基板昇降移送装置及び基板処理移送システム
【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。
【解決手段】第１基板処理装置３の一側に第１姿勢切替用保持具３７を備えた第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板処理装置５の一側に第２姿勢切替用保持具４９を備えた第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第１姿勢切替部材２９の一側に立設した支持フレーム５３に上下方向へ延びた無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、無端状部材６３に複数の昇降用保持具６９が周方向に間隔を置いて設けられたこと。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーン搬送等の分野において用いられる基板昇降移送装置及び基板処理移送システムに関する。
【０００２】
等に関する。
【背景技術】
【０００３】
クリーン搬送の分野において、下階フロアに配設された第１基板処理装置と上階フロアに配設された第２基板処理装置との間で、ガラス基板等の基板の昇降移送（移送）を行う基板昇降移送装置が用いられることがあり、一般的な基板昇降移送装置の構成等は、次のようになる。
【０００４】
即ち、第１基板処理装置の近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドが設けられており、この昇降ガイドには、基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられている。また、昇降ガイドの適宜位置には、昇降テーブルを昇降させる昇降用モータが設けられている。ここで、昇降テーブルは、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第１基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっており、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第２基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっている。
【０００５】
従って、昇降用モータの駆動により昇降体を下降させて、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、第１基板処理装置から昇降テーブルに基板を引き出す。そして、昇降用モータの駆動により昇降体を上昇させて、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。更に、昇降テーブルから第２基板処理装置に基板を送り出す。
【０００６】
以上により、第１基板処理装置から第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。また、基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【０００７】
なお、本発明に関連する先行技術として特許文献１に示すものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１−３１８２４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、前述のように、一般的な基板昇降移送装置にあっては、昇降ガイドに基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられているため、基板を倒伏姿勢に保ちつつ昇降させることになり、基板昇降移送装置の平面スペース（設置スペース）として少なくとも基板一枚分の平面積（平面スペース）以上必要になる。そのため、基板昇降移送装置の平面スペースが増大して、工場のスペースの有効利用を図ることが難しくなる。特に、近年、基板の大型化が急速に進んでおり、前述の問題はより顕著になってきている。
【００１０】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板昇降移送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢（倒伏姿勢／起立姿勢）とに切り替える第１姿勢切替部材と、前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢（倒伏姿勢／起立姿勢）とに切り替える第２姿勢切替部材と、前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、前記第１姿勢切替部材の一側に立設した支持フレームに循環走行可能に設けられ、上下方向へ延びた無端状部材と、前記無端状部材を循環走行させる走行用アクチュエータと、前記無端状部材に周方向に間隔を置いて設けられ、起立姿勢の基板を保持する複数の昇降用保持具と、を具備したことを要旨とする。
【００１２】
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書中において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、同様に、「配設され」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「基板の処理」とは、基板の搬送処理、基板のプロセス処理、基板の保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。
【００１３】
第１の特徴によると、前記第１姿勢切替用保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。次に、前記第１姿勢切替用アクチュエータの駆動により前記第１姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用保持具によって起立姿勢の基板を保持し、前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。更に、前記走行アクチュエータの駆動により前記無端状部材を一方向へ循環走行させて、基板を起立姿勢に保ちつつ上昇せる。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板を前記第１基板処理装置側から前記基板昇降移送装置側へ送り出すことができる。
【００１４】
前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除した後に、前記走行用アクチュエータの駆動により前記無端状部材を一方向へ循環走行させて、基板を保持した前記昇降用保持具を前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、前記第２姿勢切替用保持具によって基板を保持し、前記昇降用保持具による保持状態を解除する。そして、前記第２姿勢切替用アクチュエータの駆動により前記第２姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記第２姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板を前記基板昇降移送装置側から前記第２基板処理装置側へ送り出すことができる。
【００１５】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送（移送）を行うことができる。また、前述の動作と逆の動作を行うことにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００１６】
要するに、前記第１基板処理装置の一側に前記第１姿勢切替用保持具を有した前記第１姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記第２基板処理装置の一側に前記第２姿勢切替用保持具を有した前記第２姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記無端状部材に複数の前記昇降用保持具が周方向に間隔を置いて設けられているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００１７】
また、前記支持フレームに上下方向へ延びた前記無端状部材が循環走行可能に設けられ、前記無端状部材に複数の前記昇降用保持具が周方向に間隔を置いて設けられているため、複数の基板を前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ又は前記第２基板処理装置から前記第２基板処理装置へ連続的に昇降移送することができる。
【００１８】
本発明の第２の特徴は、基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う第１の特徴からなる基板昇降移送装置と、を備えたことを要旨とする。
【００１９】
第２の特徴によると、第１の特徴による作用と同様の作用を奏する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができるため、前記基板昇降移送装置の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００２１】
また、複数の基板を前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ又は前記第２基板処理装置から前記第２基板処理装置へ連続的に昇降移送することができるため、基板の昇降移送のサイクルタイム（タクトタイム）を短くして、基板に関する一連の作業の能率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムを示す側断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図４】図１におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図１におけるV-V線に沿った図である。
【図６】昇降用クランパの周辺の斜視図である。
【図７】昇降用クランパのアンクランプ動作を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態について図１から図７を参照して説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００２４】
図１に示すように、本発明の実施形態に係る基板処理移送システム１は、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム１は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）３と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５と、第１基板搬送処理装置３と第２基板搬送処理装置５の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置７とを備えている。
【００２５】
基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３の構成は、次のようになる。
【００２６】
即ち、図１及び図４に示すように、下階フロアＬＦには、第１処理装置本体９が設けられており、この第１処理装置本体９は、第１基板搬送処理装置３のベースを構成するものである。また、第１処理装置本体９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第１浮上ユニット１１が設けられており、各第１浮上ユニット１１の上面には、エアを噴出する枠状のノズル１１ｎがそれぞれ形成されており、各ノズル１１ｎは、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
【００２７】
なお、各第１浮上ユニット１１の上面に枠状のノズル１１ｎが形成される代わりに、複数の丸穴状のノズルが形成されるようにしても構わない。
【００２８】
第１処理装置本体９には、搬送方向（左右方向）へ延びた一対の第１ローラ支持部材１３が搬送幅方向（前後方向）に離隔して設けられており、各第１ローラ支持部材１３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第１搬送ローラ１５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第１ローラ支持部材１３の適宜位置には、複数の第１搬送ローラ１５を回転させる第１搬送用モータ１７がそれぞれ設けられており、各第１搬送用モータ１７の出力軸（図示省略）は、複数の第１搬送ローラ１５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００２９】
基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５の構成は、次のようになる。
【００３０】
即ち、図１及び図５に示すように、上階フロアＵＦには、第２処理装置本体１９が設けられており、この第２処理装置本体１９は、第２基板搬送処理装置５のベースを構成するものである。また、第２処理装置本体１９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第２浮上ユニット２１が設けられており、各第２浮上ユニット２１の上面には、第１浮上ユニット１１と同様に、エアを噴出する枠状のノズル２１ｎがそれぞれ形成されている。
【００３１】
第２処理装置本体１９には、搬送方向へ延びた一対の第２ローラ支持部材２３が搬送幅方向に離隔して設けられており、各第２ローラ支持部材２３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第２搬送ローラ２５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第２ローラ支持部材２３の適宜位置には、複数の第２搬送ローラ２５を回転させる第２搬送用モータ２７がそれぞれ設けられており、各第２搬送用モータ２７の出力軸（図示省略）は、複数の第２搬送ローラ２５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３２】
基板処理移送システム１の基板昇降移送装置７の具体的な構成は、次のようになる。
【００３３】
図１及び図４に示すように、第１基板搬送処理装置３の第１処理装置本体９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図１において仮想線で示す姿勢）と倒伏姿勢（図１において実線で示す姿勢）とに切り替える第１姿勢切替部材２９が一対のブラケット３１を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第１姿勢切替部材２９は、第１基板搬送処理装置３の第１処理装置本体９の左側近傍に一対のブラケット３１を介して回転可能に設けられた第１揺動シャフト３３と、この第１揺動シャフト３３の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第１揺動アーム３５と、各第１揺動アーム３５に長手方向に間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第１姿勢切替用吸着パッド（第１姿勢切替用保持具の一例）３７とを備えている。そして、一方のブラケット３１には、第１姿勢切替部材２９を揺動させる第１姿勢切替用モータ（第１姿勢切替用アクチュエータの一例）３９が設けられており、この第１姿勢切替用モータ３９の出力軸（図示省略）は、第１揺動シャフト３３にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第１姿勢切替部材２９を揺動させても、一対の第１揺動アーム３５は第１浮上ユニット１１に干渉しないようになっている。
【００３４】
なお、第１揺動アーム３５に第１姿勢切替用吸着パッド３７が設けられる代わりに、他の第１姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第１姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第１姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００３５】
図１、図３、及び図５に示すように、第２基板搬送処理装置５の第２処理装置本体１９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図３において実線で示す姿勢）と倒伏姿勢（図３において仮想線で示す姿勢）とに切り替える第２姿勢切替部材４１が一対のブラケット４３を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第２姿勢切替部材４１は、第２基板搬送処理装置５の第２処理装置本体１９の左側近傍に一対のブラケット４３を介して回転可能に設けられた第２揺動シャフト４５と、この第２揺動シャフト４５の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第２揺動アーム４７と、各第２揺動アーム４７に長手方向に間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第２姿勢切替用吸着パッド（第２姿勢切替用保持具の一例）４９とを備えている。そして、一方のブラケット４３には、第２姿勢切替部材４１を揺動させる第２姿勢切替用モータ（第２姿勢切替用アクチュエータの一例）５１が設けられており、この第２姿勢切替用モータ５１の出力軸（図示省略）は、第２揺動シャフト４５にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第２姿勢切替部材４１を揺動させても、一対の第２揺動アーム４７は第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００３６】
なお、第２揺動アーム４７に第２姿勢切替用吸着パッド４９が設けられる代わりに、他の第２姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第２姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第２姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００３７】
図１、図４、及び図５に示すように、第１姿勢切替部材２９の左側近傍には、上下方向へ延びた一対の支持フレーム５３が立設されており、一対の支持フレーム５３は、前後に離隔しかつ一体的に連結してある。また、各支持フレーム５３の上部には、上部プーリ又は上部スプロケット等の上部回転車５５が共通の上部回転軸５７を介して回転可能に設けられており、各支持フレーム５３の下部には、下部プーリ又は下部スプロケット等の下部回転車５９が共通の下部回転軸６１を介して回転可能に設けられている。更に、対応関係にある上部回転車５５と下部回転車５９には、上下方向へ延びかつ循環走行可能な無端ベルト又は無端チェーン等の無端状部材６３が巻回して設けられている。換言すれば、各支持フレーム５３には、無端状部材６３が上部回転車５５及び下部回転車５９を介して循環走行可能に設けられている。そして、一方の支持フレーム５３の上部の適宜位置には、一対の無端状部材６３を循環走行させる走行用モータ（走行用アクチュエータの一例）６５が設けられており、この走行用モータ６５の出力軸（図示省略）は、共通の上部回転軸５７にカップリング（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３８】
図１、図６、及び図７に示すように、一対の無端状部材６３には、前後方向へ延びた複数の連結バー６７が周方向に間隔を置きかつ連結するように設けられており、各連結バー６７の両端部には、起立姿勢の基板Ｗの端部を把持する昇降用クランパ（昇降用保持具の一例）６９が設けられている。換言すれば、一対の無端状部材６３には、複数の昇降用クランパ６９が複数の連結バー６７を介して周方向に間隔を置いて設けられている。そして、各昇降用クランパ６９は、連結バー６７に設けられたクランパ本体７１と、このクランパ本体７１に一体的に設けられ（形成され）固定クランプ爪７３と、クランパ本体７１にクランプ方向・アンクランプ方向へクランプピン７５を介して揺動（回動）可能に設けられかつ固定クランプ爪７３との協働により基板Ｗの端部を把持する可動クランプ爪７７と、この可動クランプ爪７７の基部に一体的に設けられた作動レバー７９と、クランパ本体７１における連結バー６７と作動レバー７９の間に設けられかつ可動クランプ爪７７をクランプ方向へ付勢するスプリング８１とを備えている。
【００３９】
各支持フレーム５３の下部の適宜位置には、第１アンクランプ用エアシリンダ（第１アンクランプ用アクチュエータの一例）８３が上部取付アーム８５を介して設けられており、この第１アンクランプ用エアシリンダ８３は、第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における作動レバー７９を押圧して、可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動（移動の一例）させるものである。同様に、各支持フレーム５３の上部の適宜位置には、第２アンクランプ用エアシリンダ（第２アンクランプ用アクチュエータの一例）８７が下部取付アーム８９を介して設けられており、この第２アンクランプ用エアシリンダ８７は、第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における作動レバー７９を押圧して、可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させるものである。
【００４０】
なお、一対の無端状部材６３に昇降用クランパ６９が連結バー６７を介して設けられる代わりに、他の昇降用保持具として、基板Ｗの表面を吸着する昇降用吸着パッド（図示省略）が連結バー６７等を介して設けられるようにしても構わない。
【００４１】
続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。
【００４２】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動により複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の第１揺動アーム３５の上側（第１基板搬送処理装置３の所定位置）に位置させることができる（図４参照）。
【００４３】
基板Ｗを待機した一対の第１揺動アーム３５の上側に位置させた後に、複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７によって基板Ｗの裏面を吸着すると共に、図１に示すように、各第１アンクランプ用エアシリンダ８３の駆動により第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させる（図７参照）。次に、図１に示すように、第１姿勢切替用モータ３９の駆動により第１姿勢切替部材２９を揺動させて、基板Ｗの姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、各第１アンクランプ用エアシリンダ８３の駆動停止により第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９によって起立姿勢の基板Ｗの端部を把持し、複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７による吸着状態を解除する。更に、図２に示すように、走行用モータ６５の駆動により無端状部材６３を一方向へ循環走行させて、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ上昇させる。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３側から基板昇降移送装置７側へ送り出すことができる。
【００４４】
複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７による吸着状態を解除した後に、図３に示すように、走行用モータ６５の駆動により無端状部材６３を一方向へ循環走行させて、基板Ｗの端部を把持した昇降用クランパ６９を第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置させる。次に、複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９によって基板Ｗの裏面を吸着し、各第２アンクランプ用エアシリンダ８７の駆動により第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させて、昇降用クランパ６９による把持状態を解除する（図７参照）。そして、図３に示すように、第２姿勢切替用モータ５１の駆動により第２姿勢切替部材４１を揺動させて、基板Ｗの姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９による吸着状態を解除する。前述の動作を繰り返すことにより、複数の」基板Ｗを基板昇降移送装置７側から第２基板搬送処理装置５側へ送り出すことができる。
【００４５】
複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９による吸着状態を解除した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動により複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５の所定位置に位置させることができる（図５参照）。
【００４６】
以上により、第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。また、前述の動作と逆の動作を行うことにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００４７】
要するに、第１基板搬送処理装置３の左側近傍に複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７を有した第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板搬送処理装置５の左側近傍に複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９を有した第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、一対の無端状部材６３に複数の昇降用クランパ６９が周方向に間隔を置いて設けられているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００４８】
また、一対の支持フレーム５３に上下方向へ延びた一対の無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、一対の無端状部材６３に複数の昇降用クランパ６９が周方向に間隔を置いて設けられているため、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５へ又は第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３へ連続的に昇降移送することができる。
【００４９】
従って、本発明の実施形態によれば、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００５０】
また、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５へ又は第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３へ連続的に昇降移送することができるため、基板Ｗの昇降移送のサイクルタイムを短くして、基板Ｗに関する一連の作業の能率を向上させることができる。
【００５１】
更に、下階フロアＬＦと上階フロアＵＦの高さ間隔が大きい場合には、昇降用クランパ６９の個数を増やして、基板昇降移送装置７を多数の基板Ｗを保管する装置として利用することができる。
【００５２】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【符号の説明】
【００５３】
ＬＦ 下階フロア
ＵＦ 上階フロア
Ｗ 基板
１ 基板処理移送システム
３ 第１基板搬送処理装置
５ 第２基板搬送処理装置
７ 基板昇降移送装置
１１ 第１浮上ユニット
１５ 第１搬送ローラ
１７ 第１搬送用モータ
２１ 第２浮上ユニット
２５ 第２搬送ローラ
２７ 第２搬送用モータ
２９ 第１姿勢切替部材
３３ 第１揺動シャフト
３５ 第１揺動アーム
３７ 第１姿勢切替用吸着パッド
３９ 第１姿勢切替用モータ
４１ 第２姿勢切替部材
４５ 第２揺動シャフト
４７ 第２揺動アーム
４９ 第２姿勢切替用吸着パッド
５１ 第２姿勢切替用モータ
５３ 支持フレーム
５５ 上部回転車
５９ 下部回転車
６３ 無端状部材
６５ 走行用モータ
６７ 連結バー
６９ 昇降用クランパ
７１ クランパ本体
７３ 固定クランプ爪
７７ 可動クランプ爪
７９ 作動レバー
８１ スプリング
８３ 第１アンクランプ用エアシリンダ
８７ 第２アンクランプ用エアシリンダ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーン搬送等の分野において用いられる基板昇降移送装置及び基板処理移送システムに関する。
【０００２】
等に関する。
【背景技術】
【０００３】
クリーン搬送の分野において、下階フロアに配設された第１基板処理装置と上階フロアに配設された第２基板処理装置との間で、ガラス基板等の基板の昇降移送（移送）を行う基板昇降移送装置が用いられることがあり、一般的な基板昇降移送装置の構成等は、次のようになる。
【０００４】
即ち、第１基板処理装置の近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドが設けられており、この昇降ガイドには、基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられている。また、昇降ガイドの適宜位置には、昇降テーブルを昇降させる昇降用モータが設けられている。ここで、昇降テーブルは、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第１基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっており、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第２基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっている。
【０００５】
従って、昇降用モータの駆動により昇降体を下降させて、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、第１基板処理装置から昇降テーブルに基板を引き出す。そして、昇降用モータの駆動により昇降体を上昇させて、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。更に、昇降テーブルから第２基板処理装置に基板を送り出す。
【０００６】
以上により、第１基板処理装置から第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。また、基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【０００７】
なお、本発明に関連する先行技術として特許文献１に示すものがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１−３１８２４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
ところで、前述のように、一般的な基板昇降移送装置にあっては、昇降ガイドに基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられているため、基板を倒伏姿勢に保ちつつ昇降させることになり、基板昇降移送装置の平面スペース（設置スペース）として少なくとも基板一枚分の平面積（平面スペース）以上必要になる。そのため、基板昇降移送装置の平面スペースが増大して、工場のスペースの有効利用を図ることが難しくなる。特に、近年、基板の大型化が急速に進んでおり、前述の問題はより顕著になってきている。
【００１０】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板昇降移送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の第１の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢（倒伏姿勢／起立姿勢）とに切り替える第１姿勢切替部材と、前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢（倒伏姿勢／起立姿勢）とに切り替える第２姿勢切替部材と、前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、前記第１姿勢切替部材の一側に立設した支持フレームに循環走行可能に設けられ、上下方向へ延びた無端状部材と、前記無端状部材を循環走行させる走行用アクチュエータと、前記無端状部材に周方向に間隔を置いて設けられ、起立姿勢の基板を保持する複数の昇降用保持具と、を具備したことを要旨とする。
【００１２】
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書中において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、同様に、「配設され」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「基板の処理」とは、基板の搬送処理、基板のプロセス処理、基板の保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。
【００１３】
第１の特徴によると、前記第１姿勢切替用保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。次に、前記第１姿勢切替用アクチュエータの駆動により前記第１姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用保持具によって起立姿勢の基板を保持し、前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。更に、前記走行アクチュエータの駆動により前記無端状部材を一方向へ循環走行させて、基板を起立姿勢に保ちつつ上昇せる。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板を前記第１基板処理装置側から前記基板昇降移送装置側へ送り出すことができる。
【００１４】
前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除した後に、前記走行用アクチュエータの駆動により前記無端状部材を一方向へ循環走行させて、基板を保持した前記昇降用保持具を前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、前記第２姿勢切替用保持具によって基板を保持し、前記昇降用保持具による保持状態を解除する。そして、前記第２姿勢切替用アクチュエータの駆動により前記第２姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記第２姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板を前記基板昇降移送装置側から前記第２基板処理装置側へ送り出すことができる。
【００１５】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送（移送）を行うことができる。また、前述の動作と逆の動作を行うことにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００１６】
要するに、前記第１基板処理装置の一側に前記第１姿勢切替用保持具を有した前記第１姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記第２基板処理装置の一側に前記第２姿勢切替用保持具を有した前記第２姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記無端状部材に複数の前記昇降用保持具が周方向に間隔を置いて設けられているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００１７】
また、前記支持フレームに上下方向へ延びた前記無端状部材が循環走行可能に設けられ、前記無端状部材に複数の前記昇降用保持具が周方向に間隔を置いて設けられているため、複数の基板を前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ又は前記第２基板処理装置から前記第２基板処理装置へ連続的に昇降移送することができる。
【００１８】
本発明の第２の特徴は、基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う第１の特徴からなる基板昇降移送装置と、を備えたことを要旨とする。
【００１９】
第２の特徴によると、第１の特徴による作用と同様の作用を奏する。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができるため、前記基板昇降移送装置の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００２１】
また、複数の基板を前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置へ又は前記第２基板処理装置から前記第２基板処理装置へ連続的に昇降移送することができるため、基板の昇降移送のサイクルタイム（タクトタイム）を短くして、基板に関する一連の作業の能率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムを示す側断面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図４】図１におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図１におけるV-V線に沿った図である。
【図６】昇降用クランパの周辺の斜視図である。
【図７】昇降用クランパのアンクランプ動作を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
本発明の実施形態について図１から図７を参照して説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００２４】
図１に示すように、本発明の実施形態に係る基板処理移送システム１は、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム１は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）３と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５と、第１基板搬送処理装置３と第２基板搬送処理装置５の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置７とを備えている。
【００２５】
基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３の構成は、次のようになる。
【００２６】
即ち、図１及び図４に示すように、下階フロアＬＦには、第１処理装置本体９が設けられており、この第１処理装置本体９は、第１基板搬送処理装置３のベースを構成するものである。また、第１処理装置本体９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第１浮上ユニット１１が設けられており、各第１浮上ユニット１１の上面には、エアを噴出する枠状のノズル１１ｎがそれぞれ形成されており、各ノズル１１ｎは、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
【００２７】
なお、各第１浮上ユニット１１の上面に枠状のノズル１１ｎが形成される代わりに、複数の丸穴状のノズルが形成されるようにしても構わない。
【００２８】
第１処理装置本体９には、搬送方向（左右方向）へ延びた一対の第１ローラ支持部材１３が搬送幅方向（前後方向）に離隔して設けられており、各第１ローラ支持部材１３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第１搬送ローラ１５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第１ローラ支持部材１３の適宜位置には、複数の第１搬送ローラ１５を回転させる第１搬送用モータ１７がそれぞれ設けられており、各第１搬送用モータ１７の出力軸（図示省略）は、複数の第１搬送ローラ１５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００２９】
基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５の構成は、次のようになる。
【００３０】
即ち、図１及び図５に示すように、上階フロアＵＦには、第２処理装置本体１９が設けられており、この第２処理装置本体１９は、第２基板搬送処理装置５のベースを構成するものである。また、第２処理装置本体１９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第２浮上ユニット２１が設けられており、各第２浮上ユニット２１の上面には、第１浮上ユニット１１と同様に、エアを噴出する枠状のノズル２１ｎがそれぞれ形成されている。
【００３１】
第２処理装置本体１９には、搬送方向へ延びた一対の第２ローラ支持部材２３が搬送幅方向に離隔して設けられており、各第２ローラ支持部材２３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第２搬送ローラ２５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第２ローラ支持部材２３の適宜位置には、複数の第２搬送ローラ２５を回転させる第２搬送用モータ２７がそれぞれ設けられており、各第２搬送用モータ２７の出力軸（図示省略）は、複数の第２搬送ローラ２５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３２】
基板処理移送システム１の基板昇降移送装置７の具体的な構成は、次のようになる。
【００３３】
図１及び図４に示すように、第１基板搬送処理装置３の第１処理装置本体９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図１において仮想線で示す姿勢）と倒伏姿勢（図１において実線で示す姿勢）とに切り替える第１姿勢切替部材２９が一対のブラケット３１を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第１姿勢切替部材２９は、第１基板搬送処理装置３の第１処理装置本体９の左側近傍に一対のブラケット３１を介して回転可能に設けられた第１揺動シャフト３３と、この第１揺動シャフト３３の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第１揺動アーム３５と、各第１揺動アーム３５に長手方向に間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第１姿勢切替用吸着パッド（第１姿勢切替用保持具の一例）３７とを備えている。そして、一方のブラケット３１には、第１姿勢切替部材２９を揺動させる第１姿勢切替用モータ（第１姿勢切替用アクチュエータの一例）３９が設けられており、この第１姿勢切替用モータ３９の出力軸（図示省略）は、第１揺動シャフト３３にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第１姿勢切替部材２９を揺動させても、一対の第１揺動アーム３５は第１浮上ユニット１１に干渉しないようになっている。
【００３４】
なお、第１揺動アーム３５に第１姿勢切替用吸着パッド３７が設けられる代わりに、他の第１姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第１姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第１姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００３５】
図１、図３、及び図５に示すように、第２基板搬送処理装置５の第２処理装置本体１９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図３において実線で示す姿勢）と倒伏姿勢（図３において仮想線で示す姿勢）とに切り替える第２姿勢切替部材４１が一対のブラケット４３を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第２姿勢切替部材４１は、第２基板搬送処理装置５の第２処理装置本体１９の左側近傍に一対のブラケット４３を介して回転可能に設けられた第２揺動シャフト４５と、この第２揺動シャフト４５の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第２揺動アーム４７と、各第２揺動アーム４７に長手方向に間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第２姿勢切替用吸着パッド（第２姿勢切替用保持具の一例）４９とを備えている。そして、一方のブラケット４３には、第２姿勢切替部材４１を揺動させる第２姿勢切替用モータ（第２姿勢切替用アクチュエータの一例）５１が設けられており、この第２姿勢切替用モータ５１の出力軸（図示省略）は、第２揺動シャフト４５にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第２姿勢切替部材４１を揺動させても、一対の第２揺動アーム４７は第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００３６】
なお、第２揺動アーム４７に第２姿勢切替用吸着パッド４９が設けられる代わりに、他の第２姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第２姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第２姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００３７】
図１、図４、及び図５に示すように、第１姿勢切替部材２９の左側近傍には、上下方向へ延びた一対の支持フレーム５３が立設されており、一対の支持フレーム５３は、前後に離隔しかつ一体的に連結してある。また、各支持フレーム５３の上部には、上部プーリ又は上部スプロケット等の上部回転車５５が共通の上部回転軸５７を介して回転可能に設けられており、各支持フレーム５３の下部には、下部プーリ又は下部スプロケット等の下部回転車５９が共通の下部回転軸６１を介して回転可能に設けられている。更に、対応関係にある上部回転車５５と下部回転車５９には、上下方向へ延びかつ循環走行可能な無端ベルト又は無端チェーン等の無端状部材６３が巻回して設けられている。換言すれば、各支持フレーム５３には、無端状部材６３が上部回転車５５及び下部回転車５９を介して循環走行可能に設けられている。そして、一方の支持フレーム５３の上部の適宜位置には、一対の無端状部材６３を循環走行させる走行用モータ（走行用アクチュエータの一例）６５が設けられており、この走行用モータ６５の出力軸（図示省略）は、共通の上部回転軸５７にカップリング（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３８】
図１、図６、及び図７に示すように、一対の無端状部材６３には、前後方向へ延びた複数の連結バー６７が周方向に間隔を置きかつ連結するように設けられており、各連結バー６７の両端部には、起立姿勢の基板Ｗの端部を把持する昇降用クランパ（昇降用保持具の一例）６９が設けられている。換言すれば、一対の無端状部材６３には、複数の昇降用クランパ６９が複数の連結バー６７を介して周方向に間隔を置いて設けられている。そして、各昇降用クランパ６９は、連結バー６７に設けられたクランパ本体７１と、このクランパ本体７１に一体的に設けられ（形成され）固定クランプ爪７３と、クランパ本体７１にクランプ方向・アンクランプ方向へクランプピン７５を介して揺動（回動）可能に設けられかつ固定クランプ爪７３との協働により基板Ｗの端部を把持する可動クランプ爪７７と、この可動クランプ爪７７の基部に一体的に設けられた作動レバー７９と、クランパ本体７１における連結バー６７と作動レバー７９の間に設けられかつ可動クランプ爪７７をクランプ方向へ付勢するスプリング８１とを備えている。
【００３９】
各支持フレーム５３の下部の適宜位置には、第１アンクランプ用エアシリンダ（第１アンクランプ用アクチュエータの一例）８３が上部取付アーム８５を介して設けられており、この第１アンクランプ用エアシリンダ８３は、第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における作動レバー７９を押圧して、可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動（移動の一例）させるものである。同様に、各支持フレーム５３の上部の適宜位置には、第２アンクランプ用エアシリンダ（第２アンクランプ用アクチュエータの一例）８７が下部取付アーム８９を介して設けられており、この第２アンクランプ用エアシリンダ８７は、第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における作動レバー７９を押圧して、可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させるものである。
【００４０】
なお、一対の無端状部材６３に昇降用クランパ６９が連結バー６７を介して設けられる代わりに、他の昇降用保持具として、基板Ｗの表面を吸着する昇降用吸着パッド（図示省略）が連結バー６７等を介して設けられるようにしても構わない。
【００４１】
続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。
【００４２】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動により複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の第１揺動アーム３５の上側（第１基板搬送処理装置３の所定位置）に位置させることができる（図４参照）。
【００４３】
基板Ｗを待機した一対の第１揺動アーム３５の上側に位置させた後に、複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７によって基板Ｗの裏面を吸着すると共に、図１に示すように、各第１アンクランプ用エアシリンダ８３の駆動により第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させる（図７参照）。次に、図１に示すように、第１姿勢切替用モータ３９の駆動により第１姿勢切替部材２９を揺動させて、基板Ｗの姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、各第１アンクランプ用エアシリンダ８３の駆動停止により第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９によって起立姿勢の基板Ｗの端部を把持し、複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７による吸着状態を解除する。更に、図２に示すように、走行用モータ６５の駆動により無端状部材６３を一方向へ循環走行させて、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ上昇させる。前述の動作を繰り返すことにより、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３側から基板昇降移送装置７側へ送り出すことができる。
【００４４】
複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７による吸着状態を解除した後に、図３に示すように、走行用モータ６５の駆動により無端状部材６３を一方向へ循環走行させて、基板Ｗの端部を把持した昇降用クランパ６９を第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置させる。次に、複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９によって基板Ｗの裏面を吸着し、各第２アンクランプ用エアシリンダ８７の駆動により第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置した昇降用クランパ６９における可動クランプ爪７７をスプリング８１の付勢力に抗してアンクランプ方向へ揺動させて、昇降用クランパ６９による把持状態を解除する（図７参照）。そして、図３に示すように、第２姿勢切替用モータ５１の駆動により第２姿勢切替部材４１を揺動させて、基板Ｗの姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９による吸着状態を解除する。前述の動作を繰り返すことにより、複数の」基板Ｗを基板昇降移送装置７側から第２基板搬送処理装置５側へ送り出すことができる。
【００４５】
複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９による吸着状態を解除した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動により複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５の所定位置に位置させることができる（図５参照）。
【００４６】
以上により、第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。また、前述の動作と逆の動作を行うことにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００４７】
要するに、第１基板搬送処理装置３の左側近傍に複数の第１姿勢切替用吸着パッド３７を有した第１姿勢切替部材２９が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板搬送処理装置５の左側近傍に複数の第２姿勢切替用吸着パッド４９を有した第２姿勢切替部材４１が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、一対の無端状部材６３に複数の昇降用クランパ６９が周方向に間隔を置いて設けられているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００４８】
また、一対の支持フレーム５３に上下方向へ延びた一対の無端状部材６３が循環走行可能に設けられ、一対の無端状部材６３に複数の昇降用クランパ６９が周方向に間隔を置いて設けられているため、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５へ又は第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３へ連続的に昇降移送することができる。
【００４９】
従って、本発明の実施形態によれば、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００５０】
また、複数の基板Ｗを第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５へ又は第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３へ連続的に昇降移送することができるため、基板Ｗの昇降移送のサイクルタイムを短くして、基板Ｗに関する一連の作業の能率を向上させることができる。
【００５１】
更に、下階フロアＬＦと上階フロアＵＦの高さ間隔が大きい場合には、昇降用クランパ６９の個数を増やして、基板昇降移送装置７を多数の基板Ｗを保管する装置として利用することができる。
【００５２】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【符号の説明】
【００５３】
ＬＦ 下階フロア
ＵＦ 上階フロア
Ｗ 基板
１ 基板処理移送システム
３ 第１基板搬送処理装置
５ 第２基板搬送処理装置
７ 基板昇降移送装置
１１ 第１浮上ユニット
１５ 第１搬送ローラ
１７ 第１搬送用モータ
２１ 第２浮上ユニット
２５ 第２搬送ローラ
２７ 第２搬送用モータ
２９ 第１姿勢切替部材
３３ 第１揺動シャフト
３５ 第１揺動アーム
３７ 第１姿勢切替用吸着パッド
３９ 第１姿勢切替用モータ
４１ 第２姿勢切替部材
４５ 第２揺動シャフト
４７ 第２揺動アーム
４９ 第２姿勢切替用吸着パッド
５１ 第２姿勢切替用モータ
５３ 支持フレーム
５５ 上部回転車
５９ 下部回転車
６３ 無端状部材
６５ 走行用モータ
６７ 連結バー
６９ 昇降用クランパ
７１ クランパ本体
７３ 固定クランプ爪
７７ 可動クランプ爪
７９ 作動レバー
８１ スプリング
８３ 第１アンクランプ用エアシリンダ
８７ 第２アンクランプ用エアシリンダ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢とに切り替える第１姿勢切替部材と、
前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢とに切り替える第２姿勢切替部材と、
前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、
前記第１姿勢切替部材の一側に立設した支持フレームに循環走行可能に設けられ、上下方向へ延びた無端状部材と、
前記無端状部材を循環走行させる走行用アクチュエータと、
前記無端状部材に周方向に間隔を置いて設けられ、起立姿勢の基板を保持する複数の昇降用保持具と、を具備したことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項２】
各昇降用保持具は、一対のクランプ爪を備えかつ基板の端部を把持する昇降用クランパであって、
更に、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用クランパにおける少なくとも一方の前記クランプ爪をアンクランプ方向へ移動させる第１アンクランプ用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用クランパにおける少なくとも一方の前記クランプ爪をアンクランプ方向へ移動させる第２アンクランプ用アクチュエータと、を具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板昇降移送装置。
【請求項３】
基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、
下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、
上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、
前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う請求項１又は請求項２に記載の基板昇降移送装置と、を備えたことを特徴とする基板処理移送システム。
【請求項１】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢とに切り替える第１姿勢切替部材と、
前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を備え、基板の姿勢を倒伏姿勢と起立姿勢とに切り替える第２姿勢切替部材と、
前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、
前記第１姿勢切替部材の一側に立設した支持フレームに循環走行可能に設けられ、上下方向へ延びた無端状部材と、
前記無端状部材を循環走行させる走行用アクチュエータと、
前記無端状部材に周方向に間隔を置いて設けられ、起立姿勢の基板を保持する複数の昇降用保持具と、を具備したことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項２】
各昇降用保持具は、一対のクランプ爪を備えかつ基板の端部を把持する昇降用クランパであって、
更に、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用クランパにおける少なくとも一方の前記クランプ爪をアンクランプ方向へ移動させる第１アンクランプ用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置した前記昇降用クランパにおける少なくとも一方の前記クランプ爪をアンクランプ方向へ移動させる第２アンクランプ用アクチュエータと、を具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板昇降移送装置。
【請求項３】
基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、
下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、
上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、
前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う請求項１又は請求項２に記載の基板昇降移送装置と、を備えたことを特徴とする基板処理移送システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１０−２３８７６４（Ｐ２０１０−２３８７６４Ａ）
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−８２６９９（Ｐ２００９−８２６９９）
【出願日】平成２１年３月３０日（２００９．３．３０）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１０月２１日（２０１０．１０．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年３月３０日（２００９．３．３０）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
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