【課題】方形の基板を垂直に保持する保持装置であって、アライメント作業によっても被測定物にゆがみを生じ難い保持装置を提供することを目的とする。
【解決手段】垂直保持装置には、方形の基板１００の下端面と当接する平坦面を有する一対の保持部材２２、２３と、一対の保持部材２２、２３上に載置された基板１００の上端面を平坦面で押さえて基板１００を垂直保持する上部保持部材３４とが設けられる。また、上部保持部材３４を上下方向に移動させて、上部保持部材３４の基板１００に対する押さえ力を調節するスライド部３３が設けられる。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】基板上に薄膜を供給するためのヘッドを開示する。ヘッドは、少なくとも基板の幅である第一および第二の端部間に延びる本体組立体を含む。本体は、第一および第二の端部間に画成された主ボアを含み、主ボアは、リザーバの上側に、主ボアとリザーバとの間の画成された複数の供給部を介して接続される。本体は、さらに、リザーバの下側に接続され、出口スロットへ延びる複数の出口を含む。複数の供給部は、複数の出口より大きな断面積を有し、複数の供給部は、複数の出口より数が少ない。 （もっと読む）

【課題】ステージを、空気圧の力で被処理基板を空中に浮かせるための基板浮上台として機能させ、かつ基板浮上用の用力（圧縮空気）の消費効率を向上させる。
【解決手段】ステージ１１２の上面には多数の噴出口１２０が設けられており、各噴出口１２０について、空気の噴出流量を基板Ｇとの相対的な位置関係で個別的かつ自動的に切り換える噴出制御部１４４が流量切換弁の形態でステージ１１２の内部に設けられている。この噴出制御部１４４は、球面体形状の壁面を有する弁室１４６と、この弁室１４６の中で移動可能に設けられた球状の弁体１４８とを有している。弁室１４６の頂部および底部には、鉛直方向で互いに対向する出口１４６ａおよび入口１４６ｂがそれぞれ形成されている。 （もっと読む）

【課題】テーブルの位置を精度良く計測する。
【解決手段】 エンコーダシステムを構成する複数のヘッドがウエハテーブルに設けられ、スケール板２１（回折格子ＲＧ）に対向するヘッドの出力に基づいて、ウエハテーブルのＸＹ平面内における位置情報が計測される。ここで、各ヘッド、例えばヘッド６０Ｃのウエハテーブルとの相対位置（相対姿勢、回転を含む）がヘッド内部に設けられた計測系により計測される。従って、計測された相対位置の情報に基づいて位置情報を補正することにより、ウエハテーブルの動きに伴ってヘッドの位置（姿勢、回転）が変化する場合においても、高精度なウエハテーブルの位置情報の計測が可能となる。 （もっと読む）

【課題】高精度且つ安定な移動テーブルの位置計測を実現する。
【解決手段】 液浸露光方式の露光装置において、投影光学系ＰＬとの間に供給される液体によってウエハＷ上面に液浸領域ＡＬｑが形成され、そのウエハＷを保持する移動テーブル上に、複数のエンコーダヘッド６０Ａ〜６０Ｄが配置されている。制御装置は、複数のエンコーダヘッドのうち、液浸領域外にあるエンコーダヘッド６０Ａ，６０Ｂ，６０Ｄを用いて、ＸＹ平面内における移動テーブルの位置情報を計測する。これにより、高精度且つ安定な移動テーブルの位置情報の計測が可能となる。 （もっと読む）

【課題】基板を安定して高速回転させられる成膜装置を提供する。また、基板を安定して高速回転させながら基板表面に所定の結晶膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１００は、シリコンウェハ１０１を浮上させて保持する保持部１０４と、浮上させたシリコンウェハ１０１を回転させる回転部１０３とを有する。保持部１０４には、ベルヌーイ効果を生じさせる保持ガス流１１０を形成する保持ガス吹き出し口１０５が設けられており、回転リング１０３ａに設けられた伝達部１０７ａを用いて、シリコンウェハ１０１を浮上させた状態で安定して高速回転させることができる。 （もっと読む）

ロボットは、リソグラフィ装置の真空チャンバ内で対象物を位置決めする。ロボットの第１コンポーネントは、並進軸に沿って対象物を位置決めするために真空チャンバ内に配置される。シャフトは、シャフトの対称軸が並進軸に対して垂直になるように第１コンポーネントを支持し、第２コンポーネントは、対称軸の周りでシャフトを回転させ、かつシャフトを対称軸に対して平行方向に移動させる。第２コンポーネントは、シャフトの外周面に沿ってガスを導入するように構成されたガスベアリングと、第２コンポーネントガスベアリングによって導入されたガスを排気するように構成された排出シールとを含む。ロボットは、炭化水素分子のガス放出を約０〜２００ａ．ｍ．ｕ.の範囲に実質的に減少または除去し、よってロボットは極端紫外線（ＥＵＶ）フォトリソグラフィ用途での使用に適する。 （もっと読む）

【課題】搬送に必要な推力の低減を図り、且つ被搬送物のたわみを抑制することが可能な搬送装置、これを備える塗布システム及び検査システムを提供する。
【解決手段】搬送装置１２は、被搬送物２８の搬送方向Ｘに延びる主面１６ａを有するベース１６と、搬送方向Ｘに延びるガイド部材１８と、ガイド部材１８にガイドされて搬送方向Ｘに移動可能な移動部材２０と、移動部材２０に固定され主面１６ａから間隙を於いて被搬送物２８を保持する保持部材２４と、ベース１６上の搬送方向Ｘにおける一部領域において、搬送方向Ｘに搬送される被搬送物２８に対し気体の吐出及び吸引を行うための気体吐出吸引機構２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 溶射セラミックスで形成されたステージはセラミックス層の気孔やマイクロクラックによってエアがリークしてステージの剛性が確保できないため、ステージの制御性能が低下していた。
【解決手段】 ガイド面がセラミックス溶射されたガイドおよびステージを有し、前記ガイドと前記ステージとの間のギャップをエアによる圧力と予圧マグネットによる吸引力とによって制御しながら前記ガイド面に沿って前記ステージを移動させる位置決め装置であって、前記ガイド面は、封孔処理された後に研磨されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パッド又はガイドが絶縁体であっても両者の接触を簡単に検出可能なステージ装置及び露光装置を提供する。
【解決手段】被搭載物を搭載して定盤の基準面の上を移動可能なステージと、定盤に設けられ、ステージを案内するガイドと、ステージに設けられてガイドに対向して気体を噴出するパッドを含み、ステージをガイドから浮上した状態で支持可能な気体軸受と、ステージの駆動を規定するステージ制御部と、ステージの位置を検出する検出部と、ステージ制御部が規定したステージの駆動状態と検出部の検出結果からパッドとガイドとの摩擦力を状態方程式を使用して推定する外乱オブザーバと、外乱オブザーバが推定した摩擦力に基づいてパッドがガイドに接触しないように気体の圧力を制御する圧力制御部と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 浮上用構造体またはこれを備えた可動体が案内支持体と接触しないように確実に制御することができ、可動体と案内支持体の間隔を高い精度で検知し、この間隔を確実に維持できるようにすること。
【解決手段】 浮上用パッド３を含むスライド部材と、浮上用パッド３へ気体を供給する気体供給手段（コンプレッサ１０５、第１の調圧弁１０４および第２の調圧弁１０２を含む）と、気体排出口６からの排気流量を測定する流量測定手段（体積流量計１０１、アンプ１０６、Ａ／Ｄ変換器１０７およびコンピュータ１０８を含む）と、この流量測定手段で測定した排気流量に基づいて気体噴出口６から後記する案内支持体への気体噴出量を制御できるように構成した制御手段（コンピュータ１０８およびＤ／Ａ変換器１０９を含む）とを備えてなるステージ装置１００とする。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置制御性の向上を図る。
【解決手段】 レチクル干渉計システム６９からのＸ軸方向の測長ビームが照射される反射面が、レチクルステージＲＳＴをＹ軸方向に駆動するリニアモータ１３６₁，１３６₂よりも外側に設けられているので、そのリニアモータの発熱に起因して該リニアモータ周辺の気体に温度揺らぎが生じても、そのＸ軸方向の測長ビームにはなんらの影響も生じない。これにより、Ｘ軸干渉計６９ＸによるレチクルステージＲＳＴのＸ軸方向の位置計測を高精度で行うことが可能となり、ひいてはレチクルステージＲＳＴの位置制御性の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ステージの位置制御性の向上を図る。
【解決手段】 レチクルステージＲＳＴを駆動する駆動機構は、レチクルステージＲＳＴのレチクルＲが載置される領域のＸ軸方向の一側、他側のいずれにおいても、可動子２６_２（又は２８_２）、レチクルステージ本体２２、可動子２６_１（又は２８_１）の積層構造になっているとともに、その可動子同士は、レチクルステージＲＳＴの中立面に関して対称の配置となっている。レチクルステージＲＳＴの中立面は、その重心の高さ位置（Ｚ軸方向の位置）に略一致しているので、左右各一対の可動子と対応する固定子１３６_１〜１３８_２との協働によって発生するＹ軸方向の駆動力の合力が、レチクルステージＲＳＴの重心位置に作用することとなる。従って、レチクルステージＲＳＴのＹ軸方向の位置制御性の向上、及びレチクルステージＲＳＴのＸ軸回りの回転の抑制が可能である。 （もっと読む）

【解決手段】基板処理システム及び方法を提供する。このシステムには、ステージと、このステージ上に装着された第１及び第２のチャックと、このステージに隣接して配置された少なくとも１つの基板処理ヘッドとを設けることができる。前記ステージ及び基板処理ヘッドは、前記基板処理ヘッドが第１及び第２のテスト基板の双方を処理するのに充分な距離に亘って相対移動するように構成されている。基板処理方法によれば、第１及び第２の基板を、ステージに装着したチャック上に配置しうる。前記ステージ及び処理ヘッドは、基板処理ヘッドが基板にまたがって走査するのに充分な第１の距離に亘って、第１の軸に沿う第１の方向で相対的に移動し、次に前記第１の方向に対し平行でない方向に沿って、第２の距離に亘って相対的に移動し、次に前記第１の方向とは反対の方向で、前記ヘッドが前記基板にまたがって走査するのに充分な第３の距離に亘って相対的に移動するようにしうる。前記処理ヘッドは、前記第１の距離及び前記第３の距離の双方又は何れか一方に沿う１つ以上の位置で前記第１の基板及び第２の基板を処理する。 （もっと読む）

【課題】デバイスに押し当てられる各ピンの接触圧を均一にできるステージの昇降装置の提供。
【解決手段】ステージをＺ軸方向に移動させるステージの昇降装置において、上面に検査対象のデバイスが載せられ、下面に球形の第１の曲面部が形成された載置台と、第１の曲面部を収容し得る形状になった球形の第２の曲面部が形成された支持台と、第１の曲面部と第２の曲面部の間隙に圧縮空気を充満させ、この圧縮空気により載置台を支持台上に浮揚させ、載置台を傾斜自在に支持する曲面エアベアリングと、第１の曲面部と第２の曲面部の間隙に対して真空吸引して載置台を支持台に固定するロック手段と、載置台の回転を防止する回転防止機構と、プローブカードのピンがデバイスに押し当てられると、デバイスはプローブカードと平行になる姿勢をとり、デバイスに押し当てられる各ピンの接触圧を均一化し、均一化したときに前記ロック手段は載置台の姿勢をロックする。 （もっと読む）

【課題】ステージにかかる偏荷重による位置ずれを補正できるステージの昇降装置を実現する。
【解決手段】ステージをＺ軸方向に移動させる昇降機構と、位置指令値に基づいてステージをＸ軸方向及びＹ軸方向に位置決めする位置決め部とを有するステージの昇降装置において、ステージに加わる偏荷重の大きさと、この偏荷重がステージに加わることによって生じたステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置ずれ量とを対応させた補正テーブルを格納し、この補正テーブルは補正テーブル用メモリと、荷重センサと、ステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置を検出する位置センサと、位置指令値に基づいて偏荷重が加わっているステージの位置を求め、位置に応じた補正テーブルを選択し、荷重センサの検出荷重から位置ずれ量を読み出すずれ量算出手段と、このずれ量算出手段で読み出した位置ずれ量で補正した位置指令値と、荷重による位置ずれを補正する位置制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の走査中に生じるヨーイング等の誤差を補正することができると共に、基板処理手段が基板の所定位置に精度よく処理を施すことができる基板処理装置等の提供。
【解決手段】基板Ｐを固定する基板保持部１１を載置する、Ｙ軸方向に離れた基板搬送部２２ａ及び２２ｃのベース構造体２上の位置を測定することによって、間接的に基板Ｐ上のＹ軸方向に離れた２箇所の位置のそれぞれと、ガントリ３とのＸ軸方向の距離を測定する位置測定ユニット１３ａ及び１３ｂと、位置測定ユニット１３ａ及び１３ｂが測定した２つの距離が異なる場合に、該２つの距離が同じになるように基板搬送部２２ａ〜２２ｄを制御する走査制御部５と、基板Ｐとガントリ３とのＸ軸方向の距離を測定する相対位置測定部２９とを備え、ガントリ３に搭載されたヘッドユニット２５は、相対位置測定部２９が測定した距離に基づくタイミングで、基板Ｐにインク塗布を行う。 （もっと読む）

【課題】基板を位置決めするときに、塵の発生を低減することができるとともに、極薄な基板であっても損傷させることなく、正確に位置決めすることができ、さらに、製造コストを低減することができる基板位置決め装置を提供することを課題とする。
【解決手段】基板位置決め装置１であって、円形基板Ｗを保持する保持面１１が形成され、軸回りに回動自在な回動部材１０と、保持面１１の周囲に配設され、円形基板Ｗの裏面に対峙する環状の矯正面４１が形成された矯正部材４０と、円形基板Ｗを平面幅方向から挟み込むガイド部材３０，３０とを備え、回動部材１０には、保持面１１から圧縮空気（気体）を噴出又は吸引する保持用通気孔１３が設けられ、矯正部材４０には、円形基板Ｗの裏面と矯正面４１との間に、矯正面４１の内周側から外周側に向けて圧縮空気を噴出する矯正用通気孔４５が全周に亘って形成されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【目的】検査処理時間を短縮させる基板検査装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の基板検査装置１００は、基板１０１を検査する基板検査装置１００において、水平方向に移動するＸＹステージ１２１と、前記ＸＹステージ１２１上に配置され、上下方向と回転方向に移動するＺ・θステージ１２２と、基板１０１の検査面の高さ位置が、Ｚ・θステージ１２２の重心高さ位置に配置されるように基板１０１を保持する保持具１０２と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面位置センサの設置位置を計測し、該計測された設置位置に基づいて面位置センサを用いて移動体の２次元移動面の垂直方向と傾斜方向の位置座標を計測することにより、移動体を安定かつ高精度に駆動する。
【解決手段】 干渉計システムを用いてウエハステージＷＳＴのＸＹ位置を監視しながらウエハステージを移動させて、面位置センサ７２_ｋ，７４_ｉ，７６_ｊを用いてＹスケール３９Ｙ₃，３９Ｙ₄を、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に走査することにより、面位置センサのＸＹ設置位置を計測する。得られた設置位置情報に基づいて、面位置センサを用いて、ウエハステージのＸＹ平面（移動面）に対する垂直方向と傾斜方向の位置座標を計測することにより、ウエハステージを安定かつ高精度に駆動する。 （もっと読む）