【課題】位置計測用のマークが存在しない移動体の位置を管理することを可能にする。
【解決手段】 所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載された移動体ＷＳＴの位置をその移動座標系を規定する計測装置１８等で計測しつつ、プレート５０の一部をアライメント系ＡＬＧで検出するとともにその検出結果と対応する前記計測装置の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、その移動体ＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレートの位置、すなわち移動体の位置を前記計測装置で規定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 板ガラスのパターン面を疵付けることなく安定して送ることができる板ガラスの搬送装置を提供すること。
【解決手段】 板ガラス１の反パターン面を支持して板ガラス１を搬送方向に送るベルト部１１と、このベルト部１１と対向する位置で前記板ガラス１のパターン面２に向けて所定圧の水圧を作用させパターン面支持水ガイド３０とを有する送り機構４０を備え、該送り機構４０は、前記パターン面支持水ガイド３０の水圧で前記板ガラス１を前記ベルト部１１に押圧して、この板ガラス１のパターン面２に非接触の状態で、この板ガラス１を前記ベルト部１１との間で挾持するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】板状体に対して適切に推進力を付与し且つ板状体を搬送するときに板状体が破損することを未然に防止することができる板状体搬送装置を提供する。
【解決手段】主搬送補助送風手段１９の空気供給部２１を、中継搬送部Ｂにおける第１隙間ｇ１に配設し、副搬送補助送風手段２０の空気供給部２１を、中継搬送部Ｂにおける第２隙間ｇ２に配設し、中継搬送部Ｂが副搬送状態から主搬送状態に切り換えられる場合は、主搬送補助送風手段１９を供給状態に切り換え且つ副搬送補助送風手段２０を供給停止状態に切り換え、かつ、中継搬送部Ｂが主搬送状態から副搬送状態に切り換えられる場合は、主搬送補助送風手段１９を供給停止状態に切り換え且つ副搬送補助送風手段２０を供給状態に切り換える。 （もっと読む）

【課題】柔らかく剛性の低い物体でも大きな変形をさせることなく浮上させることができる物体浮上装置の提供。
【解決手段】基台表面２ａに対して斜めに延びて開口する空気噴射流路４で囲った所定領域Ｘにおいて空気溜まりを形成し、基台表面２ａに対しワークを浮上させる物体浮上装置１であって、所定領域Ｘは、平面視で６角形状を有して、基台表面２ａ上を充填するように複数設けられているという構成を採用する。 （もっと読む）

【課題】微動ステージと粗動ステージとの衝突時の衝撃を緩和する。
【解決手段】 例えば、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、及び微動ステージ５０がＸ軸方向に移動している際にその位置制御が不可能になると、主制御装置は、複数のＸリニアモータ２０ａ〜２０ｈ、及び複数のＸボイスコイルモータ１８ｘに対する電力供給を停止するとともに、複数の複数のＸボイスコイルモータ１８ｘのダイナミックブレーキを作動させ、所定時間経過後、複数のＸリニアモータ２０のダイナミックブレーキを作動させる。 （もっと読む）

【課題】回転軸に対し円形基板の中心の位置決めを正確に行うことのできる基板位置決め装置を提供する。
【解決手段】基板３０の位置決めを行うための基板位置決め装置において、基板載置部４４と、前記基板の側面に接触する第１の基準部１１を有する第１の位置決め機構部１０と、前記基板３０の側面に接触する第２の基準部２１を有する第２の位置決め機構部２０と、前記第１の位置決め機構部１０を駆動させる第１の駆動部１３と、前記第１の駆動部１３を制御する制御部５０と、を有し、前記第２の基準部２１は、前記基板３０と接触部２４において接触するものであって、前記接触部２４に対し前記駆動部１３の移動方向に力を加えることのできる弾性部と、前記位置決め機構部２０の位置情報を検出するための検出部２８とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板ホルダのずれとバイメタル作用による基板ホルダの平面度の悪化を防止する。
【解決手段】微動ステージ２１の四隅に真空吸着のＯＮ／ＯＦＦの切り替えが可能な吸着部８２を設け、基板ホルダＰＨが衝撃等によりずれるおそれのあるときには、吸着部８２の真空吸着を行い基板ホルダＰＨのずれを防止し、基板ホルダＰＨがずれるおそれのないときには吸着部８２の真空吸引を停止若しくは弱めることで、バイメタル作用を緩和し、基板ホルダＰＨの平面度の悪化を防止する。 （もっと読む）

【課題】重量キャンセル装置の姿勢の安定化を図りつつ移動体の水平面に交差する方向に位置情報を求める。
【解決手段】 複数のレベリングセンサユニット７０は、微動ステージ５０に固定され、ターゲット用ステージ装置７５に取り付けられたターゲット７２，７４を用いて、微動ステージ５０の鉛直方向（Ｚ軸方向）、及び水平面（ＸＹ平面）に平行な軸線周りの回転量情報を求める。従って、ターゲット７２，７４を重量キャンセル装置４０に取り付ける場合に比べ、重量キャンセル装置４０を軽量化できる。従って、重量キャンセル装置４０が定盤１２上を移動する際の動作が安定する。 （もっと読む）

【課題】充分な保持剛性で基板を浮上保持すると共に省スペース化を可能とする。
【解決手段】エア浮上ユニット５０は、ベース５１の盤面５１ａ上でエアを吹出及び吸引することで基板を浮上保持する。ベース４１は、盤面５１ａに形成されエアを噴き出すための複数の噴出孔５２と、盤面５１ａに形成されエアを吸引するための複数の吸引孔５３と、ベース５１の内部にて水平方向に延在するように設けられ噴出孔５２から噴き出すエアを流通させて該エアの圧力を損失させるための圧損回路５４と、を備えている。ここで、圧損回路５４は、水平方向に曲がる曲がり部６４を有しており、水平方向に曲がりくねるよう構成されている。 （もっと読む）

【課題】薄板蓋部を用いる微小変位出力装置において、大気圧以外の気圧雰囲気でも使用可能とすることである。
【解決手段】微小変位出力装置１０は、筐体部１２と上蓋部３０と下蓋部３４を含んで構成され、その内部の収納空間１４には、中心軸４０の軸方向に沿って、複数の平板状可動子６０と薄板状可動子８０とが交互に整列配置される。平板状可動子６０の表面と裏面には、それぞれ中央部から外周部に延びる複数の細溝が設けられる。薄板メンブレムで構成される上蓋部３０と下蓋部３４は、中心軸４０の両端で固定される。筐体部１２の底面部１６には気体連通穴２０が設けられ、底面部１６の裏側で下蓋部３４と向かい合うくぼみ１８は、収納空間１４と同じ気圧とされる。 （もっと読む）

【課題】基板を汚染することなく非接触で保持する基板保持装置では、基板の自重によるたわみが発生したり、使用条件の中で回転動作の風圧による基板のたわみが発生するために、各種処理の障害になっている。
【解決手段】基板の上面を所望の面高さに保持したり、あるいは平面度を保持したりするために、基板上面に基板面の高さを測る非接触の変位センサを設置し、また、載せ台上面には複数の溝と障壁を設け、基板と乗せ台の間にエアーを供給してその圧力によって基板の変位を可能として、さらに、変位センサの出力をフィードバックすることで基板を任意の凸，凹形状に変形したり、平面化することを可能とする構造を持つ基板搭載装置。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】装置の高さが大きくなるのを抑制するとともに、装置全体の小型化を図ることが可能なθＺ駆動装置を提供する。
【解決手段】このθＺステージユニット１１０（θＺ駆動装置）は、ベース部１０と、ベース部１０に対して上下方向であるＺ方向およびＺ方向を回転中心線とするθ方向に駆動されるステージ２０と、ベース部１０に対してステージ２０を少なくともＺ方向に駆動する第１モータ３０と、少なくともステージ２０の重量を補償する重量補償部４０とを備え、第１モータ３０および重量補償部４０は、水平方向に間隔を隔てて配置されるとともに、上下方向の配置高さ範囲の少なくとも一部が互いに重なるように配置されている。 （もっと読む）

【課題】浮上方式のスピンレス塗布法においてスリットノズルに基板の上面を擦らせて傷を付けるおそれのある有害な裏面異物を精度よく確実に検出すること。
【解決手段】このレジスト塗布装置は、裏面異物検出装置５０を備えることより、有害な（つまり、スリットノズル１４に基板Ｇの上面を擦らせて傷を付けるおそれのある）裏面異物Ｑをスリットノズル１４よりも基板搬送方向（Ｘ方向）の上流側で確実に検出することが可能である。そして、裏面異物検出装置５０がそのような有害裏面異物Ｑを検出したときに発生する警報信号ＷＳに応答して、主制御部５２がノズル昇降機構３６を通じてスリットノズル１４を即時に上昇移動させることにより、スリットノズル１４は基板Ｇの盛り上がり部分Ｇ_Qをかわす（摺接または衝突を避ける）ことができ、スリットノズル１４の損傷が防止される。 （もっと読む）

【課題】大型の重たい基板を大気から遮断して加熱処理またはその上に膜を形成したい製造工程がある。そのためには、大型の真空装置を必要とし、基板の搬送移動は大掛かりになり、デバイス製造のコストを押し上げていた。
【解決手段】加熱した高温の加圧ガスを加熱したプレートから基板に向けて吹き付けて基板を支持しながら加熱する。基板とプレートの隙間を流れる当該ガスは大気進入を阻止する。この構造は１ｍを超える重たい基板であっても、それを１）浮上させて支持し、２）気体断熱し、３）ガスで加熱し、４）大気から遮断して熱処理または成膜処理を真空ではなく常圧で行うことを可能にし、製造コストを押し下げる。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニット１５等が搬送ローラ３７の交換の妨げにならなくなって、搬送ローラ３７の交換の作業能率を向上させること。
【解決手段】下部ケース２１の上側に上部ケース２５が着脱可能に設けられ、上部ケース２５内に搬送ローラ３１がローラ軸３３を介して搬送幅方向に平行な軸心周りに回転可能に設けられ、搬送モータ３７の出力軸４１が上部ケース２５の着脱によって搬送ローラ３７に対して接続遮断可能になっていること。 （もっと読む）

【課題】浮上ステージにおける吸引口の目詰まりを除去する作業を装置内で随時あるいは適時に自動的かつ効率的に行うこと。
【解決手段】浮上ステージ吸引口掃除動作において、コントローラは、塗布処理に関係する動作をいったん全てオフ状態にしてから、第２給気部を作動させる。第２給気部が作動することによって、正圧気体供給源からのエア（圧縮空気）が第１給気ラインおよび第２マニホールド６４を経由して塗布領域内の各吸引口１８に送り込まれる。目詰まりを起こしている吸引口１８においては、第２マニホールド６４側からのエアの圧力により、ガス通路１８ａに挟まっていた異物Ｑが押し出されるようにして上方へ放出される。この時、第１給気部４４も作動しているので、吸引口１８より吐き出された異物Ｑが付近の噴出口１６に入るおそれはない。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】露光装置の一部を構成する移動体モジュールの移動を効率化する。
【解決手段】ステージモジュールＷＳＭには、ステージモジュールＷＳＭを浮上させるエアホバー２９と、Ｙ軸周りに回転可能かつ接地可能な駆動輪１６０とが設けられている。エアホバー２９により浮上させた状態のまま、ステージモジュールＷＳＭを、駆動輪１６０を床面上で回転駆動することで、Ｘ軸に平行な方向に移動させる。このため、ステージモジュールＷＳＭのθｚ方向及びＹ軸に平行な方向への動きを規制してＸ軸に平行な方向に安定して露光装置本体１１０から引き出す（移動させる）ことが可能になる。 （もっと読む）

【課題】先行の浮上ユニット３７側から挿入間隙ＩＧを越えて後続の浮上ユニット３７側へ乗り継ぐ際における基板Ｗの損傷を確実に阻止すること。
【解決手段】挿入間隙ＩＧの上流側の近接した位置には、下方向からエアを吸引するエア吸引器４３が設けられ、エア吸引器４３は、挿入間隙ＩＧの直上流側の浮上ユニット３７と基板Ｗとの間に生成されたエア溜まり層Ｓの中央部を支点として基板Ｗの先端部側に上向きの力を発生させるように、吸引ファン５３の吸引力によって基板Ｗに対して局所的に下向き力を付与するようになっていること。 （もっと読む）