【課題】ＥＵＶリソグラフィ用マスクの搬送時やマスクステージへの装着・脱離時に異物が発生する不具合を抑制することにより、半導体装置の製造歩留まりを向上させる。
【解決手段】マスク１０をハンドラー３０で保持して露光装置のマスクステージに搬送する際、予めマスク１０の側面に永久磁石２０、２１を取り付けておく。また、ハンドラー３０のアーム部３２、３３には、マスク１０の永久磁石２０、２１との間に斥力が作用するように配置された電磁石３４、３５を取り付けておく。これにより、マスク１０を搬送する際、ハンドラー３０のアーム部３２、３３に挟まれたマスク１０は、アーム部３２、３３と非接触状態となり、浮遊状態でハンドラー３０に保持される。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制可能な搬送装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る搬送装置は、チャンバと、チャンバ内の経路に沿って移動可能な基板支持体と、基板支持体上に直線的に並べられた複数のラック磁石を有する第１磁気ラックと、複数のピニオン磁石を有する、回転軸に対して回転可能な第１磁気ピニオンであって、第１磁気ラックの一方の側に配置され、第１磁気ラックとの間に回転軸方向で磁気結合された第１磁気ピニオンと、チャンバに固定して設けられ、基板支持体を移動可能に支持する支持部材とを備え、第１磁気ピニオンを回転することにより、基板支持体を移動させる。 （もっと読む）

【課題】基板を浮上搬送する際に、基板との接触を回避して搬送することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面の一部と面接触可能な表面を有する接触部材４と、搬送部３による基板Ｇの搬送方向に沿って延び、接触部材４が有する表面を浮上プレート２の上面よりも高い位置であって浮上プレート２上に浮上した基板Ｇの下面と接触する位置に配置し、基板Ｇと接触部材４とを接触させながら接触部材４の移動を案内する案内部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】装置の設置面積を増大させず単位時間当たりの処理能力を低下させずに、長時間の処理が可能で、処理時間を容易に変更できる基板処理装置を提供する。
【解決手段】
第２剥離帯２内のフレームＦには、レーンＬ１、Ｌ２、Ｌ３が設けられ、それぞれにローラコンベアＬ１１、Ｌ２１、Ｌ３１と、上側液カーテンノズルＬ１２、Ｌ２２、Ｌ３２が設けられる。フレームＦが昇降して各レーンＬ１、Ｌ２、Ｌ３に基板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を順に搬入して、各基板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３の上端に上側液カーテンノズルＬ１２、Ｌ２２、Ｌ３２から剥離液を供給する。所定時間の処理が終了するとフレームＦが昇降して処理済みの基板Ｗ１、Ｗ２、Ｗ３を順に搬出する。 （もっと読む）

【課題】真空下の半導体処理システムにおいて加工中の製品を処理する方法及びシステムに関する。
【解決手段】複数のロボットアームセットを持つロボットコンポーネントを使用した半導体を搬送するシステムであって、ロボットコンポーネント４００２は加工中の製品を搬送する下部ロボットアームセットを有し、ロボットコンポーネントは前記下部ロボットアームセットに対して実質上垂直な位置に、前記加工中の製品を搬送する上部ロボットアームセットを有する。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】基板トレイの揺れ、さらには発塵を抑えて、安定した高速搬送を可能とする基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板トレイ２３が取り付けられたキャリア２０と、キャリアの搬送機構１２と、キャリアの上部を非接触に案内するキャリアの案内機構とからなり、案内機構を、前記キャリアの上部に搬送路に沿って取り付けられた第１の磁石列２２と、この上方又は下方に、搬送路に沿って真空室１０に取り付けられ第２の磁石列１４とで構成したことを特徴とする。さらに、第１の磁石列及び第２の磁石列を搬送方向に垂直な方向に所定の間隔を開け複数列配置し、対向する磁石列間で吸引力が働き、隣り向かいの磁石列間では反発力が働くように、磁石を配置する。 （もっと読む）

【課題】 可動部の位置の変化によらず略一定の支持力可動部に対して付与し、且つ構造が簡単で、外部からエネルギーを供給する必要が無く、構成部品の劣化が発生しない自重支持装置を提供する。
【解決手段】 本発明では、
軸方向に着磁され、両先端に磁極を有する柱形状からなる第一の永久磁石と、
貫通穴を有し、前記貫通穴の軸方向と平行で且つ略一様な磁場が、前記貫通穴内部の一定範囲において発生するように着磁された第二の永久磁石とからなり、
前記第一の永久磁石の一方の先端が、前記第二の永久磁石に形成された前記貫通穴に非接触で挿入され、且つ前記略一様な磁場の範囲内に位置するよう配置されており、
前記第一の永久磁石の他方の先端が、前記第二の永久磁石に形成された前記貫通穴の外部に位置するよう配置されており、
前記第一の永久磁石と前記第二の永久磁石との間に発生する磁力を、支持力として利用することとした。 （もっと読む）

【課題】圧力の変動を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置は、所定空間内の所定面上で移動可能な第１可動部材と、所定面上で、第１可動部材と離れた状態で移動して、所定空間内の少なくとも一部の圧力を調整する第２可動部材とを備えている。 （もっと読む）

基板を熱処理する装置および方法が提供される。チャンバは、基板の加熱および冷却中、板から異なる距離のところに基板を位置決めするように構成された浮上式の支持アセンブリを含む。一実施形態では、板の表面上の複数の開口が、基板の放射状の表面全体にわたってガスを均等に分布させるように構成される。このガスの分布により、熱処理中に基板へ後方反射されない放射エネルギーを板の吸収性の領域と結合させて、基板の冷却を開始することができる。本明細書に記載の方法および装置は、基板を急速に熱処理する制御可能かつ効果的な手段を可能にする。
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【課題】ウルトラクリーンルームにおいて、大きくて薄いガラス板の搬送を確実に行う。
【解決手段】本発明は、大きくて薄いガラス板をスパッタシステムに供給するため、ウルトラクリーンルームにおいて該ガラス板を固定する装置及び方法に関する。本発明に係る装置は、ａ）輸送フレーム（１９）を上記装置の水平方向中央に配置させるセンタリングユニットへ輸送フレーム（１９）を搬送し、更に、その輸送フレーム（１９）をセンタリングユニットからスパッタシステムへと搬送するよう設計されたローラドライブ（１２）と、ｂ）磁性レールマウント（２）中で輸送フレーム（１９）を持ち上げる及び下降させるフレームリフト装置（７）と、ｃ）輸送フレーム（１９）を固定及び解放する固定ユニット（５、８）、及びガラス板（１８）を受け入れるフレームクリップ（１７）を開閉する開放ヘッド（３）と、ｄ）ガラス板（１８）を持ち上げて旋回させ、垂直配置とし、そのガラス板（１８）を輸送フレーム（１９）に設置するリフトユニットと、を備える。 （もっと読む）

【課題】部品点数を削減して装置の小型化を図り、非接触で搬送物の搬送する。
【解決手段】搬送物Ｓを上方に浮揚させる静圧テーブルと、振動板１１Ａ，１１Ｂ及びアクチュエータ１２Ａ，１２Ｂを有する一対の搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂと、搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂを搬送方向に移動させる移動装置とを備える。そして、アクチュエータ１２Ａ，１２Ｂによって振動板１１Ａ，１１Ｂに撓み定在波を励振させることにより、振動板１１Ａ，１１Ｂに対向する搬送物Ｓの先端部Ｓａ及び後端部Ｓｂに保持力が付与される。そして、保持力を搬送物Ｓの端部Ｓａ，Ｓｂに付与した状態で、搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂを移動させることにより、搬送物Ｓを搬送ユニット１０Ａ，１０Ｂの移動に追従して搬送方向に搬送する。 （もっと読む）

【課題】部分的に修理する必要がある場合にも、ウェーハの処理を継続する。
【解決手段】ウェーハ処理装置（１０）が、ウェーハ（３０）に対して所定の処理を行う複数の処理ユニット（Ａ〜Ｎ）を具備し、複数の処理ユニットのそれぞれは隣接する処理ユニットに着脱可能に連結されていて共通の搬送経路（１５）を形成しており、さらに、搬送経路上を摺動する摺動体（２０）を具備し、摺動体は、ウェーハを吸着する吸着テーブル（２１）を少なくとも含んでいる。さらに、搬送経路が循環経路を形成しており、少なくとも二つの摺動体を搬送経路に循環させられるようにしてもよい。さらに、搬送経路の少なくとも一部においては、ウェーハに対して同一の処理を行う少なくとも二つの処理ユニットが並列に配置されるようにしてもよい。 （もっと読む）

直線的に配置された第一固定子と、第一アームに結合している第一回転子と、を有する第一シャフトレス回転モータと、直線的に配置された第二固定子および第二アームに結合している第二回転子を有し、第二アームが第一アームに連結している第二シャフトレス回転モータと、第一および第二アームのうちの少なくとも１つに結合している第一基板支持体と、を備える基板搬送装置であって、第一および第二固定子は、第一および第二アームならびに第一基板支持体が両固定子の内側にあるように、また、第一および第二シャフトレス回転モータと第一および第二アームのそれぞれの１つとの連結におけるモータ出力が、第一および第二アームの周辺に形成される合力であるように、構成されている
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【課題】 磁気浮上による非接触機構を採用し、装置を大型化及び高価格化することなく煩雑なメンテナンスが不要で、移動経路を自由に設定できる自在性がある移動ユニットを提供すること。
【解決手段】 超電導体からなる基板と、該基板上を非接触に移動する移動体とで構成される移動体ユニットであって、前記基板は、超電導状態を示すように冷却され、前記移動体は、複数のアクチュエータと、該アクチュエータの一端部を固定する固定部と、該アクチュエータの他端部に夫々接続された複数の錘とからなり、前記錘は、各々別個のアクチュエータによって前記固定部に接続され、該錘及び固定部の少なくともいずれか一方が磁石からなり、前記アクチュエータに対して選択的にエネルギーが供給されることを特徴とする移動ユニットとする。 （もっと読む）

【課題】従来の基板搬送装置において、応力のばらつきによってガラス基板が割れたり搬送装置自身が長時間にわたり作動し続けることができないという問題点を解決して、リニア走行の技術を用いて磁性の吸引力と反発力によって搬送装置を設計して、ガラス基板の大型化による問題点を解決する基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置において、両側に異なる複数の磁性固定の第１磁気ブロックが交互に配置されるキャリアと、両側に２組の磁性可変の第２磁気ブロックが基板の幅より大きく配置されるレールとを含み、前記第１磁気ブロックと前記第２磁気ブロックの間の反発力によって前記キャリアを前記レールの上に浮かせる。 （もっと読む）

【課題】 浮上搬送方式において処理液を供給される基板の浮上高さを高い精度で設定値付近に保持すること。
【解決手段】 圧縮空気供給機構においては、比例制御弁１４６の一次側圧力である工場用力源１４０のエア圧力が大きく変動しても、比例制御弁１４６、圧力センサ１４８およびバルブコントローラ１５０により圧力フィードバック制御が働くので、比例制御弁１４６の二次側圧力を常時安定に設定圧力に一致させることができる。バキューム供給機構においては、コンダクタンスバルブ１６０の一次側圧力である工場用力源１５４のバキューム圧力が大きく変動しても、コンダクタンスバルブ１６０、圧力センサ１６２およびバルブコントローラ１６４による圧力フィードバック制御が働くので、コンダクタンスバルブ１６０の二次側圧力を常時安定に設定圧力に一致させることができる。 （もっと読む）

【課題】真空コンベヤシステムの実施形態を提供する。
【解決手段】一実施形態において、真空コンベヤシステムは、第１の真空スリーブを含み、この第１の真空スリーブは、第１の真空スリーブを通して基板をサポート及び移動する複数のローラを有している。第１の真空スリーブをプロセスチャンバに密閉可能に結合するためのポートが提供されている。第１の基板運搬部が、ポート近傍に配置されている。多数のポートを提供して、第１の真空スリーブを複数のプロセスチャンバに密閉可能に結合してもよい。専用の基板運搬部が、各プロセスチャンバに提供されている。第２の真空スリーブを、プロセスチャンバの反対側に密閉可能に結合してもよい。真空コンベヤシステムは、ロードロックチャンバを介してリンクされた独立モジュールを備えたモジュール式であってもよい。複数のローラで、搬送されている基板の前縁の垂下を打ち消してもよい。

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【課題】大気圧下から減圧下まで基板を浮上搬送する搬送システムおよびその搬送方法を提供する。
【解決手段】搬送システムは，搬送ステージ１００と浮上搬送装置とから構成される。浮上搬送装置は，搬送ステージ１００に形成された多孔からエアを噴出入することにより基板１０５を浮上させた後，基板１０５の後方下面の圧力が前方下面の圧力よりも高くなるように基板１０５の下面に噴出入するエアを制御することにより基板１０５をロードロック室１２０内まで浮上搬送する。室内が減圧された後，基板１０５の下面の圧力と上面の圧力とが一定の関係になるように基板１０５の下面と上面とに噴出入するエアを制御する。このようにして減圧下にある基板１０５を浮上させた後，基板１０５の後方下面の圧力が前方下面の圧力よりも高くなるように基板１０５の下面に噴出入するエアを制御することにより減圧下にある基板１０５を浮上搬送する。 （もっと読む）

【課題】エクスチェンジャと製造ライン間の枚葉搬送を、ガラス基板の受け渡しと受け取りを同時に行なうことができ、タクトタイムのロスがなく、製造ラインのサイクルタイムに応じて搬送形態を設定し得る搬送システムを提供すること。
【解決手段】ガラス基板等のワークを多段収容したカセットの貯留部と複数台並設したエクスチェンジャの間を搬送手段によりカセット単位で搬送し、エクスチェンジャと製造ライン間は前記ワークを枚葉搬送するガラス基板等の搬送システムにおいて、エクスチェンジャ内を上下昇降するカセットに対してコンベヤを配置し、製造ライン側にワークを受け渡す専用コンベヤと製造ライン側から排出されるワークを受け取る専用コンベヤを上下二段に区画し、且つ前記エクスチェンジャの並設方向に沿って複数台を並設配置し、更に、前記エクスチェンジャ内に配置したコンベヤは上記両専用コンベヤの高さに対応して上下昇降自在とした。 （もっと読む）