【課題】ステージのθ回転を、気体制御アクチュエータによって可能とすることである。
【解決手段】気体制御回転移動装置１０は、本体部１２と、本体部１２に対し、回転可能なテーブル３０と、本体部１２に設けられる複数の気体制御駆動部１００と、テーブル３０の回転移動を検出するためのセンサ４０及び測定部４２と、これらの要素の全体動作を制御する制御部５０を含んで構成される。気体制御駆動部１００は、テーブル３０の矩形軸３２の各辺に対応してそれぞれ設けられ、案内部に案内され気体圧で駆動される可動体を有し、矩形軸３２の対応する辺を気体受面として、可動体の先端面と気体受面との間に供給される気体を介して矩形軸３２に駆動力を与える。複数の気体制御駆動部１００が矩形軸３２に与える駆動力の協働により、テーブル３０が回転駆動される。 （もっと読む）

【課題】 レーザ測長器の測定結果に基づき、位置制御を行うステージ装置において、Ａｂｂｅ誤差の少ないステージ装置を実現すること。
【解決手段】 移動ステージ１０上にはワーク保持ステージ２２が設けられ、ワーク３０が載置される。移動ステージ１０にはレーザ測長器４２が内蔵され、また、移動ステージ１０の側面にレーザ光反射ユニット４４が取り付けられ、レーザ出入射口４３から入出射するレーザ光の光軸を、ワーク保持ステージ２２の表面の位置にまで移動させる。ミラー４１はワーク保持ステージ２２に対向する位置に設けられ、レーザ光は、全反射ミラー４５ａおよび全反射ミラー４５ｂで反射して、全反射ミラー４５ｂに対向する位置に設けられたミラー４１に入射する。ミラー４１で反射したレーザ光は、全反射ミラー４５ｂおよび全反射ミラー４５ａで反射して、レーザ測長器４２に入射する。 （もっと読む）

投影光学系ＰＬと液体１とを介してパターンの像を基板Ｐ上に投影することによって基板Ｐを露光する際、基板Ｐの側面ＰＢ、裏面ＰＣを撥液処理する。このような構成により基板のエッジ領域を液浸露光する場合に良好に液浸領域を形成し、液体の基板ステージ外部への流出を抑えた状態で露光できる露光方法を提供する。
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【課題】 カウンタマスを制御するための指令値が切り替えられる際の制御的な飛びが生じることを防止し、振動が発生することを防止する。
【解決手段】 基準平面上において制御対象物が駆動されることによって生じる反力の作用により運動量保存則に従って運動するカウンタマスを指令値に基づいて制御する制御方法であって、上記制御対象物を第１の動作精度で駆動する場合に上記制御対象物と上記カウンタマスとの質量比によって求められる第１指令値に基づいて上記カウンタマスを制御する第１ステップと、上記制御対象物を上記第１の動作精度と異なる第２の動作精度で駆動する場合に第２指令値に基づいて上記カウンタマスを制御する第２ステップとを有し、上記第１ステップと上記第２ステップとの切り替え時において上記第１指令値と上記第２指令値とを連続とする。 （もっと読む）

このステージ装置は、戴置面に板状体を戴置して移動可能な移動部材を有するステージ装置であって、板状体を戴置面に固定する固定装置を備え、固定装置は、移動部材が所定の第１領域を通過するのに連動して板状体の固定を行うようにした。
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外部から供給される加圧気体が定盤（１６）にそれぞれ設けられた細孔（６６ａ，６６ｂ）から上下方向にそれぞれ噴出され、これらの加圧気体が、ステージ（ＲＳＴ）の第１、第３凹部（５６ａ，５６ｃ）でそれぞれ受けられる。そして、第１凹部で受けられた加圧気体は、第１通気路（５８ａ，１６１，５８ｂ）を介してステージ底面の第１凹部とは異なる位置に導かれるとともに、軸受部（５７）から定盤に向けて噴出され、この加圧気体の静圧によりステージが定盤の上方で浮上支持される。このとき、第３凹部に作用する下向きの圧力と、第１凹部に作用する上向きの圧力とのバランスにより、ステージを定盤の上方に所定のクリアランスを維持した状態で支持することができる。従って、小型軽量のステージに配管を接続することなく、定盤上で高精度な非接触駆動を行うことができる。
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基板（２）を浮上させた状態で、昇降機構（６）により支持部材（１０）の先端に設けられた接触部材（１３）を上昇させて、この接触部材（１３）を基板（２）の裏面に接触させ、浮上している基板（２）の移動を規制する。
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【課題】リソグラフィ装置における基板の露光時間を最大化し、且つ／又は、大きな基板が露光されるときにリソグラフィ装置の占有面積の増加を最小に抑えるための方法及び装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィの方法及び装置は放射線のビームを供給する照明システム、ビームにパターン形成するパターン形成デバイス、及び、パターン形成されたビームを基板の目標部分上に投影する投影システムを含む。計測システムは投影システムとの基板の位置合わせのために投影システムに隣接して設けられている。２つ以上の可動チャック４，５は各々が、基板を支持し、且つ、ローディング・デバイス１９と投影システム１７の間で移動するように構成されている。チャックは独立に可動であり、そのため、１つの基板がローディング・システムと投影システムの間を移動される間に、もう１つの基板は計測システム及びパターン形成されたビームを通過することができる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びそれによって製造されたデバイスを提供すること
【解決手段】基板処理装置は、放射の投影ビームを供給するための照明システム、投影ビームの断面にパターンを付与するべく機能する個々に制御可能な複数のエレメントのアレイ、及びパターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムを備えたリソグラフィ装置を備えている。また、基板処理装置は、少なくとも１つの完全な長さの基板を送り出すようになされた基板サプライと、投影システムがパターン化されたビームを個々の完全な長さの基板に沿った一連の目標部分に投射することができるよう、基板サプライから送り出される個々の完全な長さの基板を投影システムの先へ搬送するようになされた基板搬送システムとを備えている。特定の実施例では、長さの長い基板がロールから供給されるが、別法として一連の個別シートを供給することもできる。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の小型化、軽量化を実現する。
【解決手段】物体が載置されるステージＷＳＴが第１駆動機構によりＸ軸方向に駆動されると、その駆動力の反力が第１駆動機構の一部に作用する。しかるに、このとき、制御装置により、所定重量を有する第１のカウンタウェイト７９が第１軸リニアモータ８０Ａ，８０Ｂを介して、ステージの移動方向とは反対方向にＸ軸方向に関して移動させられる。このとき、制御装置が、ステージＷＳＴと第１のカウンタウェイト７９との重量に応じた速度でその第１のカウンタウェイトを駆動することにより、その第１のカウンタウェイトの駆動力の反力により、前記反力を相殺することが可能となる。これにより、ステージの反力を運動量保存の法則に従う第１のカウンタウェイトの自由運動により相殺する場合に比べ、第１のカウンタウェイトの重量を小さくすることができ、 （もっと読む）

【課題】 基板ホルダのようなものを併用することなく、基板をそのまま搬送させる装置でありながら、基板搬送時の基板のたわみに起因する問題を解消し、プラズマ生成部を基板搬送方向に長く構成することも可能な装置を提供する。
【解決手段】 インライン型プラズマ処理装置は、略長方形の基板７を下側から支持し、基板７を基板通路に沿って搬送するための基板搬送手段と、基板通路に対して上下のうち少なくとも一方から近接して配置されたプラズマ生成部とを備える。上記基板搬送手段は、基板７の搬送に寄与しない間隙領域１２を有する。間隙領域１２は、上方から見たときに上記基板通路の進行方向に対して斜めに線状に延在し、上記プラズマ生成部は、間隙領域１２において基板７にプラズマ処理を行なうように間隙領域１２に沿って配置されている。 （もっと読む）

【課題】地表あるいは周辺からの振動及び外乱が粗動ステージや精密ステージに伝わることを防止し、ワークピースを精密に位置決めする。
【解決手段】ステージ装置２２０は、第１軸周りに及び第１軸に沿ってワークピース２００を移動させるもので、第１ステージ２３８と、ワークピースを保持する第２ステージ２４０と、第２移動装置２４４と、測定システムと、初期化システムとを備える。前記第２移動装置は、前記第１ステージと相対的に前記第２ステージを前記第１軸周りに移動させる。前記第２移動装置は、駆動機２５５と、前記第１ステージから前記第２ステージへの振動の伝達を低減する減衰器とを有する。ステージ装置は、前記第２ステージを位置決めしかつ前記第１ステージの振動を補償する出力を、前記駆動機に与える制御システムを備える。 （もっと読む）

【課題】気体軸受で支持するステージが隙間を介して配置された複数の定盤間を移動する際に、気体の漏れが生じてステージの支持が不安定となってしまう。
【解決手段】複数のステージが定盤上で移動するステージ装置であって、前記定盤は、隙間を介して隣接して配置された複数の定盤を有し、各ステージは、前記定盤と対向する面に複数の気体軸受部３０〜３２を有し、前記複数の気体軸受部は、前記定盤が隣接する方向を長手方向とし、かつ前記長手方向に離間して配置されている気体軸受部３０Ａ、３０Ｂを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 モータ駆動時にも周囲の空気の温度変化を抑制する。
【解決手段】 対向して配置された磁石ユニット９０とコイルユニット８０とを有し、磁石ユニット９０とコイルユニット８０とが相対的に移動する。磁石ユニット９０とコイルユニット８０が相対移動する方向に沿って設けられ、コイルユニット８０の外表面近傍の空気を吸引する吸引部１０６を有する。 （もっと読む）

【課題】物体を支持する装置が開示される。
【解決手段】装置は、エアベローズにつながれるエアベアリングを備える。真空環境で使用する場合、装置はエアベアリングに用いられる加圧流体を取り除くための真空を用いたエアベアリングハウジングを備えるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】２つのステージを有する位置決め装置の大型化や精度劣化の抑制に好適な反力相殺技術を提供する。
【解決手段】位置決め装置１００は、定盤１０と、定盤１０上で駆動される第１ステージ１８、第２ステージ１９と、第１ステージ１８、第２ステージ１９の駆動に伴う反力を相殺する第１反力相殺機構と、第１ステージ１８、第２ステージ１９の駆動に伴う反力を相殺する第２反力相殺機構とを備える。第１処理のために第１ステージ１８、第２ステージ１９が駆動されている時に第１、第２反力相殺機構のうち第１反力相殺機構が動作し、第２処理のために第１ステージ１８、第２ステージ１９が駆動されている時に第１、第２反力相殺機構のうち少なくとも第２反力相殺機構が動作する。 （もっと読む）

本発明は、コーティング装置を通して平らな基板を移送するための装置に関する。このコーティング装置は、例えば、数個の異なるスパッタ・カソードを備えていて、このカソードに、例えば、ガラス板のような平らな基板が真空内を順次移送される。ガラス板と接触面との間で摩擦による損傷が起こらないように、ガラス板は接触しない距離にガス圧により維持される。ガス圧は、この場合、ガス・チャネル内の比較的少ない小さな孔部により形成される。コーティング装置に大気圧を導入している間、または真空にするための排気中、ガスの孔部が小さいために、ガス・チャネルと残りのコーティング装置の間の圧力を急速に等しくすることができないので、ガス・チャネルは、残りのコーティング装置とのガスによる接続が切り離され、別のガス・ラインを有し、このガス・ラインを通してガスをガス・チャネルに導入したり、そこからポンプにより吸い出したりすることができる。
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【課題】２つのステージ可動部を駆動させるステージ機構において、２つのステージ可動部の駆動により発生する駆動反力を相殺することができる小型・軽量化を図ることができるステージ装置を提供すること。
【解決手段】移動可動に支持された第１ステージ可動部と第２ステージ可動部を駆動し、各々のステージ可動部で第１処理と第２処理を並列で行うステージ装置において、反力相殺機構を設け、第１処理と第２処理を行っている時の各々のステージ可動部の動作に伴う反力を反力相殺機構で相殺し、第１処理と第２処理を行っていない時の各々のステージ可動部の動作に伴う反力を反力相殺機構で相殺しない、或は、完全には相殺しないことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】移動体をそれに必要な制御性や剛性等の特性に悪影響を及ぼさないで軽量化する。
【解決手段】基準面に支持され移動可能な移動体と、該移動体を該基準面上で非接触支持するための第１静圧軸受と、該移動体を所定方向に案内する案内面を有するガイドと、該案内面と該移動体とを非接触に保つための第２静圧軸受と、該移動体側に可動子を設けたリニアモータとを有するステージ装置において、該第１静圧軸受、第２静圧軸受およびリニアモータ可動子が接合される該移動体の部所の少なくとも１つに肉抜きを施す。 （もっと読む）

【課題】 本発明はステージ装置の大型化に伴いガイドレールに非接触でガイドされるスライダの静圧軸受けパッドを削減することを課題とする。
【解決手段】 ステージスライダ機構２９のガイドレール３０は、断面がほぼ正方形であり、水平面に対して各４辺が４５度の傾斜角度を有するように取り付けられる。ガイドレール３０の上部傾斜面３０ｃ，３０ｄは、スライダ１８をガイドする一対のガイド面として機能しており、上部傾斜面３０ｃ，３０ｄに対向するスライダ１８の傾斜面１８ａ，１８ｂには、３個の静圧軸受けパッド３２〜３４が設けられている。３個の静圧軸受けパッド３２〜３４によりスライダ１８を浮上させて低摩擦で移動可能に支持する構成であり、従来のように水平面と垂直面の夫々に対向する位置に設ける構成のものよりも静圧軸受けパッドの設置数を半分以下に減らすことが可能になる。 （もっと読む）