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Fターム[5F031JA34]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 検出 (10,411) | 検出する情報 (3,081) | 形状の情報 (1,435) | オリフラ (171)

Fターム[5F031JA34]に分類される特許

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【課題】外縁部に切欠部を有する板状部材を吸引して支持し、その減圧状態から切欠部の位置を認識することのできる支持装置及び支持方法、切欠部を基準として板状部材に貼付された接着シートを剥離するシート剥離装置及び剥離方法、切欠部を基準として板状部材に接着シートを貼付するシート貼付装置及び貼付方法、を提供する。
【解決手段】板状部材WFを支持する支持面14を備えたテーブル16と、支持面14に設けられて板状部材WFの外縁部を吸引する吸引手段17を含む吸引手段19と、吸引手段17の減圧状態を検出する検出手段22とを含んで支持装置11が構成されている。この支持装置11の上方に剥離用テープPTを板状部材WFに貼付された接着シートASに貼付するシート保持手段12を設けてシート剥離装置が構成されている。シート保持手段12は、板状部材WFに設けられた切欠部20、21を基準として、剥離開始位置を決定し、当該剥離開始位置から接着シートを剥離するようになっている。 (もっと読む)


【課題】 基板処理装置が備えるそれぞれの系への電力の供給を個別に制御することで、電力の消費量を低減する。
【解決手段】 処理室内に搬入された基板を処理する処理系と、処理室内に搬入された基板の処理位置を調整する処理室内搬送系と、少なくとも処理系及び処理室内搬送系に電力を供給する主電源と、処理系への電力供給路上に設けられた第1の開閉器と、処理室内搬送系への電力供給路上に設けられた第2の開閉器と、を備える。 (もっと読む)


【課題】装置自体の有する能力を超えた処理条件が設定されるのを防止することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供するを提供する。
【解決手段】基板処理装置は、ウエハを格納し、真空排気可能な少なくとも1つの真空容器と、この真空容器にガスを供給するガス供給部と、開度を調整することにより真空容器内からの排気量を制御するAPCバルブと、真空容器内の圧力を、ガス供給部によるガス供給量とAPCバルブの開度とに対応付けて記憶する記憶部と、操作者から所定の圧力、ガス供給量、及び開度に関する指示を受付ける受付部と、受付部が受付けたガス供給量の範囲及び開度の範囲のうち、受付部が受付けた所定の圧力に対応する記憶部が記憶するガス供給量の範囲及び開度の範囲に含まれる範囲を算出する算出部と、算出部が算出した範囲を表示する表示部と、を有する。 (もっと読む)


【課題】複数の検査室によって共有することによりフットプリントを削減することができるウエハ搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエハ搬送装置10は、筐体Fを収納するウエハ収納室11と、ウエハ収納室11の下側に配置されたプリアライメント室12と、ウエハ収納室11及びプリアライメント室12に沿って上下方向に配置され且つウエハ収納室11とプリアライメント室12との間で半導体ウエハを搬送する第1のウエハ搬送機構13を有する第1のウエハ搬送室14と、第1のウエハ搬送室14とでプリアライメント室12を挟む位置に配置されアライメント室15と、第1のウエハ搬送室14、プリアライメント室12及びアライメント室15の配列方向に沿って移動すると共に上下方向に移動する第2のウエハ機構16を有する第2のウエハ搬送室17と、を備えている。 (もっと読む)


【課題】周縁部に少なくとも2つの直線部が形成される略円形の基板を精度良く位置合わせすることが可能な基板位置合わせ方法を提供する。
【解決手段】周縁部に少なくとも2つの直線部が形成される概ね円形の基板を位置合わせする基板位置合わせ方法であって、基板を保持して回転する保持回転部により前記基板を自転させながら、前記基板の周縁部に向けて発せられた光を受光した受光部から信号を取得し、取得した信号の強度と前記基板の回転角度とを関連付ける工程と、前記信号の強度の変化に基づいて、前記2つの直線部に対応すべき2つの回転角度区間を検出する工程と、前記信号の強度に関連付けられた前記回転角度に基づいて、前記2つの回転角度区間の角度差を求める工程と、前記角度差が所定の範囲内に収まるか否かを判定する工程と、前記判定する工程において前記角度差が所定の範囲内に収まると判定された場合に、前記2つの回転角度区間が、対応する前記2つの直線部に相当すると決定する工程とを含む基板位置合わせ方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】ウエハの冷却による反りを検出し、ウエハの落下または破損を未然に防ぐことができるロードロックモジュール、該ロードロックモジュールを備えるウエハ加工処理システム、該ウエハ加工処理システムで行われるウエハの加工処理方法を提供する。
【解決手段】ウエハ10を冷却する冷却部12を備えるロードロックモジュール1において、前記冷却部12の冷却によって前記ウエハ10に生じる反りを検出する検出部を備えることを特徴とするロードロックモジュール1を提供する。 (もっと読む)


【課題】ウエハ検査装置の設置スペースを削減することができると共に設置コストを低減することができるウエハ検査装置を提供する。
【解決手段】本発明のウエハ検査装置10は、ウエハを一枚ずつ搬送するように第1の搬送領域S2に設けられた第1のウエハ搬送機構12と、第1の搬送領域の端部にあるアライメント領域S3内でウエハ保持体15を介して第1のウエハ搬送機構12によって搬送されるウエハWを検査位置にアライメントするアライメント機構14と、第1の搬送領域S2及びアライメント領域S3に沿う第2の搬送領域S4内でウエハ保持体15を介してウエハWを搬送する第2のウエハ搬送機構16と、第2の搬送領域に沿う検査領域S5に配列され且つウエハ保持体15を介して第2のウエハ搬送機構16によって搬送されるウエハWの電気的特性検査を行う複数の検査室17と、を備え、検査室17ではアライメント後のウエハの電気的特性検査を行う。 (もっと読む)


【課題】装置全体のコンパクト化、処理時間の短縮化を図ることができるようにすること。
【解決手段】支持装置10は、半導体ウエハWが載置される載置面17を有する載置手段11と、半導体ウエハWのVノッチNの位置を検出する検出手段12と、半導体ウエハWの外縁に当接可能な複数の当接手段22と、当接手段22を回転して半導体ウエハWを周方向に回転可能な回動モータ23と、当接手段22を介して支持された半導体ウエハWを載置面17に離間接近可能に設けられた昇降手段25と、載置面17と平行な方向に当接手段22を移動可能な移動手段26とを備えて構成されている。当接手段22、回動モータ23、昇降手段25及び移動手段26は、載置手段11に組み込まれている。 (もっと読む)


【課題】安価な構成で精度よくウエハマウントを作製するウエハマン作製方法を提供する。
【解決手段】半導体ウエハの回路面に液状の接着剤を塗布し、塗布面に支持板を貼り合わせ、当該支持板を保持して半導体ウエハの裏面を研削し、支持用の前記粘着テープを介してリングフレームに半導体ウエハを支持し、半導体ウエハから支持板を分離し、さらに半導体ウエハ上でフィルム状になっている接着剤に半導体ウエハの直径以上の幅を有する剥離テープを貼り付けて当該剥離テープを剥離することにより、当該接着剤を一体にして半導体ウエハから剥離する。 (もっと読む)


【課題】保持テーブルの回転によるワークの位置ずれを抑制でき、ワークの位置を精度よく検出できる研削装置を提供すること。
【解決手段】研削装置の検出手段における保持テーブル8aは、上面中央に吸引口8lを有する基台部8gと、基台部8g上に吸引口8lを囲むように配設された環状部材8hと、基台部8g上の環状部材8hの内側に配設された中央部材8iと、を有し、環状部材8hは非通気性と弾性とを有しワークW表面に貼着された保護テープの凹凸を吸収できる厚みであり、中央部材8iは通気性と弾性とを有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】 ウェハを確実に吸着保持する静電チャックを提供すること。
【解決手段】 ウェハを静電的に吸着保持する静電チャック1410は、基板1405、電極1412板及び絶縁層1404を重ねて成り、ウェハの印加電圧が0ボルトから所定電圧まで時間とともに増大又は減少されるのに連動する電圧を静電チャックの電極板に印加することにより、ウェハとチャックの間に吸引力を発生する。 (もっと読む)


【課題】 温度調節機能を持った基板位置合わせ装置の処理速度を向上する。
【解決手段】 基板の外周上の切り欠き位置に基いて第1の位置合わせを行う工程と、前記基板の切り欠きを含む外周形状に基いて第2の位置合わせを行う工程と、前記基板を目標管理温度に調整する温調工程とを含む位置合わせ方法を行う。前記方法において、N枚目の基板の前記第1位置合わせ工程の期間内にて、N−1枚目の基板の前記第2位置合わせ工程と、N−1枚目の基板の前記温調工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】プラズマ処理されたウエハの異常原因を分析する。
【解決手段】クラスタ型のプラズマ処理システム10に配置された2以上のプロセスモジュールの少なくともいずれかにおいてプラズマ処理されたウエハWの異常原因分析方法であって、ウエハWがフープ115a〜115cから搬出され、前記2以上のプロセスモジュールの少なくともいずれかに搬送された後、前記フープ115a〜115cに戻るまでの搬送経路の情報を前記ウエハW毎に該ウエハの識別情報に関連付けて記憶する記憶工程と、処理済のウエハWの状態を検査する検査工程と、前記検査工程の結果、異常と判定されたウエハWの前記記憶された搬送経路の情報と、正常と判定されたウエハWの前記記憶された搬送経路の情報とを比較し、比較の結果に基づき異常原因の分析を行う異常分析工程と、を含む異常原因分析方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】作業員の作業負担を軽減して、位置合わせ作業に要する時間を短くすると共に、十分な位置合わせ精度を得ることができる位置合わせ方法を提供すること。
【解決手段】研削装置1の稼働前のメンテナンス時に、搬入搬出アーム13の搬入動作を調整する方法であって、搬入搬出アーム13の搬入動作の開始点をカセット6内のウェーハWの任意の位置に合わせ、終点位置を仮置きテーブル35の中心位置に合わせるステップと、搬入搬出アーム13により仮置きテーブル35上に搬入されたウェーハWの中心位置を検出し、当該ウェーハWの中心位置と仮置きテーブル35の中心位置とから仮置きテーブル35に対するウェーハWの位置ズレ量を算出するステップと、ウェーハWの位置ズレ量に基づいて搬入動作の始点位置を、カセット6内のウェーハWの任意の位置から中心位置に補正するステップとを有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】搬送チャンバー内にシリコン基板を搬送したときに、シリコン基板が面内温度分布に起因して反ることがない真空処理装置の提供。
【解決手段】真空雰囲気でシリコン基板26に回路を形成する複数の処理を、それぞれ順次実行する為の複数のプロセスチャンバー2〜5と、複数のプロセスチャンバー2〜5に隣接し、シリコン基板26をプロセスチャンバー2〜5内へ搬入しプロセスチャンバー2〜5内から搬出する搬送機構19を有する搬送チャンバー1とを備える真空処理装置。ガスを吹き出す吹出口22〜25と、搬送チャンバー1内のガスを外部へ排気する排気口31とを搬送チャンバー1内に備え、搬送機構19がプロセスチャンバー22〜25から搬出し停止させたシリコン基板26へ吹出口22〜25からガスを吹出させる構成である。 (もっと読む)


【課題】処理済ウエハを搬送するときにも未処理ウエハより速度を上げて搬送可能とし,これによって従来以上に処理全体のスループットを向上させる。
【解決手段】ローダアーム機構200のピックを基板保持可能範囲を拡大して位置ずれが発生してもウエハを保持できるようにし,トランスファアーム機構300を搬送制御する際,そのピック上に未処理ウエハWがあるか否かを判断し,未処理ウエハなしと判断した場合は,ピック上にウエハなしの場合のみならず,処理済ウエハありの場合についても,ピック上に未処理ウエハありと判断した場合よりも速い速度で搬送制御する。 (もっと読む)


【課題】ピックによる基板保持時に基板の異常を判定することで,異常な基板の搬送処理を続行することによる不具合を未然に防止する。
【解決手段】基板が水平方向に移動しないように規制する規制体420と,押圧体440をスライド駆動させて,ウエハWの端部を規制体に押しつけることによって保持する押圧保持部430と,押圧体を駆動させるとともに,その押圧体の位置情報を出力可能な押圧体駆動部442とを有するピックを備え,このピックの基板保持時に押圧体をスライド駆動させてその押圧体が停止した位置を検出し,その検出位置が異常判定閾値以上にピックの先端側にある場合にはその基板は異常であると判定し,その基板の搬送処理を停止する。 (もっと読む)


【課題】表面に凹凸を有するウェーハであっても回転する仮置きテーブルに対する位置ズレを抑制でき、ウェーハの位置を精度よく検出できる研削装置を提供すること。
【解決手段】ウェーハWを支持する支持面64を有する仮置きテーブル35と、支持面64に支持されたウェーハWの外周縁部を撮像する撮像部36と、仮置きテーブル35を支持面64に直交する鉛直軸まわりに回転させ、ウェーハWの外周縁部を順々に撮像部36の撮像範囲に臨ませる回転部61とを備え、仮置きテーブル35の支持面64は、回転によってウェーハWに作用する力よりも大きな摩擦力をウェーハWに付与する摩擦材65により形成される構成とした。 (もっと読む)


【課題】保持台の表面に異常があるか否かを早期に検出できる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハWを保持台1に保持させ、当該保持台1を1回転以上回転させ、ウエハのW周縁位置を光センサ4により検出する。そして、この保持台1の回転方向の位置と光センサ4の受光出力との関係データを取得し、当該関係データに基づいてウエハの向き及び中心位置を検出する。さらに、前記関係データにおいて保持台の加速領域と減速領域に対応する実測データに基づいてウエハと保持台1に嵌め込まれた保持部材3との間で滑り現象が発生しているか否かを判定する。例えば前記関係データにおいて保持台1の等速領域に対応するデータに基づいて、前記滑り現象が生じていないときの、加速領域と減速領域におけるデータを推定し、推定されたデータと前記実測データとを比較して比較結果に基づいて前記判定を行う。 (もっと読む)


【課題】構造の簡略化を図りつつ、接着シートの凹部を半導体ウエハ等の被着体に位置合わせした状態で、それらを貼付できるようにすること。
【解決手段】シート貼付装置10は、半導体ウエハWを支持可能な支持面21を有する支持手段11と、接着シートSを支持面21に臨むように繰り出す繰出手段12と、接着シートSに形成された凹部Cの位置を検出する凹部検出手段13と、支持面21に半導体ウエハWを載置するための多関節ロボット15及び搬送アーム82と、支持手段11に支持された半導体ウエハWに接着シートSを押圧して貼付する押圧手段18と備えて構成されている。多関節ロボット15は、凹部検出手段13の検出結果に基づいて作動することにより、凹部中心位置DCと半導体ウエハ中心位置WCとが一致するよう半導体ウエハWを支持面21上に載置する。 (もっと読む)


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