【課題】ロードポートの個数を見かけ上増加させることにより、装置コストを抑制しつつも収納器の搬送効率を向上させることができる。
【解決手段】仮想ロードポート管理部は、物理ロードポートＲ−ＬＰ１，２に対して２個の仮想ロードポートＶ−ＬＰ１，２を割り当てる。さらに、仮想ロードポート管理部は、基板処理装置５と、キャリア搬送システム７と、ホストコンピュータ９とに対して、２個の仮想ロードポートＶ−ＬＰ１，２を２個の物理ロードポートとして扱わせる。したがって、現実の物理ロードポートの個数以上にロードポートが存在するようにＦＯＵＰ３の搬送を行うことができ、見かけ上、ロードポートの個数を増加させることができる。その結果、装置コストを抑制しつつも、ＦＯＵＰ３の搬送効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上の塗布膜に乾燥ムラが生じるのを抑えて基板を搬送することができ、また、装置の製造上及び組付上の誤差が大きい場合でもパーティクルの発生を抑えることができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】ステージの表面から浮上させた基板を基板ガイドでガイドしつつ搬送する基板搬送装置であって、基板ガイドは、基板の側面に当接することで基板を拘束するとともに、ステージの表面と垂直な方向に変位可能な基板ガイド本体と、基板ガイド本体をステージの表面から浮上させる浮上ユニットと、基板ガイド本体をステージの表面側に付勢させる付勢手段と、を備えており、基板ガイド本体は基板の側面に当接する基板当接部を有しており、この基板当接部の高さ位置が、浮上ユニットと付勢手段により、ステージの表面から浮上する基板の高さ位置に維持される構成とする。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、タクトタイムを短縮できる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に吐出装置３aから塗布液を吐出し、塗布後に塗布基板を乾燥装置５に浮上搬送機構６により搬送する塗布装置１であって、前記浮上搬送機構は振動浮上機構４２を有し、搬送工程において基板上に塗布された塗布膜を前記振動浮上搬送機構により基板に生じる振動により引き起こされるレベリング効果より塗布膜に生じる塗布ムラを解消する。 （もっと読む）

【課題】コアンダ効果を活用し、吸着面の全周にわたり高速空気流を包囲することにより、効率的な吸着面を形成する。
【解決手段】ワーク表面と一定の間隙を介して対向する底面を有するとともに、その中央部に該底面に向けて拡開する開口部が形成された本体と、この開口部の内部に配設された中間部材とを有し、中間部材の底面が、開口部の底面より上方に位置して、開口部の内周面との間で全周にわたりスリットを形成する。このスリットを介して、開口部の内周面に沿い、その底面の外周縁の全周に向けて空気を噴出させ、コアンダ効果により、該外周縁の全周から本体の底面に沿って、外周に向かう高速空気流を形成して、中間部材の底面とワークの表面との間で形成される空間を、その全周にわたり包囲して、中間部材の底面を吸着面とする。 （もっと読む）

【課題】、本発明は、基板の搬送に関して、非接触型の搬送が可能となる新たな技術的手段を備えた塗布システムを提供する。
【解決手段】基板Ｗを浮上させる浮上ユニット１０及び浮上させた基板Ｗを搬送する搬送ユニット２０を有する搬送装置１と、搬送される前記基板Ｗの上面に対して塗布液を吐出するノズル３１を有している塗布装置３とを備えている。浮上ユニット１０は、振動子６と、この振動子６の動作に起因して振動し当該振動による放射圧によって基板Ｗを浮上させる振動板７とを有しており、この振動板７は、ノズル３１の直下位置に設けられていること。 （もっと読む）

【課題】基板を浮上搬送する際に、基板との接触を回避して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面の一部と面接触可能な表面を有する接触部材４と、搬送部３による基板Ｇの搬送方向に沿って延び、接触部材４が有する表面を浮上プレート２の上面よりも高い位置であって浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面と接触する位置に配置し、基板Ｇと接触部材４とを接触させながら接触部材４の移動を案内する案内部５とを備える。 （もっと読む）

本発明はガラス板を非接触で把持するための装置及び方法に関し、その装置は少なくとも１つの振動発生装置（８）を有し、振動する矩形の少なくとも１つの板状の振動板（１）を有する。前記振動板（１）は、その四隅の舌状の突起と、空気を吸い込むために用いられる吸引パイプ（２）を受け入れるための中央開口と、少なくとも１つの吸引管に取り付けられた距離センサ及び光学センサを備えている。
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【課題】静電浮上モータを用いた真空搬送装置において、大きな静電吸引力を得ることができ、高重量物を搬送可能な真空搬送装置を提供する。
【解決手段】移載装置５を支持台３の下面側に支持することによって支持台３の上面全体を真空雰囲気中に露出させることが可能になり、これに伴い真空室１の天板部１７ａの内面に、支持台３の上面全体に対応して平板電極７を配置することが可能になる。これにより、電極面積を広くとることが可能となり、従来の典型的な真空搬送装置に比較して、大きな静電吸引力を得ることができ、高重量物を搬送可能な真空搬送装置を提供する。 （もっと読む）

非接触支持プラットフォームシステムが、実質的に平坦な対象物を支持するために提供される。このシステムは、プラットフォームから少し離れて対象物を支持する流体クッションを誘発するための第１の複数の圧力ポートおよび第１の複数の真空吸引ポートを備えたプラットフォームを含む。このシステムは、所定のゾーンでプラットフォームからの対象物の距離を増加させるためのプラットフォームの所定のゾーンに位置する第２の複数の圧力ポートを更に含む。
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【課題】部品点数を削減して装置の小型化を図り、非接触で搬送物の搬送する。
【解決手段】搬送物Ｓを上方に浮揚させる静圧テーブルと、振動板１１Ａ，１１Ｂ及びアクチュエータ１２Ａ，１２Ｂを有する一対の搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂと、搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂを搬送方向に移動させる移動装置とを備える。そして、アクチュエータ１２Ａ，１２Ｂによって振動板１１Ａ，１１Ｂに撓み定在波を励振させることにより、振動板１１Ａ，１１Ｂに対向する搬送物Ｓの先端部Ｓａ及び後端部Ｓｂに保持力が付与される。そして、保持力を搬送物Ｓの端部Ｓａ，Ｓｂに付与した状態で、搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂを移動させることにより、搬送物Ｓを搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂの移動に追従して搬送方向に搬送する。 （もっと読む）

【課題】ウェーハに傷をつけず、パーティクル付着を防いだ搬送方法、搬送装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの各加工工程において、工程間を半導体ウェーハを鉛直に立てて転動させることにより搬送する。したがって、搬送過程においてはウェーハの自重によるたわみなどを生じることがなく、このたわみに起因したウェーハのワレ、欠けの発生を防止することができる。また、鉛直に保持して搬送することでパーティクルの付着を防止することができる。搬送経路には流体を供給する。供給した流体により搬送中に洗浄などを行う。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、概略的には、フラットパネルディスプレイ材料の格納及び搬送を行うシステムに関する。フラットパネルディスプレイシステムは、環境保護能力、材料のトラッキング機能、及び／又はワークステーション装填能力を有している。フラットパネルディスプレイシステムの構成要素の１つとして、搬送可能でシール可能な容器がある。フラットパネルディスプレイシステムの他の構成要素として、シール可能な装填ポートがある。装填ポートに容器がドッキングされ、基板が加工される。
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【課題】ラックピッチを低減して、十分な格納可能枚数を備えかつ分割する必要のない基板熱処理部を備える基板処理装置を提供する。
【解決手段】搬送ステージ８を搬送対象支持棚５１と相対向する位置に移動させた状態で、支持棚５１の上面にエアを供給して、支持棚５１で基板Ｗを滑動可能な状態にする。また、搬送ステージ８の上面にもエアを供給して基板Ｗを浮上させ、基板Ｗを滑動自在に支持する。続いて、ピックアップハンド１１が、搬送ステージ８に支持された基板Ｗの一端を保持させて支持棚５１上に引き入れて、基板Ｗを搬送ステージ８から支持棚５１に移載する。この構成により、支持棚５１を格子状に形成することが可能となる。支持棚５１を格子状に形成することによって、厚みを抑え、撓みを低減しつつ、十分な強度を得る。これによって、ラックピッチを最小化し、基板焼成炉１の高さの低減が可能となる。 （もっと読む）

【課題】超音波を動力として、搬送品を流体により浮上させながら搬送させる非接触搬送装置において、流体と搬送品と装置部分との摩擦により発生する摩擦電気なる静電気が多く発生していた。そのために、搬送品に流体と共に帯電した空気中の塵が付着すると言う問題が発生していた。また帯電のために、外乱を受けた際の音波放射波の低下や変動によって搬送品が振動体に接触する懸念があり、浮揚力の安定において信頼性に乏しいという問題があった。
【解決手段】静電気の防止のためセラミックと貯蔵室を具備したモジュールにより、流体の噴出圧力を一定にして静電気の発生を押さえ、搬送品の移動と共に、噴出、停止、流量を制御するため静電気の発生を最小限度に抑えることができる。また特にセラミックの多孔質板がポーラス型で且つアルミナ材質は静電気の発生を最小限に抑えられる。 （もっと読む）

【課題】ロ−ラ、その他の機械的なデバイスによる基板搬送は、基板に応力を加える。
【解決手段】非ニュートン流体を供給し、非ニュートン流体中に基板を浮遊させる。非ニュートン流体は基盤を支持できる。その後、非ニュートン流体に供給力を加え、非ニュートン流体を流動させ、流動により基板を流動方向に沿って移動させることが可能となる。非ニュートン流体を使用して基板を搬送する装置およびシステムについても説明される。 （もっと読む）

【課題】 複数のワークを効率良く処理し、先に収納されたワークの滞留時間を低減させる。
【解決手段】 ワークである基板Ｗを収納する基板収納装置１は、基板Ｗを搬入された順番に上から収納する第一基板カセット１０と、第一基板カセット１０に収納された基板Ｗを下から順番に搬出する搬出コンベア３と、搬出コンベア３で搬送される基板Ｗを上から順番に収納する第二基板カセット２０とを有している。第一基板カセット１０から第二基板カセット２０に基板Ｗが移載される際に、基板Ｗの配置順番が逆転するので、第二基板カセット２０から基板Ｗを搬出するときには、最初に搬入された基板Ｗから搬出される。 （もっと読む）

基板（２）を浮上させた状態で、昇降機構（６）により支持部材（１０）の先端に設けられた接触部材（１３）を上昇させて、この接触部材（１３）を基板（２）の裏面に接触させ、浮上している基板（２）の移動を規制する。
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電場が移動物体2の表面領域に相当する領域上に広がって発生するように電極31、31a、31bを配置することによって、大きい力及び大きい加速度を有する静電気移動装置が提供される。好ましくは、実際の移動を引き起す剪断力をさらに増加させるために、端部の区域の電極31aに対して、中央の区域の電極31bに対するよりも高い電圧が印加される。
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【課題】 基板ホルダのようなものを併用することなく、基板をそのまま搬送させる装置でありながら、基板搬送時の基板のたわみに起因する問題を解消し、プラズマ生成部を基板搬送方向に長く構成することも可能な装置を提供する。
【解決手段】 インライン型プラズマ処理装置は、略長方形の基板７を下側から支持し、基板７を基板通路に沿って搬送するための基板搬送手段と、基板通路に対して上下のうち少なくとも一方から近接して配置されたプラズマ生成部とを備える。上記基板搬送手段は、基板７の搬送に寄与しない間隙領域１２を有する。間隙領域１２は、上方から見たときに上記基板通路の進行方向に対して斜めに線状に延在し、上記プラズマ生成部は、間隙領域１２において基板７にプラズマ処理を行なうように間隙領域１２に沿って配置されている。 （もっと読む）