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Fターム[5F031HA53]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 処理時の固着、保持 (16,861) | ステージ、チャック、サセプタ (15,090) | 動作 (3,584) | 微動テーブル(精密位置決め) (1,086)

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【課題】位置計測系の周期誤差が発生しても、精度良く周期パターンの位置を検出する。
【解決手段】可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。ここで、位置計測系の計測周期(図10(B)及び10(C)に示される例では0.25μm)の自然数倍と異なるピッチ(図10(C)の例では2.03125μm(なお、図10(B)の例では2μm))の周期パターンを計測用マークとして用いることにより、計測周期に等しい位置計測系の周期誤差が発生しても、検出精度を損なうことなく、計測用マークの位置情報を計測することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】投影光学系と基板との間を液体で満たして露光処理する場合においても、基板とホルダとの間に液体が浸入することを防止する。
【解決手段】液体1を介して露光される基板Pを保持して移動するステージ装置であって、前記基板Pを支持する複数の支持部34と、前記複数の支持部34の周囲に設けられ、該複数の支持部34が支持する前記基板Pの側面との間にギャップを形成する周囲部材30と、を備え、前記周囲部材30は、該周囲部材の側面部に開口する流路62と、前記ギャップから前記流路62に向かって傾斜する傾斜面5と、を含む。 (もっと読む)


【課題】リソグラフィ装置のエンコーダ型センサシステムの位置精度を増大させる。
【解決手段】基準構造に対するリソグラフィ装置の基板テーブルの位置を測定するエンコーダ型センサシステムを含むリソグラフィ装置が開示される。エンコーダ型センサシステムは、エンコーダセンサヘッドおよびエンコーダセンサターゲットを含み、リソグラフィ装置は、エンコーダセンサターゲットを収容するための凹所を備える。 (もっと読む)


【課題】基板ステージ装置を迅速に組み立てる。
【解決手段】基板ステージ装置の製造工場において相互位置などがそれぞれ調整された、X粗動ステージ23X、Y粗動ステージ23Y、重量キャンセル装置40、及び本体部51を、分解せずにステージユニット20として輸送し、その輸送先で基板ステージ装置の再組み立てに用いる。再組み立て時におけるX粗動ステージ、Y粗動ステージ23Y、重量キャンセル装置40、及び本体部51相互間における位置調整が不要となるので、基板ステージ装置を迅速に組み立てることができる。 (もっと読む)


【課題】CD一様性に影響を与えるMSDの変動性の測定を改良する。
【解決手段】テスト方法は、異なる特定の周波数および軸で比較的大きな動的位置決め誤差を恣意的に注入しながら装置を数回動作させること(504)を含む。関心周波数帯域に亘って所与の軸について注入された誤差、の異なる周波数および振幅について、付与されたパターンにおける誤差(CD)の変動(CDU)が測定される。前記測定および注入された周波数の知識を使用した計算(508、510)によると、注入された誤差の周波数のそれぞれと相関する周波数帯域における動的位置決め誤差の変動を解析できる。パターニング動作のパラメータおよび注入軸と測定軸との関係に基づいて、相関関数(CF)が前記計算で使用される。装置を低減された速度で動作させ、かつ、走査スリットフィルタ応答のヌル周波数によって決定される周波数で誤差を注入することによって、CD感度が測定される。 (もっと読む)


【課題】走査露光装置のスループットの点で有利な基板ステージの移動順序と基板上の複数のショットそれぞれでの走査方向とを得ること。
【解決手段】走査露光装置の基板ステージの初期位置、前記基板ステージに保持された基板上の複数の計測点それぞれを計測するための複数の計測位置、前記基板上の複数のショットそれぞれを露光するための複数の露光位置、及び、前記基板ステージの最終位置を前記基板ステージに順次移動させる順序と前記複数のショットそれぞれでの走査方向とを、特定のノード及び移動コストの設定の下で定式化された巡回セールスマン問題の解を求めて決定する。 (もっと読む)


【課題】振動ミラーを用いて被検面の面位置を検出する際に、計測値のドリフトを小さくして、計測精度を向上させる。
【解決手段】被検面の面位置情報を検出するAF系90において、検出光DLを被検面に斜めに投射する投射系90aと、その被検面で反射される検出光を受光する受光系90bと、投射系90a内で検出光DLを反射する反射面が形成された可動部と、その可動部を支持する1対の支持部とを有する振動ミラー38と、振動ミラー38の支持部が固定される保持部材48と、振動ミラー38の可動部を振動させる駆動部49と、受光系90bで得られる検出信号をその可動部の振動に同期して処理する信号処理系25と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 (もっと読む)


【課題】定盤上の塵を簡単な構造で容易に除去する。
【解決手段】重量キャンセル装置40のベース41aの下面に取り付けられたベースパッド100では、軸受面106aから定盤12に向けて噴出する加圧空気が、コアンダ効果により軸受面106aに連続して形成された傾斜面107に沿って流れる。この際、定盤12上の塵Dがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤12から離れる方向に案内される。加圧気体は、フィルタ部材126で濾過されてベースパッド100外に排気される。ベースパッド100は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上12の塵Dを吸引できるので構造が簡単である。 (もっと読む)


【課題】基板ステージ、パターニングデバイスステージ(例えばマスクステージ)、冷却デバイス等の移動により、リソグラフィ装置の投影系(投影レンズとも呼ばれる)に作用する振動または他の外乱の発生を抑制する。
【解決手段】投影系は、アクティブレンズマウントによってリソグラフィ装置の基準構造に取り付けられる。アクティブレンズマウントは、上面27を持つ上部と、底面28を持つ底部とを有する。上部および底部は弾性構造50によって両側で相互接続される。さらに30、40で示す圧電アクチュエータ−センサ複合体によって相互に接続される。適切な電気信号を用いて圧電素子30、40を介して上部および底部の間に作用する所望の力を導出することができる。 (もっと読む)


【課題】重量キャンセル装置を含むステージ装置のメンテナンスを容易かつ迅速に行う。
【解決手段】X粗動ステージ23XをX軸方向に案内するベースフレーム14は、露光動作時を含む露光装置の通常使用時に重量キャンセル装置40をガイドする定盤12よりも+X側に大きく突き出しており、重量キャンセル装置40を定盤12から外れた位置に位置させることができる。従って、重量キャンセル装置40の上方に、その支持対象物である微動ステージ50を位置させたまま、その重量キャンセル装置40のメンテナンス作業を下方から行うことができる。また、重量キャンセル装置40を定盤12から外れた位置で下方に移動させることにより、その重量キャンセル装置40を基板ステージ装置PSTから取り外すことができるので、容易に重量キャンセル装置40を基板ステージ装置PSTから外部に搬出できる。 (もっと読む)


【課題】 半導体チップにAu膜を形成すると、半導体チップとウエハシートとの粘着力が高まり、ウエハシートを剥離し難くなる。
【解決手段】 保持機構が、相互に分離された複数の半導体チップが表面に貼付されたウエハシートを保持する。吸着ステージが、保持機構に保持されたウエハシートの背面に対向するように配置され、少なくとも、第1の方向に隣り合う2つの半導体チップに対応する領域に対向し、該ウエハシートに対向する対向面に凹凸が設けられている。保持機構に保持されたウエハシートの背面に、対向面の凸部の頂部を接触させた状態で、排気装置が、該対向面と該ウエハシートとの間の空間を減圧する。対向面に、第1の方向に並んだ2つの半導体チップのうち一方に重なる第1の領域と、他方に重なる第2の領域とが画定されており、第2の領域内の凸部の頂部は、第1の領域内の凸部の頂部を第1の方向に並進移動させても重ならないように分布している。 (もっと読む)


【課題】 エンコーダシステムを用いた位置計測装置において、計測誤差による影響を低減させることを目的とする。
【解決手段】 対象物を搭載して移動可能な移動体と、前記移動体の位置を計測可能なエンコーダ型の第1の計測手段と、前記第1の計測手段による計測と同時に、前記移動体の位置を計測可能、あるいは前記対象物または前記移動体に形成されたマークの位置を検出可能な第2の計測手段と、前記第1および第2の計測手段の計測結果にもとづいて、前記第1の計測手段の計測誤差を算出し、該計測誤差にもとづいて前記第1の計測手段を補正する補正手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】作業効率の低下を招くことなく、基板における露光領域の変形に関する情報を容易に計測する。
【解決手段】露光光の照射処理が行われる基板B上の複数の照射領域SAにそれぞれ設けられ、各照射領域における変形に関する情報を計測する変形計測装置Gと、温度による基板の変形に関する情報を、変形計測装置とは独立して計測する第2変形計測装置G2とを有し、変形計測装置及び第2変形計測装置は、露光光の照射処理によりパターニング形成されてなる。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバのシール性能が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】装置は、第1本体と、第1本体に対して移動可能である第2本体と、第1本体、第2本体、およびシールによって第2空間から第1空間が分離されるように第1本体と第2本体の間に配置されるシールであって、第1本体からある距離に位置するシールと、第1本体とシールの間に流体流を作り出し、第1空間と第2空間の間に非接触シールを生成して第1本体と第2本体の間の移動を可能にするように配置された流体供給源と、第1本体と第2本体の互いに対する移動の間、距離を制御するように構成されたコントローラと、を備える。 (もっと読む)


【課題】半導体製造装置などで使用される基板を位置決めするθZ駆動装置を小型にすることを課題とする。
【解決手段】ベース6に立設する円筒状のフレーム17と、フレーム17の内面に設けられてテーブル1をZ方向とθ方向に駆動するθZアクチュエータ15と、テーブル1がZ方向へ昇降可能となるよう支持する昇降支持部7と、テーブル1がθ方向へ回転可能となるよう支持する回転支持部4と、テーブル1の昇降位置および回転位置を取得するための位置検出部31と、を備え、昇降支持部7と回転支持部4と位置検出部31のすべてが、θZアクチュエータ15の内側にあって、かつθZアクチュエータ15のZ方向の高さにほぼ収まるよう配置されるよう構成した。 (もっと読む)


【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、互いに独立して移動可能な第1、第2テーブルと、投影光学系の直下に液体を供給して液浸領域を形成する液浸システムと、投影光学系と第1、第2テーブルの一方との間に液浸領域が維持される第1状態から、投影光学系と第1、第2テーブルの他方との間に液浸領域が維持される第2状態に遷移するように、投影光学系の直下に液浸領域を維持しつつ、投影光学系の下方で第1、第2テーブルを共に移動する駆動システムと、を備え、第1テーブルは、基板の載置領域及びその周囲領域を有し、周囲領域と基板との隙間からの液体の流出を抑制するように周囲領域に近接させて基板を載置領域に載置し、基板は、第1テーブルによって液浸領域に対して相対的に移動される。 (もっと読む)


【課題】高速かつ信頼性の高い、リソグラフィ装置のステージ位置を較正するユーザフレンドリな改良型較正方法を提供する
【解決手段】ステージ位置を較正する較正方法が、パターニングデバイスのパターンを基板上に投影すること、投影パターンの結果として生じる位置を測定すること、および被測定位置からステージ位置の較正を導出することを含み、測定の間に、基板が、基板の中心軸の周りで、回転開始位置から少なくとも1つの他の回転位置に向かって回転させられ、投影パターンの位置が、基板の少なくとも2つの異なる回転位置のそれぞれについて測定され、投影の間に生じるパターンの位置の投影偏移と測定の間に生じるパターンの位置の測定偏移との少なくとも一方が、基板の異なる回転位置のそれぞれで測定された投影パターンの位置を平均することによって求められる。 (もっと読む)


【課題】アライメント装置の小型化を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】アライメント装置は、被接合物91を保持するステージ12と、ステージ12を摺動可能に支持する支持部材と、ステージ12の側方から押圧力を加えることによって、ステージ12を略水平平面に平行な方向に移動する位置調整機構50とを備える。位置調整機構50は、押圧点PT11においてステージ12をX方向に押圧する押圧力付与部51と、押圧点PT12においてステージ12をY方向に押圧する押圧力付与部52と、押圧点PT13においてステージ12をY方向に押圧する押圧力付与部53とを有する。 (もっと読む)


【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにする。
【解決手段】シート剥離装置10は、ウエハWの一方の面に貼付された接着シートSを剥離用テープPTを介してウエハWから剥離する。接着シートSは、基材シートと、この基材シートの一方の面に設けられた接着剤層とを含む。接着シートSは、基材シートの外縁に一端のみが達する切り込みを備えている。シート剥離装置10は、剥離用テープPTを繰り出す繰出手段12と、接着シートSに剥離用テープPTを貼付する貼付手段14と、ウエハWと剥離用テープPTと相対移動させることで接着シートSを剥離可能な移動手段15とを備えている。 (もっと読む)


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