【課題】Ｙ軸移動体のヨーイング角度を所望に制御し、且つＸ軸移動体の走り精度を高める。
【解決手段】ＸＹステージ装置１は、定盤２上でＸ軸方向移動するＸ軸移動体３、定盤上でＹ軸方向移動すると共にＸ軸移動体３のＸ軸方向移動をガイドするＹ軸移動体４、Ｙ軸移動体４をＹ軸方向駆動するシャフトモータ１４Ａ，１４Ｂ、Ｙ軸移動体４のヨーイング角度を検出するリニアスケール１６Ａ，１６Ｂ、を備えている。ＸＹステージ装置１では、シャフトモータ１４Ａ，１４Ｂの駆動がヨーイング角度に基づきコントローラ１７によって制御されるため、ヨーイング角度に応じてシャフトモータ１４Ａ，１４Ｂのそれぞれを適宜制御できる。また、転がりガイド１１でＹ軸移動体４のＸ軸方向一端部が支持され、リフトエアパッド１２でＹ軸移動体４のＸ軸方向他端部が支持されるため、Ｙ軸移動体４がＸ軸方向に完全拘束されない。 （もっと読む）

【課題】移動体を二次元平面に沿って精度良く案内すること。
【解決手段】 液晶露光装置では、２つの定盤１２Ａ，１２Ｂ上にそれぞれベースパッド７２Ａ、７２Ｂが配置され、且つベースパッド７２Ａ、７２Ｂにより一枚のステップボード７１が支持される。自重キャンセル装置４０の装置本体６０は、ステップボード７１上を移動することによって、定盤１２Ａ上から定盤１２Ｂ上に（又はその反対に）移動するので、分離して配置された隣接する定盤１２Ａと定盤１２Ｂとの境界部は、自重キャンセル装置４０が移動する際のガイド面として機能することがない。従って、２つの定盤１２Ａ，１２Ｂを離間させて配置したにも関わらず、基板Ｐを保持する微動ステージ２１をＸＹ平面に沿って精度良く案内することができる。 （もっと読む）

【課題】
エアベアリング部の機構の大型化を抑えることが可能で高精度なステージ装置を提供する。
【解決手段】
ステージ装置１００は、基準面内のＸ方向及びＸ方向と直交するＹ方向にステージ８を駆動するステージ装置であって、ステージ８をＸ方向に駆動するリニアモータ１２と、ステージ８をＸ方向及びＹ方向に駆動するリニアモータ９と、Ｙ方向に延びて、リニアモータ１２がＸ方向に移動するのを規制するヨーガイド３と、ヨーガイド３に向けて気体を噴出することにより、ヨーガイド３に対してＸ方向に所定の距離だけ離れて設けられたヨースライダ６と、ステージ８の移動に伴いヨースライダ６に対してＸ方向に所定の力が発生した場合、この所定の力を相殺するようにリニアモータ９を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】レチクルステージの移動中のレチクル滑りを実質的に除去するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】システムは、マスク保持システム、マスク力デバイス、サポート移送デバイスを含む。マスク保持システムは、サポートデバイスおよび保持デバイスを含み、保持デバイスはマスク、例えば、パターンを有するレチクルなどのパターニングデバイスをサポートデバイスに取外し可能に結合する。マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。サポート移送デバイスは、マスクサポートデバイスに結合され、かつマスク力デバイスと同時にマスクサポートデバイスを移動させる。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、処理中に半導体基板を支持するか、位置決めするか、または回転させる装置および方法を提供する。本発明の一実施形態は、サセプタの基板受取り表面上に基板を位置決めすることと、１つまたは複数の回転ポートから流体の流れを送達することによってサセプタおよび基板を回転させることとを含む基板処理方法を提供する。
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【課題】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

【課題】浮上ユニット３９の上面又は基板Ｗの裏面に導電性被膜を形成することなく、基板Ｗと浮上ユニと３９との接触を検知して、浮上搬送装置１のメンテナンスに要する手間とコストを削減する。
【解決手段】装置フレーム３に浮上ユニット３９が搬送方向に沿って配設され、装置フレーム３に基板Ｗと浮上ユニット３９との接触による弾性音波を検出するＡＥセンサが設けられていること。 （もっと読む）

磁力によって浮上する一体式ステージ位置決めシステムは、３相リニアモータと、一体式ステージに接続され、強磁性体ベースと相互作用するコイル巻線とを含む。３相リニアモータを励起して、Ｘ軸方向の動き、Ｙ軸方向の動き及びＺ軸を軸にした回転を提供できる。一体式ステージは、空気軸受上で浮上する。一体式ステージに接続された複数のコイル巻線は、磁力によって空気軸受に予圧を加える役割を果たすことができる。複数のコイル巻線を励起して、Ｚ軸方向の動き、並びにＸ軸及びＹ軸を軸にする一体式ステージの回転を提供してもよい。 （もっと読む）

【課題】バーミラーを用いることなく、干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させることで、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用及び装置の小型化を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部であるベース１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、シール部７、Ｙ軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、Ｘ軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計２５ａ及びミラー２７ａ、２７ｂは、Ｘスライダ５のＸ凹空間部９に配置され、干渉計２５ｂ及びミラー２７ｃ、２７ｄは、Ｙスライダ３のＹ凹空間部６に配置される。各凹空間部６，９は、それぞれ排気ホース１５、１６によって減圧される。 （もっと読む）

【課題】局所的滑動及びヒステリシスが実質的に減少したリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板ホルダを備える基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムとを備え、基板テーブルは、基板テーブルと基板ホルダの間の位置及び方向の滑動及びヒステリシスを減少させる、又はなくす。 （もっと読む）

【課題】位置計測用のマークが存在しない移動体の位置を管理することを可能にする。
【解決手段】 所定形状のプレート５０が着脱可能に搭載された移動体ＷＳＴの位置をその移動座標系を規定する計測装置１８等で計測しつつ、プレート５０の一部をアライメント系ＡＬＧで検出するとともにその検出結果と対応する前記計測装置の計測結果とに基づいてプレート５０の外周エッジの位置情報を取得する。このため、その移動体ＷＳＴ上に位置計測用のマーク（基準マーク）などが存在しなくても、プレートの外周エッジの位置情報に基づいて、プレートの位置、すなわち移動体の位置を前記計測装置で規定される移動座標系上で管理することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 駆動時の反力による搬送ステージの揺れを未然に防止できるようにする。
【解決手段】 ベース２１上に２本平行に配置して両端部をベース２１外部の基礎１９上の支持部材２３に取り付けたＸ方向スライドバー２２に、摩擦駆動機構２５を備えたＸステージ２４を取り付ける。各Ｘステージ２４の間に取り付けたＹ方向スライドバー２６に、摩擦駆動機構２８を備えたＹステージ２７を取り付けて、ＸＹステージ装置を形成する。各Ｘステージ２４とＹステージ２７を、摩擦駆動機構２５，２８の駆動ローラ３１，３７と各バックアップローラ３２，３８をスライドバー２２，２６の両側面に押し当てた状態で駆動させることで、Ｘステージ２４駆動時の慣性によるＹステージ２７の揺れを防止させると共に、各ステージ２４，２７駆動時の反力は、Ｙ方向スライドバー２６と支持部材２３を経て基礎１９へ伝えることで、ベース２１への影響を阻止させる。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】ワークに対する浮上気体の気体調和的な影響を排除することができるワーク移動テーブルおよびこれを備えた液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】このワーク移動テーブルは、テーブルベース２２に組み込まれ、テーブルベース２２上にワークＷを気体浮上させる気体浮上手段と、気体浮上手段に浮上のための作動気体を供給する作動気体供給手段と、気体浮上させたワークＷを水平面内で移動させる移動手段と、気体浮上手段と作動気体供給手段との間の気体供給流路に介設され、温度調整手段により作動気体の温度を調整する気体調和手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】スピンレス方式で被処理基板上に処理液を供給ないし塗布する処理動作のタクトタイムを短縮するとともに、浮上搬送方式において基板上に処理液の塗布膜を塗布ムラのない均一な膜厚で形成する。
【解決手段】このレジスト塗布ユニット（ＣＴ）４０において、基板Ｇを空気圧の力で空中に浮かせるステージ７６は、基板搬送方向において分割された搬入領域Ｍ₁、塗布領域Ｍ₃および搬出領域Ｍ₅を一列に配置している。搬入領域Ｍ₁は基板Ｇのサイズを上回り、塗布処理を受けるべき新規の基板Ｇを搬入する。塗布領域Ｍ₃は、基板Ｇのサイズよりも小さく、基板Ｇはこの領域Ｍ₃を通過する際に上方のレジストノズル７８からレジスト液Ｒの供給を受ける。搬出領域Ｍ₅は基板Ｇのサイズを上回り、塗布処理を受けた基板Ｇはこの搬出領域Ｍ₅から搬出される。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな力及び／又はトルクに、好ましくはＸはりの外部寸法を変更する必要なく対処可能なベアリングを有する、リソグラフィ装置用の位置決めデバイスを提供する。
【解決手段】オブジェクトサポートを位置決めするオブジェクトサポート位置決めデバイス１は、第１、第２、および第３のスライダのうち少なくとも１つのスライダ内に流体ベアリングが設けられ、流体ベアリングは、少なくとも１つのスライダの摺動方向に垂直である第１の方向に反力を作用させるための複数のベアリング面を含む。 （もっと読む）

【課題】揺動自在とされた本体がその自重によって不用意に傾倒してワークを傷つけるおそれを大幅に低減すること。
【解決手段】支持体３０の球体部３５は本体２０の球面軸受け部２８ａに収容され、これにより本体２０は揺動自在となって支持体３０に支持されている。本体２０内には球体部３５と当接するＯリング２９と、そのＯリング２９によってシールされる閉空間Ｋ１とが設けられている。そして、その閉空間Ｋ１に加圧ポート４１及び内圧調節用通路４２を通じて加圧エアが供給されるようにした。支持体３０が固定された状態であれば、加圧エアの供給によって閉空間Ｋ１の圧力を高めるとその内圧の高まりによって本体２０が支持体３０に対して押し上げられる。これにより、Ａ部分での摩擦抵抗が高まって本体２０の自重による傾倒が抑制される。 （もっと読む）

【課題】静止安定性を有する位置決め装置。
【解決手段】スライド装置１００は、ガイドレール１０６と、前記ガイドレール１０６に沿って移動するスライダ１０８と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により浮かせて支持する浮遊支持状態と、前記スライダ１０８を前記ガイドレール１０６に対して空圧により圧接させて支持する圧接支持状態とに切り替え可能なエアベアリング１１０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各プロセス室内の室内条件が維持された状態で、基板の搬入及び搬出が可能な複数のプロセス室を備えた基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、第１、第２及び第３の室内条件をそれぞれ有する第１、第２及び第３のプロセス室Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃと、第１、第２及び第３のプロセス室Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃを基板が通過するように基板を所定の方向に搬送可能な基板搬送機構としての浮上チャック４０と、第１、第２及び第３のプロセス室Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃの周囲にそれぞれ配置され、搬送される基板Ｗ、及び該基板Ｗと対向する各シール面２１ａ，２１ｂ，２１ｃとの間の隙間を密封する第１及び第２の差動排気シール２０ａ，２０ｂ，２０ｃと、を備え、浮上チャック４０は、基板Ｗと各シール面２１ａ，２１ｂ，２１ｃとの間の隙間が所定の微小隙間Δとなるように、搬送される基板Ｗの歪みを除去する歪み除去手段としても機能する。 （もっと読む）