結果に基づいてステップＳ２０において基板Ｗの回転角度補正を行う。つづいて、ステップＳ２１において傾斜角度補正を行う。そして、ステップＳ２２において、セットされた高倍率にてアライメントマーク２０４を撮像し、アライメントマーク２０４の重心位置を計算して基板の位置を補正して、基板の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】ステージを移動面に沿って移動させる。
【解決手段】移動面を移動するステージに対して用力を供給する用力供給装置（１５５）が、第１軸部（２３２）、第１支持部（２３４，２３５）、第２軸部（２３８）及び第２支持部（２３９）を備え、第１軸部は第１支持部により第１軸の方向及び第１軸回りに移動可能に支持され、第２軸部は第２支持部により第２軸の方向及び第２軸回りに移動可能に支持されている。このように用力供給装置を少なくとも４自由度を有する機構とすることにより、ステージが２次元面内で、第１、第２軸方向、及び各軸回りの回転方向に移動しても、用力供給装置がその移動の妨げとなることがないので、流体の供給にチューブなどの配管を用いる場合と比較して、チューブを引きずることによるステージの位置制御性の低下を完全に回避することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置において、パターニングデバイス及び／又はテーブルを支持する支持構造、並びに、基板を保持する基板テーブルの改良型材料、及び、それらを製造する方法を提供すること。
【解決手段】基板テーブル又はパターニングデバイス支持体はエアロゲルを含む。エアロゲルは極めて軽量であってもよく、例えば、エアロゲルは、０．５〜５００ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内、好ましくは１〜１００ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内、最も好ましくは１〜１０ｍｇ／ｃｍ^３の範囲内の密度を有していてもよい。エアロゲルは、シリカゲルから作成されていてもよい。シリカゲルから作成されたエアロゲルは１．９ｍｇ／ｃｍ^３の密度を有していてもよく、エアロゲルから空気が排気された場合でも１ｍｇ／ｃｍ^３の密度を有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】制御手段が停止した場合のテーブルの惰性進行をバネの反力により抑制し、テーブルに過度の負荷が発生したエマージェンシーにおいてのみ静圧軸受けを接地させる２段構えのフェールセーフ機構を実現できるようにする。
【解決手段】本体ベース１と、本体ベース１上で静圧軸受け３，４により空気浮上され、リニアモータによりＹ方向に移動し、保持した基盤等を所定の位置まで搬送する位置決めテーブル機構５を備えた基盤搬送装置において、本体ベース１上に設置され、伸縮動作により突出し、テーブル機構５と接触してＹ方向への進行を抑制するよう構成されたリーフスプリング１０と、リーフスプリング１０が一定量以上変位したときに押下されるリミットスイッチ１１と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージの駆動方向によって発生する微小振動を適切に処理し、１つのウエハ内の露光精度を均一に保つ露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】原版を保持する原版ステージと、基板を保持、及び移動可能とする基板ステージと、原版のパターンを基板に投影する投影光学系と、基板ステージの位置を計測する位置計測手段と、該位置計測手段の計測値に基づいて、基板ステージの駆動を制御する制御手段と、を有し、ステップ・アンド・リピート方式によって原版のパターンを基板に露光する露光装置であって、制御手段は、基板ステージが、基板を位置決めするために露光位置に向けて駆動する際、予め測定した、基板ステージの駆動方向による、目標位置、倍率、若しくは回転のうち、少なくとも１つのずれ量に基づいて、基板ステージの駆動位置の補正を実施する（Ｓ１０３〜Ｓ１０７）。 （もっと読む）

【課題】レチクル伸縮補正モデルを修正して、レチクル伸縮に伴う重ね合わせ誤差を補正する。
【解決手段】ステップ５１２でロット内のウエハのそれぞれにパターンが転写されるが、その転写に先だって、そのウエハに先の露光でパターンとともに形成されたアライメントマークが検出される（ステップ５０６）。パターン転写後、ステップ５１８にてパターンの重ね合わせ計測が行われる。ステップ５２２で露光前アライメント計測と露光後重ね合わせ計測との結果を用いて露光中のレチクル伸縮変動量を算出し、これを補正するため、レチクル伸縮補正モデルのパラメータを修正する。修正された前記モデルを用いて露光によるレチクル熱変形に伴う重ね合わせ誤差を補正し、その上で次の露光対象のウエハにパターンを転写する。パラメータ修正後の重ね合わせ誤差を算出することで、他のアライメント処理条件の最適化も同時に行える。 （もっと読む）