【課題】一対の基板を精度よく位置合わせして接合する。
【解決手段】接合装置であって、対向しつつ接近して個別に保持した一対の基板を接合する一対のステージと、基板を支持する複数の支持部材と、複数の支持部材を駆動して、基板の傾きを変化させながら、一対のステージの一方に基板を当接させ、当該ステージに基板を保持させる当接駆動部とを備える。上記接合装置において、個別に保持した一対の基板を接合する場合に、一対のステージの一方を他方に接近させる接合駆動部を更に有してもよい。 （もっと読む）

【課題】枚様式に１枚ずつ被処理基板を平流し搬送する基板搬送装置において、基板搬入から搬送開始までのタクトタイムを短縮し、スループットを向上する。
【解決手段】被処理基板Ｇを浮上させる浮上ステージ３と、前記浮上ステージの左右側方に平行に配置された一対のガイドレール５と、前記一対のガイドレールに沿って、それぞれ移動可能に設けられ、前記基板の縁部を下方から吸着保持可能な複数の基板キャリア６と、前記浮上ステージの基板搬入位置Ｈにおいて、搬入された前記基板に対し待機位置から所定位置まで進退自在に設けられ、前記基板に接して該基板を所定位置に配置するアライメント手段７ａと、前記浮上ステージの基板搬入位置において、前記アライメント手段により所定位置に配置された前記基板を該基板の下方から支持する基板支持手段８と、前記基板キャリアと前記アライメント手段と前記基板支持手段の動作を制御する制御部５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板ステージ装置を迅速に組み立てる。
【解決手段】基板ステージ装置の製造工場において相互位置などがそれぞれ調整された、Ｘ粗動ステージ２３Ｘ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１を、分解せずにステージユニット２０として輸送し、その輸送先で基板ステージ装置の再組み立てに用いる。再組み立て時におけるＸ粗動ステージ、Ｙ粗動ステージ２３Ｙ、重量キャンセル装置４０、及び本体部５１相互間における位置調整が不要となるので、基板ステージ装置を迅速に組み立てることができる。 （もっと読む）

【課題】基板の平面度調整を行うために、基板を保持する保持手段の裏面を支持する支持手段と前記裏面とに隙間が生じないようにするステージ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】保持手段の裏面と支持手段との間に空気を供給し、前記保持手段を前記支持手段から浮上させる軸受手段と、前記軸受手段から供給される気体の流量を検出する検出手段と、前記支持手段の駆動を制御する制御手段とを有し、前記制御手段は、前記軸受手段により前記保持手段を浮上させたときに、前記検出手段によって検出される流量が、所定の流量の範囲内になるように前記支持手段の駆動を制御する。 （もっと読む）

【課題】定盤上の塵を簡単な構造で容易に除去する。
【解決手段】重量キャンセル装置４０のベース４１ａの下面に取り付けられたベースパッド１００では、軸受面１０６ａから定盤１２に向けて噴出する加圧空気が、コアンダ効果により軸受面１０６ａに連続して形成された傾斜面１０７に沿って流れる。この際、定盤１２上の塵Ｄがベルヌーイ効果により加圧気体に引きつけられ、その加圧気体とともに、定盤１２から離れる方向に案内される。加圧気体は、フィルタ部材１２６で濾過されてベースパッド１００外に排気される。ベースパッド１００は、特別な吸引装置などを用いることなく、定盤上１２の塵Ｄを吸引できるので構造が簡単である。 （もっと読む）

【課題】近接スキャン露光方法でも共取りが可能で、高精度に露光を行うことができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを所定方向に搬送する基板搬送機構と、パターンＭｐ１〜Ｍｐ４を形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１ａ、１１ｃと、複数のマスク駆動部と、複数のマスク保持部の上部に配置される複数の照射部とを備え、所定方向に搬送される基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光を照射し、基板にマスクＭのパターンを露光する近接スキャン露光装置であって、マスクＭに複数のパターンが配置され、露光動作中にマスク駆動部を駆動し、パターンＭｐ１〜Ｍｐ４を切り替えるマスクパターン切り替え機能を備えることにより一定速度で基板が搬送され続ける近接スキャン露光方法でも共取りが可能で、高精度に露光を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】接着シートの剥離不良が発生することを防止することができるようにすること。
【解決手段】シート剥離装置１０は、ウエハＷの一方の面に貼付された接着シートＳを剥離用テープＰＴを介してウエハＷから剥離する。接着シートＳは、基材シートＢと、この基材シートＢの一方の面に設けられた接着剤層ＡＤとを含む。シート剥離装置１０は、基材シートＢ及び接着剤層ＡＤを切断する切断手段１６と、剥離用テープＰＴを繰り出す繰出手段１２と、接着シートＳに剥離用テープＰＴを貼付する貼付手段１４と、ウエハＷと剥離用テープＰＴと相対移動させることで接着シートＳを剥離可能な移動手段１５とを備えている。切断手段１６は、両端が基材シートＢの外縁にそれぞれ達する切り込みＣを形成して接着シートＳを複数の分割シートＳ１、Ｓ２として形成可能に設けられている。 （もっと読む）

【課題】ウェハの直径が大きくなる傾向にある近年、重ねあわされる互いのウェハ全面においてサブミクロンの精度で高速に位置合わせを行うことが困難になってきている。特に、一方のウェハに対して他方のウェハを、位置合わせ指令に従って正確にかつ高速に移動させることができる重ね合わせ装置が望まれている。
【解決手段】複数の基板を位置合わせして重ね合わせる重ね合わせ装置は、第１基板を保持する第１ステージと、第１基板に対向して配置される第２基板を保持する第２ステージと、対向方向に直交する方向へ移動可能な第３ステージと、第２ステージを重力方向に支持する支持機構と、第３ステージの移動に非接触で追従して第２ステージ及び支持機構が一体的に移動するように、第３ステージと支持機構の間に設けられた推力伝達部とを備える。 （もっと読む）

【課題】焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どない基板上へのパターンの転写を実現することが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】水圧パッドと水圧パッドとによって、ウエハ及び該ウエハが載置されたテーブルが狭持されている。水圧パッドによって、その軸受面とウエハとの投影光学系の光軸方向に関する間隔が、所定寸法に維持される。また、水圧パッドは、気体静圧軸受とは異なり、軸受面と支持対象物（基板）との間の非圧縮性流体（液体）の静圧を利用するので、軸受の剛性が高く、軸受面と基板との間隔が、安定してかつ一定に保たれる。また、液体（例えば純水）は気体（例えば空気）に比べて、粘性が高く、液体は振動減衰性が気体に比べて良好である。従って、焦点位置検出系などを必ずしも設けることなく、デフォーカスの殆どないウエハ（基板）上へのパターンの転写が実現される。 （もっと読む）

【課題】制御手段が停止した場合のテーブルの惰性進行をバネの反力により抑制し、テーブルに過度の負荷が発生したエマージェンシーにおいてのみ静圧軸受けを接地させる２段構えのフェールセーフ機構を実現できるようにする。
【解決手段】本体ベース１と、本体ベース１上で静圧軸受け３，４により空気浮上され、リニアモータによりＹ方向に移動し、保持した基盤等を所定の位置まで搬送する位置決めテーブル機構５を備えた基盤搬送装置において、本体ベース１上に設置され、伸縮動作により突出し、テーブル機構５と接触してＹ方向への進行を抑制するよう構成されたリーフスプリング１０と、リーフスプリング１０が一定量以上変位したときに押下されるリミットスイッチ１１と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 たとえばワイヤソーによる切断の後に、人手を介することなく半導体ウエハを１枚ずつ分離することが可能なウエハ搬送方法およびウエハ搬送装置を提供すること。
【解決手段】 積層された複数枚のウエハＷｆを搬送するウエハ搬送方法であって、液体Ｌｑ中に位置する複数枚のウエハＷｆどうしの間のいずれかに隙間を生じさせるべく、複数枚のウエハＷｆの端面に向けて液体Ｌｑを噴出する工程と、上記隙間を生じさせた状態で、複数枚のウエハＷｆのうち少なくとも最上位に位置するウエハＷｆを取り上げる工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に形成されるムラの発生を抑えるとともに、乾燥工程に要するタクトタイムを短縮できる予備乾燥装置、予備乾燥方法を提供する。
【解決手段】基板上に塗布された塗布膜を乾燥させる本乾燥装置により塗布膜を乾燥させる前に、前記塗布膜を予備的に乾燥させる予備乾燥装置であって、予備乾燥装置は、浮上搬送方式により基板を搬送しつつ、当該基板を加熱した浮上用気体で高温雰囲気に曝して基板上の塗布膜を予備的に乾燥させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ウエハを保持するステージを高精度で駆動する。
【解決手段】 微動ステージＷＦＳ１と微動ステージＷＦＳ１を支持する粗動ステージＷＣＳ１とにより囲まれる空間内に位置決めされる計測アーム７１Ａがエンコーダヘッドを有し、該ヘッドにより微動ステージＷＦＳ１に設けられたグレーティングＲＧに計測ビームを照射し、グレーティングＲＧからの戻りビームを受光する。ヘッドの出力に基づいて、微動ステージ位置計測系が微動ステージＷＦＳ１の位置情報を計測する。計測アーム位置計測系７２Ａ_０が、計測アーム７１Ａの光軸ＡＸに対する相対位置情報を計測する。従って、微動ステージ位置計測系と計測アーム位置計測系７２Ａ_０との計測結果に基づいて、光軸ＡＸを基準とする微動ステージＷＦＳ１の位置情報を高精度で計測する。 （もっと読む）

【課題】振動を軽減するためのモードと、加速、減速するためのモードとを備えたステージ装置を提供する。
【解決手段】天板６２、第１固定子５８、第１可動子５９を有し、前記天板を所定の方向に走行させる第１リニアモータと、第２固定子５８、前記第１可動子を両側から挟むように配置された一対の第２可動子６４，６４とを有し、前記天板を前記所定の方向に走行させる第２リニアモータと、前記第２可動子の前記第１可動子と対向する面のそれぞれに配置され、前記第２リニアモータの駆動力を前記第１可動子に伝達するための一対の伝達部材６８，６８と、前記第１リニアモータ、前記第２リニアモータ及び前記一対の伝達部材を制御する制御部とを備え、制御部は、前記第２リニアモータを駆動し前記伝達部材の一方を介して前記天板を移動させる第１モードと、前記第１リニアモータ及び第２リニアモータの双方を駆動し前記天板を移動させる第２モードとを含む。 （もっと読む）

【課題】振動の影響を受けることなく位置合わせする。
【解決手段】定盤から支持されて、第一基板を保持する第一ステージと、定盤から支持されて、第一ステージに保持された第一基板に対向させて第二基板を保持する第二ステージと、第二ステージまたは第二ステージに保持された第二基板を観察する第一顕微鏡と、第一ステージまたは第一ステージに保持された第一基板を観察する第二顕微鏡と、定盤から第一ステージへの振動伝播を抑制する第一除振部とを備え、第一顕微鏡および第二顕微鏡による観察から検出した相対位置に基づいて第一ステージ及び第二ステージの少なくとも一方を移動させることにより、第二ステージに保持された第二基板と、第一ステージに保持された第一基板とを互いに位置合わせする位置合わせする。 （もっと読む）

【課題】可動フレームが上下方向に変動し難いとともに、可動フレームが変形し難い非接触軸受構造を有するステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、平らな上面を有するベースプレート５０と、ベースプレート５０の上で浮上する可動フレーム４０を備えている。可動フレーム４０の下面には、ベースプレート５０との間に斥力を発生する斥力部４２と、ベースプレート５０との間に吸引力を発生する吸引部４６とが隣接して設けられている。吸引部４６は、その吸引力が斥力部４２から離れるにつれて小さくなっている。斥力と吸引力が作用するので可動フレーム４０が上下方向に変動し難い。また、吸引力の中心と斥力の中心の間の距離が小さいので、互いに反対方向に作用する斥力と吸引力に起因する可動フレームの面外方向変形が抑制される。 （もっと読む）

【課題】基板を所定の二次元平面に沿って高速、且つ高精度で案内する。
【解決手段】基板Ｐは、枠状に形成された軽量な基板保持枠６０により吸着保持され、基板保持枠６０は、リニアモータを含む駆動ユニット７０により水平面に沿って駆動される。基板保持枠６０の下方には、基板Ｐの下面にエアを噴出して、その基板Ｐが概ね水平となるように非接触浮上支持する複数のエア浮上ユニット５０が配置されている。複数のエア浮上ユニット５０は、基板保持枠６０の移動範囲をカバーしているので、駆動ユニット７０は、高速且つ高精度で基板保持枠６０（基板Ｐ）を水平面に沿って案内できる。 （もっと読む）

【課題】スライダをプラテンから降ろして吊り上げることなくスライダのエアベアリング面を直接メンテナンスできる平面モータを提供する。
【解決手段】
エアベアリング１９によりスライダ１２をプラテン１１の上面に浮上させ、２次元方向に移動させる平面モータにおいて、
プラテン１１に上面高さを揃えて外付けされ、スライダ１２の底面よりも小さな開口部５１ａと、この開口部５１ａを密封状態にふさぐ蓋部５１１と、この蓋部５１１を開閉する駆動機構５１２と、蓋部５１１を開いた状態において開口部５１ａからスライダ１２のエアベアリング面１２ａを清掃するメンテナンス部１８とを有する脱着式プラテン５１を備えたことを特徴とする平面モータ。 （もっと読む）

【課題】塗布むらの発生を防止することのできるステージを提供する。
【解決手段】処理液が塗布された被処理基板を一方向に搬送するため被処理基板を浮上させ支持するステージ８０であって、前記ステージは、基板幅方向に沿ってスリット状に形成されると共に、基板搬送方向に沿って並列に設けられ、ガスが上方に向けて噴射される複数のガス噴射口８８を有し、前記スリット状のガス噴射口８８には、その長手方向を複数に仕切る仕切り部材９３が設けられている。 （もっと読む）

【課題】気化熱による温度変化を抑制できるステージ装置を提供する。
【解決手段】液体ＬＱを用いた液浸露光が実施される基板Ｐを保持して移動する基板ステージ２であって、保持された基板Ｐの周囲に設けられて液体ＬＱを回収する第２溝部４２と、第２溝部４２の底部４２ａに設けられ、第２溝部４２で回収した液体ＬＱを、第２溝部４２の外部に排出する排出孔４５と、液体ＬＱよりも比重の小さい材料で形成され、第２溝部４２に配置されて第２溝部４２に貯溜した液体ＬＱの液位に応じて浮沈することにより排出孔４５を開閉するフロート弁５１とを有するという構成を採用する。 （もっと読む）