【課題】加工精度を維持しつつ、安定した状態で基板の搬送及び加工を行うことを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、搬送領域５１及び加工領域５３及び搬送領域５５に、それぞれ、搬送領域エア浮上装置１１及び加工領域エア浮上装置１３及び搬送領域エア浮上装置１５が設けられる。加工領域エア浮上装置１３は、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５と比較して、要求精度が高く、基板３の浮上量が小さい。加工領域エア浮上装置１３と、搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５との間には、基板３の浮上量に応じた段差が設けられる。搬送領域エア浮上装置１１及び搬送領域エア浮上装置１５の上面の高さが、加工領域エア浮上装置１３の上面の高さと比較して、基板３の浮上量差の分だけ低くなるように、各装置が組み付けられる。 （もっと読む）

【課題】基板を平坦化しつつ支持する。
【解決手段】表面電位測定装置１の基板支持装置２では、第１流体噴出部２１の円環状の第１多孔質部材２１１から、基板９の上面９１上の対象領域９１１の周囲に向けて第１流体が噴出され、基板９を挟んで第１流体噴出部２１と対向する第２流体噴出部２２の円環状の第２多孔質部材２２１から基板９の下面９２に向けて第２流体が噴出される。これにより、第１流体噴出部２１と第２流体噴出部２２との間において基板９を平坦化しつつ基板９を支持することができる。また、基板９と第１流体噴出部２１の第１多孔質部材２１１との間の距離を、簡素な構造で一定に維持することができる。その結果、表面電位測定装置１において、平坦化された対象領域９１１上に所望の間隔をあけてプローブ３１を位置させることができ、基板９上の対象領域９１１に対する表面電位の測定を高精度に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に向って突設された柱体又は錐体からなる負圧形成突部３１と、該負圧形成突部３１に対して側方から気体を噴出することにより負圧形成突部３１の近傍に負圧を形成するための気体噴出ノズル３２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の大口径化や超大口径化に伴う基板搬送時の基板中央部の自重による撓みを抑制ないし防止する。
【解決手段】大口径の基板ｗの上方又は下方に移動される支持部１７と、該支持部１７に設けられ基板ｗの周縁部を掴んで支持する掴み機構２８とを有する基板搬送装置において、上記支持部１７に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部３０を１つ又は複数設け、該非接触吸引保持部３０は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体３１と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面３２ａを有する凹部３２と、該凹部３２の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズル３３と、上記凹部３２の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝３４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】簡易、低コストの構成で浮上搬送式の基板処理を行うようにした基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送方向（Ｘ方向）からみてステージ８０の左右両サイドにそれぞれ複数個のローラまたはサイドローラ１１０が搬送方向に一定ピッチで一列に配置されている。ステージ８０上で基板Ｇは、真下（ステージ上面）の噴出口１００から受ける気体の圧力で空中に浮きながらその左右両側端部がステージ両サイドのサイドローラ１１０の上に乗る。サイドローラ１１０の回転運動により、ステージ８０上で浮上する基板Ｇはサイドローラ１１０の上を転々と伝わりながら搬送方向（Ｘ方向）に平流しで移動する。 （もっと読む）

【課題】ステージとステージ支持盤との間に蓄えられた歪を開放し、より精密な位置決めが可能であるキネマティック保持装置を提供する。
【解決手段】
ステージ１８と、ステージ１８を支持するステージ支持盤１９と、ステージ１８の下面に設けられる突出部であるキネマボール２と、ステージ支持盤１９の上面に前記突出部であるキネマボール２が挿入される凹部であるキネマＶ溝３とを有し、凹部であるキネマＶ溝３がキネマボール２に力を加え、ステージ１８を昇降させる。キネマＶ溝３とキネマボール２間の摩擦力を減少させてキネマボール２の歪を除去し、キネマボール２を歪なく再現性よく保持できる。 （もっと読む）

【課題】加工対象基板の伸縮を抑制して加工精度を向上させることを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。エア浮上装置１１は、エア流路５５を介してエア温度調整装置５３及びエア供給装置５１に接続される。エア供給装置５１は、エア温度調整装置５３にエアを供給する。エア温度調整装置５３は、エアの温度を一定温度に調整し、温度調整したエアをエア流路５５を介してエア浮上装置１１に送る。エア浮上装置１１は、基板３にエア５７を送って基板３をエア浮上させる。エア浮上装置１１は、エア温度調整装置５３により一定温度に調整されたエアを基板３に送るので、基板３の温度変化を抑制して基板３の伸縮を防止することができる。加工精度を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】加工精度を維持しつつ、装置重量及び費用的負担等を軽減することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】基板加工装置１は、Ｘ方向移動装置５、θ方向回転装置７、エア浮上装置１１等を備える。Ｘ方向移動装置５は、ベース２４のＸ方向中央部に設置される。θ方向回転装置７は、Ｘ方向移動装置５の上部に設けられ、Ｘ方向に移動可能である。θ方向回転装置７の上部には、吸着盤４が設けられる。エア浮上装置１１は、基板３を空気圧で押し上げあるいは吸引することにより、非接触に支持する装置である。吸着盤４のＹ方向長は、基板３のＹ方向長より小さい。基板加工装置１は、基板３の略全面を吸着盤４及びエア浮上装置１１により支持するので、撓みやばたつきが生じず、Ｚ方向精度を維持する。また、吸着盤４の大きさを小さくすることができるので、装置重量や装置製作費用を軽減することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の回転角度及び加工精度を確保することを可能とする基板加工装置及び基板支持装置等を提供する。
【解決手段】吸着盤４ａは、配置可能領域５１の全部の領域を吸着盤の形態としたものである。吸着盤４ａの幅に関しては、回転軸中心から離れるに従い、Ｘ方向及びＹ方向共に幅が狭くなる。尚、吸着盤４ａは、最大回転角度５３ａまで回転させることができる。吸着盤４ａの回転角度を確保しつつ、エア浮上装置１１との間隔を小さくすることができる。これにより、吸着盤４ａとエア浮上装置１１との隙間における基板の撓みを防止し、基板に対する加工処理の精度を維持することができる。基板の回転角度及び加工精度を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の処理のタクトタイムが短い基板処理方法および基板処理装置を提供すること。
【解決手段】この基板処理装置は、第１吸着部４と、第２吸着部５とを備える。第１吸着部４による基板１０の中央部の基板吸着板１への吸着が未完了で、かつ、第２吸着部５による基板１０の周辺部の基板吸着板１への吸着が完了した時点で、基板１０の位置決め動作を行う。 （もっと読む）

【課題】複雑なアライメント機構を用いずに搬送位置精度を高精度に維持し、ガラス板を清浄に維持しながら、水平コロコンベアでは得られない高速搬送、及び瞬時の停止を実現するガラス板搬送装置を提供する。
【解決手段】ガラス板９の下面側よりエアーを吹き付け、ガラス板９を浮上させる多孔質パッド１１を配置した保持部位１０と、その外側位置には搬送方向にガイド３１及びレール３２を配置した駆動部位３０と、駆動部位３０の一部表面上には駆動連結アーム２３とアーム２２及びハンド２１を一体構造とした移動部位２０とからなり、ガラス板９を保持部位１０により浮上させて保持し、搬送軸センター３近傍に整列したガラス板９ｃをハンド２１が補助的に板端面から挟み込むように把持し、ガラス板９ｃを駆動部位３０により搬送方向に高速に移動、停止する駆動機能を装備した。 （もっと読む）

【課題】基板支持ステージの外形形状を、低コストで、正確に再現することができるとともに、高い技術と高コストを要することなく空気噴出孔を形成でき、さらに、温度変化があっても、膨張量の違いによるステージの破損、治具の離脱を防止することのできる基板支持ステージを提供する。
【解決手段】基板を一定方向へ搬送しつつ基板に順次処理を施す基板処理装置において、上面に開口を備えた複数の空気噴出孔２０から噴出する空気によって基板を所定高さに浮遊させて支持する基板支持ステージ１２であって、骨材と、結合剤と、充填剤と、を含む材料を成型してなる。 （もっと読む）

【課題】例えば露光装置における、軸受により支持される可動体の姿勢を安定化させ、位置精度の悪化を防止する。
【解決手段】可動体を軸受で支持する支持装置に、可動体のうち軸受によって支持されている部分と異なる部分に力を作用させるモーメント低減部を設ける。モーメント低減部は、可動体の移動によって可動体が前記軸受によって支持されている部分が変化することに起因して可動体に作用するモーメントを低減し、可動体の姿勢を安定化させる。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題の１つは、可動対象物が、改善されたガス供給機構部を使用して、加圧ガスが供給されるガスベアリングで案内されることができるリソグラフィ装置を提供することである。
【解決手段】トラックに沿って配置された複数のガス流出開口を備えるトラックを有するリソグラフィ装置が開示される。ガス導管は、トラックに沿って対象物を可動に担持するように構成されたガスベアリングを形成するために、ガス流出開口に加圧ガスを供給するように構成される。さらに、ガス流出開口に対して対象物の案内表面に位置に応じて、１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを生じるように、または１つ以上のガス流出開口を通るガスの流れを妨げるように構成されたガス流デバイスが設けられる。 （もっと読む）

【課題】高速移動、高精度位置決めが可能なステージ装置、そのステージ装置を用いる露光装置、及びその露光装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】ステージ装置２００は、往復移動可能な基板ステージ２０４と、磁気反発力を用いて基板ステージ２０４を第１方向に加減速する第１の反発磁石ユニット２２０と、基板ステージ２０４の駆動反力を相殺するためのカウンタステージ２０６と、磁気反発力でカウンタステージ２０６を加減速する第２の反発磁石ユニット２４０とを有する。 （もっと読む）

【課題】表面処理すべき被処理物の設置部の内側部に、処理ムラを惹き起こす昇降ピンを設ける必要をなくす。
【解決手段】被処理物を設置するための設置部２０の対向する一対の側部に外端支持手段５０を設ける。昇降機構５４によって、外端支持手段５０を設置部２０の設置面より突出した上位置と設置面より引っ込んだ下位置の間で昇降可能にする。上位置の外端支持手段５０により被処理物Ｗの外端部が支持されるようにする。設置部２０には、複数の小孔２４を分散して形成する。この小孔２４に流路構造６０を接続し、小孔２４から加圧流体を噴出させ、被処理物Ｗの内側部を非接触支持する。 （もっと読む）

【課題】板状の試料を試料台の所定の位置に吸着させるために、試料の外周面を押さえて試料を所定の位置に保持したまま、試料を平坦化や吸着しても、試料を擦らずに発塵しない位置決め装置を提供する。
【解決手段】位置決め装置は、所定の位置に試料７を保持するために、試料７の外周部を試料台９の表面と平行な多方向から試料台９へ押したまま、試料台９の表面の法線方向と平行に外周部と共に移動する移動機構１３を備えたオリフラ出しアーム８１、中心出しアーム８２を有する。 （もっと読む）

【課題】回転軸の撓みを減少させることができて大形のガラス基板等の板状物を搬送することができ、しかも、回転軸を回転させるための駆動力の増大を生じさせない板状物の搬送装置の回転軸支持用の静圧気体軸受を提供すること。
【解決手段】静圧気体軸受１は、回転軸６の円筒状外周面５に対して隙間９をもって対面する半割円筒状受面１０を有した半割円柱状の軸受本体１１と、半割円筒状受面１０に形成された複数の気体噴出口４１を有していると共に回転軸６の円筒状外周面５と半割円筒状受面１０との隙間９に複数の気体噴出口４１から気体を供給する気体供給手段１３と、相互に滑動自在に接している凸球面１４及び凹球面１５を有しており、凸球面１４及び凹球面１５の相互の滑動により軸受本体１１を揺動自在に支持する軸受支持体１６とを具備している。 （もっと読む）

【課題】事前に張力、またはロードをかけたガスベアリングを小さな寸法で実現する。
【解決手段】ガスベアリングを備えたリソグラフィ装置において、ガスベアリングは、第１ベアリング表面を画定する第１ベアリング部分と、第２ベアリング表面を画定する第２ベアリング部分とを有する。第１ベアリング表面と第２ベアリング表面の間にはギャップがある。ガス供給デバイスがギャップにガスを供給する。第１ベアリング部分は少なくとも部分的に強磁性であり、第２ベアリング部分は、ガスベアリングに事前に張力をかける第１ベアリング部分と相互作用する少なくとも１つの永久磁石を有する。 （もっと読む）

【課題】塵埃や振動の影響を受けて損傷してしまうこと無く基板を基板収納容器から搬入出可能な基板搬入出装置及び基板の搬入出方法に提供する。
【解決手段】基板搬入出装置１は、間隔を有して設けられた複数の支持ワイヤ４で構成された棚５が上下方向に複数設けられた基板収納容器２と、搬入出方向Ｘに基板Ｗを進退させることが可能な搬送手段１０と、搬送手段１０を基板収納容器２に対して相対的に昇降させることが可能な昇降手段６と、基板収納容器２の棚５の支持ワイヤ４の間で、上下方向に進退可能に設けられ、搬送手段１０によって棚５の上方に搬送された基板Ｗを搬送手段１０から持ち上げることが可能な基板支持手段２０とを備えている。搬送手段１０は、基板Ｗを載置可能な搬送部材１１と、搬送部材１１を搬入出方向Ｘに進退可能に支持する支持部１２、１３と、搬送部材１１を搬入出方向Ｘに進退させる駆動部１５とを有する。 （もっと読む）