【課題】露光精度の低下を抑制する露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板に所定のパターンを形成する露光装置であって、所定状態に設定された気体を収容する第１空間と、前記第１空間内を移動可能に配置された移動体と、前記第１空間に接続され、前記移動体の移動に応じて前記第１空間内との間で前記気体の移動が可能に設けられた第２空間と、前記第２空間から前記第１空間に流入する前記気体を前記所定状態となるように調整する調整装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】局所液浸型の露光装置のフットプリントの大型化を抑制する。
【解決手段】 露光装置１００は、投影光学系ＰＬの射出面と対向する位置にあるとき投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持可能な微動ステージＷＦＳ１と、微動ステージＷＦＳ１が投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持しているとき、微動ステージＷＦＳ１に所定距離以内に近接し、該近接状態を維持して微動ステージＷＦＳ１と共に移動し、その移動後に投影光学系ＰＬとの間で液体Ｌｑを保持するブレードＢＬを備えている。従って、投影光学系の直下に複数のステージを交換的に配置する必要がなく、露光装置のフットプリントの大型化を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】アライメント対象物の変形を抑制し、高精度のアライメントを行うアライメント技術を提供する。
【解決手段】アライメント対象物１０を吸着して回転するスピンチャック１１０を備えたアライメント装置１００であって、スピンチャック１１０が吸着している位置とは異なる位置において、回転するアライメント対象物１０を支持する支持部１３０を備えているアライメント装置１００を用いる。これにより、アライメント対象物１０の自重による撓み等の変形を抑制して、高精度のアライメントを行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 装置全体の大型化や、露光用ステージの重量増加を抑えたステージ装置を提供する。
【解決手段】 ステージ（１）と前記ステージを駆動する駆動手段（７ａ、７ｂ）とを備えるステージ装置において、コーナーキューブ（８ａ〜ｃ）と前記コーナーキューブに光を照射する干渉計（４、５ａ、５ｂ）と前記ステージに対して前記コーナーキューブを相対的に駆動する駆動機構（１３ａ、１３ｂ）とを含む前記ステージの位置を計測する位置計測手段と、前記ステージが駆動されても前記干渉計からの光が前記コーナーキューブに照射されつづけるように前記駆動機構を制御する制御手段（１５）とを有する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのプロセスモジュールを備える、平坦な基板の流体直列式処理のための装置及び方法に関する。特に、本発明は、基板の緩やかで且つ制御された搬送中のこのような処理に関し、処理は、基板の搬送にも関することができる。本発明によれば、処理平面５に実質的に水平に配置されており且つ下側流体クッション６Ａを形成するように設計された少なくとも１つの処理面７Ａを有する処理チャンバ２を含むプロセスモジュール１が設けられており、同じ平面における基板２２の線形送りのための入口３及び出口４の形式の２つの開口が、処理面７Ａに割り当てられており、処理チャンバ２内の基板２２の制御された送り９のための少なくとも１つのキャッチ１０を備えた少なくとも１つの送り装置が設けられている。さらに、本発明は、本発明による装置を使用する方法を提供する。
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【課題】板状部材の外周部分を検出して位置認識、アライメントを行う際に、板状部材を支持する支持面の外縁よりはみ出す外周部分の垂れ下がりやばたつきを防止すること。
【解決手段】ウエハＷの外縁よりも内側を支持する支持面１１Ａを含む支持手段１１と、ウエハＷの外縁を検出する検出手段１２と、ウエハＷと検出手段１２とを相対回転させる回転手段１５と、支持手段１１を直交２軸方向に移動させる移動手段１７と、前記各手段を制御するとともに、前記検出データを基にウエハＷの所定の基準位置を算出し、当該所定の基準位置を定位置に位置させる機能を含む制御手段と、支持面１１Ａの外縁からはみ出したウエハＷの外縁側部分Ｗ１を検出手段１２から一定距離隔てて非接触支持する非接触支持手段１４とを備えてアライメント装置１０が構成されている。 （もっと読む）

【課題】案内面の損傷を低減させるステージ装置を提供する。
【解決手段】
本発明のステージ装置は、ステージ部４と、ステージ部４の移動を案内する案内面を含む静圧軸受ガイド５と、ステージ部４に保持され且つ案内面に向けて気体を噴出するエアパッド２と、ステージ部４に保持され且つ案内面に対向した永久磁石３とを有するステージ装置であって、 静圧軸受ガイド５は、磁性体を含み且つ永久磁石３に対向した突出部を含む金属部７と、金属部７の硬度より高い硬度を有し、金属部７を被覆し、且つ案内面を有するセラミック部６とを含む。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、ウェハのウェハホルダに対する着脱、ウェハホルダの各装置に対する着脱を正確、高速かつ安定的に行うことが困難になってきている。
【解決手段】基板を保持する基板ホルダと、基板ホルダを載置するステージとを含む半導体処理装置であって、基板ホルダは、基板を保持するための静電吸着部と、基板を保持する保持面に設けられた貫通孔とを備え、ステージは、一端の開口が基板ホルダを載置する載置面において貫通孔と接続される第１吸引導管と、一端の開口が載置面において貫通孔とは接続されずに基板ホルダに対向する第２吸引導管とを備える。 （もっと読む）

【課題】制御モデルの同定を最適化し、以ってフィードフォワード制御による高精度な位置制御を行う。
【解決手段】制御対象物の制御特性を表すモデルを用いた完全追従制御により前記制御対象物をフィードフォワード制御するフィードフォワード制御手段を備えた制御装置において、前記モデルは、前記制御対象物の周波数応答曲線における第１の変曲点が周波数１０Ｈｚより低い領域に存在し、且つ、第２の変曲点が前記第１の変曲点の周波数より高く周波数１０Ｈｚより低い領域に存在している場合に、前記第１及び第２の変曲点を含む周波数範囲において前記周波数応答曲線との誤差が最小となるようにモデルパラメータが設定されている。 （もっと読む）

【課題】ワーク自体や粉塵等を吹き上げることなく、ワークを浮上させる。
【解決手段】非接触ワーク支持装置１０は、開口部１２Ｅが上方に向けられたハウジング１１を備える。圧力気体を供給流路１９を介してハウジング１１内部に送る。ハウジング１１内部において、圧力気体は、螺旋流路形成部１２Ｂの螺旋流路、縮径部１２Ｃ、円筒状の螺旋流形成部１２Ｄを通って、開口部１２Ｅから旋回気流として噴出する。螺旋気流は、ワークＷの下面に作用されて、ワークＷを浮上させる。 （もっと読む）

【課題】
ＸＹステージのピッチング方向の揺れを抑えた高精度な位置決めを行う基板ステージを提供する。
【解決手段】
ステージと、前記ステージを第１方向に駆動する第１駆動機構と、前記ステージを前記第１方向に直交する第２方向に駆動する第２駆動機構と、前記第２駆動機構による前記第２方向へのステージの駆動を案内する駆動ガイドと、前記駆動ガイドと対向して設けられ前記ステージを支持するエアベアリングと、を有するステージ装置であって、
前記第２駆動機構は、前記ステージを前記第１方向に駆動する手段を更に有し、前記第１駆動機構によって前記ステージを駆動する際に、前記駆動ガイドと前記エアベアリングとの間隔を、前記第２駆動機構を駆動することで制御する制御手段を有することを特徴とするステージ装置。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる位置合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数のウェハを重ね合わせる位置合わせ装置は、一の基板を保持する第１ステージと、第１ステージに対向して配され、他の基板を保持する第２ステージと、駆動力を第２ステージに対して作用させることにより、並進３自由度及び回転３自由度のうちの少なくとも５自由度で第２ステージを駆動するアクチュエータと、アクチュエータを制御して第２ステージに保持された他の基板を第１ステージに保持された一の基板に重ね合わせる制御部とを備える。 （もっと読む）

本発明は、基板のさらなるプロセスのためにキャリア基板上で基板の位置調整および予備付着を行うデバイスであって、基板の外側輪郭を、キャリア基板の外側輪郭に対して基板の外側輪郭上での動作によって位置調整する手段であって、基板とキャリア基板の間の接触面が及ぶ基板平面Eに沿って位置調整が行われる位置調整手段と、位置調整された基板をキャリア基板上に予備付着する手段を有するデバイスに関する。さらに本発明は、平坦基板のさらなるプロセスのためにキャリア基板上で基板の位置調整および予備付着を行うプロセスであって、基板の外側輪郭を、キャリア基板の外側の輪郭に対して、位置調整手段による基板の外側輪郭上での動作によって位置調整するステップであって、基板とキャリア基板の間の接触面が及ぶ基板平面Eに沿った位置調整が行われるステップと、位置調整された基板をキャリア基板上に予備付着する付着手段を有するプロセスに関する。
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【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージに位置検出用の光を照射する照射装置と、前記ステージの移動に応じて前記ステージの移動経路上の気体を前記光の光路から外れた位置に移動させる気体移動装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動に応じて前記所定空間を移動する移動体と、前記移動体に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】
静圧軸受手段が走査する定盤案内面の面精度を高め、渦電流をさらに低減する定盤の構成により、露光装置を高速化し、転写精度を向上するステージ装置を提供する。
【解決手段】
定盤と、該定盤面に沿って移動するステージと、該ステージを駆動する駆動手段と、前記ステージと前記定盤面との間を非接触に保つための静圧軸受手段と、前記定盤面の所定部位に対向するように前記ステージに保持された磁気手段と、を有するステージ装置において、前記磁気手段が対向する前記定盤の所定部位に磁性体を配置すると共に前記静圧軸受手段が対向する前記磁性体の表面に非磁性体を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間の所定面上を、前記基板を保持して移動するステージと、前記所定面に対して前記ステージを浮上させる浮上装置と、前記浮上装置に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】一層の小型化が可能なステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置１は、定盤２上を移動するＹ軸移動体４と、Ｙ軸移動体４を駆動するＹ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂと、Ｙ軸移動体を定盤２上で支持する転がりガイド１１及びＹ軸リフトエアパッド１２と、を備えている。Ｙ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂは、定盤２の盤面２ａと間に空間Ａ１，Ａ２が形成されるように定盤２にそれぞれ固定されたＹ軸シャフト部２１Ａ，２１Ｂと、Ｙ軸移動体４にそれぞれ固定されたＹ軸コイル部２２Ａ，２２Ｂと、を有している。このステージ装置１においては、かかる空間Ａ１，Ａ２に、転がりガイド１１及びＹ軸リフトエアパッド１２の少なくとも一部が入り込んでいることから、Ｙ軸シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂを備えたことによる空間構成が好適なものとなり、フットプリントを小さくすることができる。 （もっと読む）