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Fターム[5F031JA23]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 検出の目的 (2,253) | 存在の有無、存在位置(アドレス) (967) | 対象がボート/キャリアの溝や収納ウエハ等 (88)

Fターム[5F031JA23]に分類される特許

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【課題】 板状体の正面を塞がずに、かつ光源と受光素子とを備えている投受光センサを用いて、板状体を確実に検出する。
【構成】 検出装置は板状体が所定位置に存在するか否かを検出する。検出装置は、板状体の一側面へ向けて斜めにスポット状の検出光を投光する光源と反射光を受光する受光素子とを備えている投受光センサと、投受光センサから見て板状体よりも遠方にあり、かつ板状体が存在しない場合、検出光を拡散反射する拡散反射部と、投受光センサへ入射する反射光の所定の強度以下であることから、板状体を検出する検出部、とを備えている。板状体の側面が透明の場合、板状体の側面へ入射した検出光は板状体の内部で複数回反射し投受光センサとは異なる方向へ出射し、板状体の側面が鏡面状の反射面の場合、板状体の側面へ検出光は斜めに入射して投受光センサとは異なる方向へ正反射する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板が格納容器から飛び出しているか否かを高速かつ確実に検出することができるウェーハマッピング装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のウェーハマッピング装置では、照明光学系が、ウェーハ側面に対して垂直に交わる線状スリット光を、各ウェーハの複数箇所に照射する。第1および第2の撮像部は、前記線状スリット光が照射されているウェーハの側面をそれぞれ第1および第2の撮像画像として撮像する。格納状態検出部は、前記第1および第2の撮像画像が撮像されている場合には、三角測量方法で前記ウェーハの前記格納容器からの飛び出し量を算出し、前記第1および第2の撮像画像の何れか一方のみが撮像されている場合には、前記線状スリット光の反射光が画像面上で結像する結像位置と、基準位置と、を比較することにより、前記ウェーハが前記格納容器から飛び出しているか否かを判定する。 (もっと読む)


【課題】ウエハを多段に収納するカセット内のウエハを安全に取り出すこと。
【解決手段】進入可否判定部が、移載対象となるウエハの直下および直上のクリアランスに基づいてハンドが進入可能であるか否かを判定する。そして、進入可否判定部によって進入可能であると判定されたならば、位置補正部は、ハンドの最終的な進入位置を、マッピングされた収納位置に基づいて算出し、算出した進入位置に基づいてロボットを制御するようにロボットシステムを構成する。 (もっと読む)


【課題】リングボートでウエハの飛び出しとリング状プレートの飛び出しとを検出することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板12及び基板支持部70の基板支持体の既定位置からの飛び出しをそれぞれ検出する飛び出し検出手段は、第1の飛び出し検出センサ92と、第2の飛び出し検出センサ94と、第1の飛び出し検出センサ92及び第2の飛び出し検出センサ94を支持する飛び出し検出センサ支持部と、前記飛び出し検出センサ支持部を基板12又は基板支持部70の載置方向に移動する移動手段とを有し、第2の飛び出し検出センサ94は、第1の飛び出し検出センサ92よりも前記基板支持体から離れ、かつ、第1の飛び出し検出センサ92が設けられた位置における飛出し検出センサ支持部の移動方向の前面より前側の位置に設けられている。 (もっと読む)


【課題】移載室内のエア滞留発生を抑制して、移載室内における確実なエアフロー形成を実現する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、基板を保持した状態で処理室内に対して搬入出される基板保持体と、未処理基板を基板保持体に保持させるチャージ動作および処理済基板を基板保持体から取り出すディスチャージ動作が行われる移載室と、移載室内にクリーンエアを吹き出すクリーンユニットと、を備えた基板処理装置において、クリーンユニットを、平面多角形状に構成された移載室内における角部に配設する。 (もっと読む)


【課題】処理済みの被処理基板をカセットの空になっている任意のスロットに載置すること。
【解決手段】基板処理装置は、複数のスロットSを有するカセットCから被処理基板Wを取り出して処理する。基板処理装置は、被処理基板Wを処理する基板処理部45と、被処理基板WをカセットCから基板処理部45へ搬送するとともに、基板処理部45で処理された被処理基板Wを基板処理部45からカセットCへ搬送するための搬送部32,42と、スロットSが空いているかを確認するスロット確認部11と、を備えている。基板処理装置は、被処理基板Wを基板処理部45で処理した後であってカセットCに載置する前に、基板処理部45で処理された後で収納される被処理基板W毎に指定されたスロットSを読み出し、当該スロットSが空いているかをスロット確認部11に確認させる制御部50も備えている。 (もっと読む)


【課題】フープの蓋であるフープドアの閉状態の異常を迅速且つ確実に検知することができるようにすること。
【解決手段】半導体処理装置の内外を仕切るポートプレート40の開口窓41に着脱可能に装着されるポートドア42と、フープ10をフープドア着脱位置に位置決めするドックユニット60とを備えており、ポートドア42に、吸盤機構43とフープドア30をフープ本体20に固定すると共に固定を解除するためのロック機構44とが設置されているフープオープナMであって、ドックユニット60上のフープドア着脱位置に位置するフープ本体20に固定されたフープドア30がフープ本体20の開口部21に正常に装着されているか否かを検知するフープドア検知センサ80,90をポートプレート40に設置した。 (もっと読む)


【課題】基板を支持して搬送される基板支持機構を備える真空処理装置において、異常を有する基板支持機構を検出することができる真空処理装置を提供する。
【解決手段】直列に連結された真空処理室内で連続的に基板63を搬送する基板搬送機構は、基板63を保持した状態で移送される基板支持機構50を撮影するCCDカメラ103を有しており、CCDカメラ103によって撮影された映像から基板支持機構50が基板63を支持する位置を測定し、基板支持位置が異常な基板支持機構50を検出する。 (もっと読む)


【課題】メンテナンス作業をより簡便なものとすることで、メンテナンスコスト及びランニングコストの低減に寄与する基板支持装置及び基板支持装置を備える真空処理装置を提供する。
【解決手段】基板3を搭載して真空処理装置S内を搬送される基板支持装置1は、基板3を一端部側で支持する弾性体からなる少なくとも1つの基板支持爪15と、基板支持爪15の他端部側が配置されるホルダー11と、ホルダー11に取り付けられるホルダカバー13と、を有してなり、ホルダカバー13をホルダー11に取り付けることにより、基板支持爪15をホルダカバー13とホルダー11との間に挟んで所定位置に支持することができる。 (もっと読む)


【課題】被加工物を破損させることのないアライメント方法を提供することである。
【解決手段】積層ワーク表面の対向する端部に第1及び第2の溝を形成してこれら溝中に加工予定ラインが伸長する加工方向に交差する方向に伸長する複数の棒状積層物を露出させ、該棒状積層物を一対のアライメントマークとするアライメントマーク形成ステップと、加工方向に直交する割り出し送り方向におけるアライメントマークの中心位置を検出する中心検出ステップと、一対のアライメントマークの中心位置に基づいて、積層ワークと加工手段との平行出しを行う平行出しステップと、中心位置に基づいて加工予定ラインを検出する加工予定ライン検出ステップとを具備し、中心検出ステップは、アライメントマークの撮像画像をマトリックス状に複数の画素に分割し、画素を加工方向にカウントして作成したヒストグラムの重心位置を算出してアライメントマークの中心位置とする。 (もっと読む)


【課題】既存のセンサ等を利用してウェーハ収納容器の内部に収納されたウェーハサイズを確実に判別する。
【解決手段】ウェーハを収納したウェーハ収納容器を供給するためのロードポート部と、前記ウェーハを把持するハンドを有し、前記ウェーハを搬送する搬送ロボットとを含み、前記ロードポート部に、前記ウェーハの収納状態を検出するためのウェーハ飛び出しセンサを設置したウェーハ搬送装置に、前記ウェーハ収納容器から前記ウェーハを取り出す際に前記ウェーハ飛び出しセンサを用いて前記ウェーハの直径を判別するウェーハサイズ判別部を設ける。 (もっと読む)


【課題】パージ時間を短縮し、スループットを向上する。
【解決手段】基板9を出し入れする基板収納口及び基板収納口に着脱自在に装着されたドア10aを備えたキャリア10を載置する基板授受ポートと、基板授受ポートに載置されたキャリア10のドア10aを保持する可動部40と、可動部40に保持されたドア10aを可動部40と共に移動させて基板収納口を開閉するキャリア開閉装置と、可動部40及び基板収納口を少なくとも囲うチャンバ60と、可動部40に設けられ、基板収納口からキャリア10内にガス62を導入するガス導入部63、66と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板保持体もしくは基板保持体に保持された基板の清浄化に要する時間を短縮し、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置、ガス導入装置、及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板を保持する基板保持体10と、基板保持体にガスを導入するガス導入装置と、を備え、ガス導入装置は、ガスを清浄化しつつ放射状に放出するフィルタと、フィルタの外周に設けられフィルタから放射状に放出されたガスの流れを絞る絞り部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】基板保持具(ボート)の形状にかかわらず、ウエハを検知できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板12を保持可能に構成される基板支持部と、前記基板支持部に保持された基板12の周縁の少なくとも一部に設けられるリングプレート70を有し、前記基板支持部に保持された基板12と前記リングプレート70との間に所定の間隔が設けられるように形成される基板保持具26の前記基板支持部に基板12を搬送する基板移載装置と、基板12の位置及び前記リングプレート70の位置を検出可能に構成される検出装置と、前記基板移載装置を制御する制御装置とを有し、基板12の位置及びリングプレート70の位置の少なくとも一方が、正常位置範囲データ外にあると判断した場合には異常と判断する。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、カセットに収納された半導体ウエハ等の基板を所定の場所に移載する基板搬送装置に関し、カセット内へのアーム部の挿入時に、変形しているウエハにアーム部が接触するのを防止することを目的とする。
【解決手段】 収容容器に上下方向に間隔を置いて水平に収容される基板の先端の上下位置を検出する検出部と、搬送対象とする前記基板の先端の下に挿抜され、前記基板の先端を所定の位置に持ち上げる持上部と、前記持上部により前記先端が所定の位置に持ち上げられた状態で、前記搬送対象の前記基板の下へ挿入され、前記基板を保持した後に該基板を取り出すアーム部と、前記検出部の検出情報に基づいて前記持上部および前記アーム部の駆動を制御する制御部と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ロードポート装置を構成する蓋体着脱装置とマッピング装置の干渉を回避して、各装置の作動時間を可能な限りオーバーラップさせて、総作動時間の短縮を図る。
【解決手段】ロードポート装置Pを構成する蓋体着脱装置A及びマッピング装置Mには、蓋体吸着板5がマッピングセンサを取付けた主アームよりも設定値を超える値だけ低い位置に配置されたことを検出して、前記蓋体吸着板5と干渉することなく前記主アームの回動を可能とする干渉回避センサ装置Bを備え、前記干渉回避センサ装置Bにより前記設定値が検出された直後に、前記主アームをマッピング位置まで回動させて、マッピングを開始させる。 (もっと読む)


【課題】基板の位置合わせを行う容器内における基板位置合わせのためのスペースを極力小さくすることができる基板位置合わせ機構を提供すること。
【解決手段】基板Gを収容する容器81内で基板支持部96,97,98に支持された基板Gの位置合わせを行う基板位置合わせ機構86は、回動して容器81内の基板Gの端面に接触する位置合わせ部材132を有する。 (もっと読む)


【課題】ストッカーのシェルフの平坦度を容易に点検することのできるストッカーシステム及びストッカー管理方法を提供する。
【解決手段】本発明のストッカーシステムは、被積載物を積載できるシェルフ110を備えたストッカー100と、ストッカー側に被積載物を移動できるように、ボディー部210とボディー部に連結されたアーム部230とを備えたラックマスター200と、アーム部上に積載できるように形成されたセンサーユニット300とを備え、センサーユニット300は、アーム部上に積載された状態でシェルフの上部に移動した時、センサーユニットとシェルフとの間の相互位置関係を複数の地点で測定するように複数の変位センサーが配置されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 積層された半導体ウエハと保護シートとを取り違えることなく吸着して搬送することができるようにする。
【解決手段】 可撓性アーム26の先端部下面で保護シート22を吸着して持ち上げる。この場合、保護シート22の重さは1〜2gと比較的小さい。このため、保護シート22を持ち上げた可撓性アーム26の撓み量は比較的小さい。一方、可撓性アーム26の先端部下面で半導体ウエハ23を吸着して持ち上げた場合には、半導体ウエハ23の重さが保護シート22の重さの数十倍とかなり大きいので、可撓性アーム26の撓み量は比較的大きい。可撓性アーム26の撓み量は歪みゲージ27で検出される。そして、半導体ウエハ23と保護シート22との重さの相違から、今、可撓性アーム26で持ち上げているものが保護シート22および半導体ウエハ23のいずれであるか判別される。この後、保護シート22または半導体ウエハ23を吸着部材で吸着して別の箇所に搬送する。 (もっと読む)


【課題】既存の設備を利用してフープ内を清浄化し、ウエハの汚染を防止して歩留まり率を向上させることができる基板収納方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム10は、ウエハWにRIE処理を施すプロセスシップ11と、ウエハWを収納するフープ14a〜14cと、プロセスシップ11とフープ14a〜14cとを連結するローダーモジュール13及びローダーモジュール13内に設けられた搬送アーム機構19と、ローダーモジュール13内にダウンフローを形成して異物を底部から排出するFFU34と、ローダーモジュール13とフープ14a〜14cとの連結部に設けられた開閉扉とを有する。基板処理システム10のフープ14bにウエハWを収納する際、搬送アーム機構19によってウエハWをフープ14b内に搬入し、その後、所定の遅延時間が経過するまで開閉扉を開放状態のまま保持する。 (もっと読む)


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