【課題】パーティクルの発生を防止してワークを位置決めする。
【解決手段】ワーク規制台の複数のポケット３４にそれぞれ配置されたガラス板３１を同時に位置決めするワークの位置決め装置で、前記ポケット３４の側面に位置決め用のＸ軸基準面３４ｘとＹ軸基準面３４ｙを形成し、前記ポケット３４の底面に形成されたエア吹き出し孔３５からのエアによりガラス板３１を浮上させ、前記ポケット３４の底面に形成された真空吸着孔３６からエアを吸引してガラス板３１を位置固定し、ワーク規制台をＸ軸基準面３４ｘとＹ軸基準面３４ｙが下位となるように傾斜させ浮上状態のガラス板３１をＸ軸基準面３４ｘとＹ軸基準面３４ｙ側に移動させ当接させる規制台傾斜装置を設けた。 （もっと読む）

【課題】 モータ効率を低下させることなく高い冷却能力を有するリニアモータを提供する。
【解決手段】 第１方向に沿って形成された２つの直線部Ｌを有するコイル体Ｃが固定子３１と可動子との一方に設けられる。コイル体Ｃの２つの直線部Ｌの間に形成された空芯部Ｋに、温度調整用媒体が流れる管体ＣＰの少なくとも一部を第１方向に沿って配設する。 （もっと読む）

【課題】 温度勾配が生じず均一な温度分布を実現する。
【解決手段】 固定子８０と可動子とを有する。リニアモータの温度分布とリニアモータが発生する推力との少なくとも一方に基づいてリニアモータを加熱する加熱装置３を備える。 （もっと読む）

【課題】 感光基板を載置するテーブルの温度を均一に温調することができる温調方法、ステージ装置、露光装置、及びデバイスの製造方法を提案する。
【解決手段】 移動可能な第１テーブル４３と、基板Ｗを保持しつつ第１テーブル４３に対して離間しつつ移動可能に支持される第２テーブル４２とを備えたステージ装置４０であって、第１テーブル４３における第２テーブル４２に対向する面４３ａの少なくとも一部に設置されて、第２テーブル４２に対して熱エネルギーを放射する放射部８０を備え、放射部８０から放射される熱エネルギーを用いて第２テーブル４２を所定の温度に調整する。
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【課題】 大きな真空チャンバステージを必要としてしまう等の従来技術が抱える諸々の問題点を解決すること。
【解決手段】 略平らな基板とチャックないしホルダーとのみを保持するのに十分大きな凹部を有する、基板を処理するための、特に真空適用に有用なステージの提供。凹んだ側の周囲は、段差ポンプ溝及びシールランドによって該凹部から隔離された空気軸受面を有する。空気軸受ランドはレファレンス板ガイド面に対して押し付けられ、略同一平面のシールランドは溝と凹部の間のフローに対する抵抗を生成し、ベースレファレンス板の反対側に放射線源が据えられる。VCS（真空チャンバステージ）は真空環境自体又は他の好適な実施形態において作動することができ、それはマルチステージが同一のツール又は処理列内で処理又は検査ステップ間を移動する可能性を提供する。 （もっと読む）

【課題】検査中にウエハの裏面に障害なく接近することを許容し、ウエハ上にかかる応力を最小化するウエハ保持装置を提供する。
【解決手段】ウエハ保持装置に確保される少なくとも１つのスペーサー３４を有する第１プレート、少なくとも１つのフィンガー３８を有する第２プレート２４であって、第２プレート２４が第１プレートに関して開き位置にある場合には、フィンガー３８がリップ３６から離れて位置し、および第２プレート２４が第１プレートに関して閉じ位置にある場合には、フィンガー３８およびリップ３６が協同してフィンガー３８およびリップ３６の間にあるウエハＷの規定部分を固定するように、少なくとも１つのフィンガー３８が第２プレート２４上に配置される。 （もっと読む）

【課題】 移動対象の部材を高精度に駆動する。
【解決手段】 所定間隔で離間した互いに平行な２つの直線部１４４を有するコイル体１４１を、固定子と可動子とのいずれか一方に備える。所定間隔と同等以下の間隔の空隙Ｓを、コイル体１４１の２つの直線部１４４の間に形成する工程と、空隙Ｓに前記所定間隔と同じ幅を有する間隔調整部材１４６を嵌合させる工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
コンパクトで検査精度の高いマスク検査装置を提供すること。
【解決手段】
本発明の一態様にかかる、マスク検査装置は、鉛直方向に被検査対象のマスク６を保持し、ＣＣＤカメラ３ａを鉛直方向に移動させてマスク６を検査するマスク検査装置であって、定盤２の上に立てられた角柱１と、角柱１の少なくとも２側面の基準面９、１０に対向するヘッド用直角ステージ１２と、ヘッド用直角ステージ１２を一定の高さに保つバランスウェイト４と、ヘッド用直角ステージ１２の各々の基準面側に設けられ、基準面側に気体を噴出する噴出部と気体を吸引する吸引部とを有するエアパッド１１と、ヘッド用直角ステージ１２を鉛直方向に移動させる鉛直方向駆動機構８とを備え、鉛直方向駆動機構のラック３５が角柱２に設けられているものである。 （もっと読む）

【課題】 調整スペースが不要でかつ調整作業を速やかに行えるステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ装置１００は、基準面１１ａ、１１ｂと案内面１２ａ、１２ｂを有する定盤１と、基準面１１ａ、１１ｂに対向する面と案内面１２ａ、１２ｂに対向する面を有するスライドテーブル２１を有するＸ軸ステージ２と、スライドテーブル２１を基準面１１ａ、１１ｂ及び案内面１２ａ、１２ｂに沿ってＸ軸方向に移動させるリニアモータ３と、スライドテーブル２１の基準面１１ａ、１１ｂ及び案内面１２ａ、１２ｂに対向する側に設けた複数のエアースライド部材４と、Ｙ軸方向に移動するスライドテーブル５１を有するＹ軸ステージ５を備え、エアースライド部材４はエアーを吹き出すエアーパッド４１ａ〜４１ｈと、これらのエアーパッドを基準面１１ａ、１１ｂ又は案内面１２ａ、１２ｂに向って移動させるエアーシリンダ４３と、連通孔４５を有する。 （もっと読む）

【課題】大面積基板に対応する大きさを有すると共に、陸送可能な定盤片に分割できる定盤を有することにより、容易に陸送でき、輸送コストを安価に抑えることができるＸＹステージ装置を提供する。
【解決手段】所定の長さ、幅及び厚さを有し、平坦な上面を有する定盤１００と、前記定盤１００の上面上でアクチュエータ２００によって移動可能に構成される可動ステージ２０とを備えるＸＹステージ装置において、前記定盤１００は、幅方向に対して分割された定盤片１０１ａの接合体であると共に、前記アクチュエータ２００は、前記可動ステージ２０の移動時に前記定盤片１０１ａ同士の接合部を跨がないように配設される。 （もっと読む）

【課題】基板の支持構造および／またはパターン形成デバイスが支持面の縁部に衝突した場合の損傷の危険を低減したリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、放射線ビームを提供するための照明システムと、縁部を有する支持面と、放射線ビームを横切るように移動させるオブジェクトを支持する支持構造とを含む。支持構造は支持面上に可動に支持される。装置はまた、支持面に関連付けられたリムを含む。支持構造およびリムは、支持構造がリムに向かって第１の方向に移動してリムと衝突できるように構成されている。支持構造上での衝突によって発生する総力が、少なくとも部分的に、第１の方向と逆向きの第２の方向から外れるように方向付けられる。 （もっと読む）

物体を熱処理する少なくとも１つの装置を含む熱処理システムであって、該装置は、１つのプラットフォーム、または互いに反対側に位置した２つのプラットフォームからなり、ここで少なくとも１つのプラットフォームは物体を加熱または冷却する少なくとも１つの熱的手段を有し、少なくとも１つのプラットフォームは、非接触で物体を支持する流体機械的手段を有している、熱処理システムである。前記プラットフォームは、少なくとも１つの、複数からなる基本セルからなる作動面を有し、この基本セルは、少なくとも１つの、複数からなる圧力吐出口と、少なくとも１つの、複数からなる流体排出流路を有するものである。各基本セルの圧力吐出口の少なくとも１つは、流量絞り機構を介して高圧流体源に流体的に接続され、この圧力吐出口は、前記物体とプラットフォームの作動面の間の流体クッションの形成維持のために加圧流体を供給するものである。流量絞り機構は、特性的には、流体的な戻しばね的な挙動を示すものである。各流体排出路は流入口と流出口を有し、各基本セルに対する質量流量の平衡をとるものである。 （もっと読む）

イオンビーム注入装置は、ビームラインに沿って移動するイオンビームを発生させるためのイオンビーム源と、イオンビームと交差するように加工物が配置されて、イオンビームによって加工物の表面にイオンを注入するための真空室、即ち、注入チャンバーとを含む。さらに、イオンビーム注入装置は、注入チャンバーに連結され、加工物24を支持する加工物支持構造体100を含む。加工物支持構造体は、加工物24を支持するための回転可能な受け台204を含む静電チャック202を有する。さらに、加工物支持構造体は、受け台に連結されて回転可能な第１リール262と、第１リールに連結された冷却ラインおよび電気導体等の設備を担持する屈曲性の中空コードとを含む。その結果、受け台が第１方向に回転すると、第１リールの回りに巻き取られる屈曲可能なコードの長さが増加し、また、受け台が第１方向と反対の方向に回転するとき、第１リールの巻き取られる屈曲可能なコードの長さが減少する。
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一方のウエハステージ（ＷＳＴ１）上のウエハに対する露光動作が行われるのと並行して両ウエハステージ（ＷＳＴ１，ＷＳＴ２）の入れ替えのため他方のウエハステージ（ＷＳＴ２）が一方のウエハステージの下方に一時的に位置する工程を含むこととすることで、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作と並行して、他方のウエハステージをその一方のウエハステージの下方に一時的に位置する手順に従った両ウエハステージの入れ替え動作（交換動作）の一部を行うことができる。これにより、一方のウエハステージ上のウエハに対する露光動作が終了した時点から両ウエハステージの入れ替え動作が開始される場合に比べてその入れ替えを短時間で行うことができる。 （もっと読む）

試料位置合わせ機構（１０）が、複数の軸に沿って動かせる可動ステージ（１２）と、試料取り付けチャック（１４）と結合され、それを支持する板（３５）と、板を可動ステージに結合し、可動ステージと板との間の異なる位置に相隔たり、かつ可動ステージと板との間の距離を変化させるために別々に制御できる、複数の直線変位機構（３６，３８）と、可動ステージおよび板に結合する可撓性部材（２２）と、を含む。可撓性部材は３つの運動軸で応従して動く。直線変位機構の直線変位に対応する可撓性部材は、試料取り付けチャックの直線および回転運動を３つの応従運動軸で可能にする。 （もっと読む）