【課題】ウエハ上の複数の区画領域に精度良くパターンを形成する。
【解決手段】
制御装置により、ステップ・アンド・スキャン方式の露光動作を行なうに当たり、ウエハステージＷＳＴの移動経路中のウエハＷ上の各ショット領域の露光開始点において、エンコーダシステム６５、６４、６６及び干渉計１６、１２６の計測値を取り込み、露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいて干渉計１６，１２６の計測値を補正しつつ、干渉計１６，１２６の計測値に基づいてウエハステージＷＳＴが駆動される。すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 （もっと読む）

【課題】長い移動範囲に渡って移動体の高精度な位置及び回転計測を可能にする。
【解決手段】一対の第１グレーティング３９Ｙ₁，３９Ｙ₂及びこれらにそれぞれ対向する第１、第２のヘッド部６２Ａ，６２Ｃに属する各１つのＹヘッド６５，６４を用いて行なわれる、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及び回転方向の位置計測が可能となる、ウエハステージのＹ軸方向に関する移動範囲が、一対の第２グレーティング３９Ｘ₁，３９Ｘ₂の少なくとも一方及びこれらに対向する少なくとも１つのＸヘッド６６を用いて行なわれる、ウエハステージのＸ軸方向の位置計測が可能となる、ウエハステージのＸ軸方向に関する移動範囲より長くなる。 （もっと読む）

【課題】干渉計システムとエンコーダシステムを併用するハイブリッド方式のサーボ制御により、移動体を安定且つ高精度に２次元駆動する
【解決手段】干渉計システム、例えばＸ干渉計１２６とＹ干渉計１６とを用いてステージＷＳＴの第１の位置情報を計測する。同時に、エンコーダシステム、例えば１つのＸヘッド６６とＹヘッド６５，６４とを用いてステージの第２の位置情報を計測する。第１の位置情報と第２の位置情報の差分を所定の計測時間にわたって移動平均して座標オフセットを設定し、該座標オフセットを用いてエンコーダシステムの出力信号の信頼性を検証する。正常が確認された場合に、第１の位置情報と座標オフセットとの和を使用してステージをサーボ制御する。このハイブリッド方式のサーボ制御により、干渉計の安定性とエンコーダの精密さを兼ね備えたステージの駆動制御が可能になる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージに保持された物体に精度良くパターンを形成する。
【解決手段】ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃは、Ｙ軸方向に関して同一ユニット内の他のＹヘッドと位置が異なるＹヘッド６５₁，６４₅を含むので、ノズルユニット３２周囲の空き空間の形状に応じて、ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃに属する各Ｙヘッド６５，６４を、Ｘ軸方向に関しては所望の間隔を維持して、配置することが可能である。ヘッドユニット６２Ａ，６２Ｃに属する各Ｙヘッド６５，６４は、露光時にウエハステージＷＳＴ上のＹスケール３９Ｙ₁，３９Ｙ₂に対向してウエハステージＷＳＴのＹ軸方向及びθｚ方向の位置を計測する。 （もっと読む）

【課題】薄板移送装置７の構成の簡略化及び薄板移送装置７の製造コストの低下を図ること。
【解決手段】前記第１処理ステーションと前記第２処理ステーションの間の移送ステーションに設けられた装置本体と、
前記装置本体に設けられ、薄板を浮上させる浮上ユニットと、
装置本体１７にＸ軸方向へ延びた複数の移送アーム３５がＸ軸方向へ移動可能かつＹ軸方向へ間隔を置いて設けられ、各移送アーム３５のＸ軸方向の一端側に、第１薄板処理装置３Ａ（３Ｂ，３Ｃ）から薄板Ｗを装置本体１７側に引き出すときに薄板Ｗの裏面を吸着する第１吸着パッド４７がそれぞれ設けられ、各移送アーム３５のＸ軸方向の他端側に、装置本体１７から薄板Ｗを第２薄板処理装置５Ａ（５Ｂ，５Ｃ）に送り出すときに薄板Ｗの裏面を吸着する第２吸着パッド４９がそれぞれ設けられたこと。 （もっと読む）

【課題】使用時のコストを低下することができる塗布装置、基板の受け渡し方法及び塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板搬送部の搬入側ステージ及び搬出側ステージに外部搬送機構との間で基板を受け渡す際に当該外部搬送機構の一部を収容する収容部がそれぞれ設けられているので、外部搬送機構の一部を収容させる際に基板の受け渡しを行うことができる。これにより、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、その分のコストを低下させることができる。また、昇降ピンを設けなくても基板の受け渡しを行うことができるので、処理タクトを短縮化することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 ステージの軽量化、ガイド面の必要精度面積の緩和による加工コストの低減、位置決め装置全体重量の軽量化。
【解決手段】 定盤２上のＹ方向に移動可能なステージ１の位置決めを行う位置決め装置。ステージ１のＸ方向の第１端側、第２端側においてそれぞれＹ方向に少なくとも２つエアパッドユニット３が配設される。第１端側に配設されたエアパッドユニット３同士は、連結部材１３によって連結される。第２端側に配設されたエアパッドユニット３上にはそれぞれ、第１弾性部材１１が配設される。また、連結部材１３上には、第２弾性部材１２が配設される。これにより、上記第１及び第２弾性部材１１，１２によってステージ１が支持される。 （もっと読む）

【課題】上方に開口した容器の上面にエアベアリングを有し、容器の上面をエアベアリング面に押し当てた状態で容器内部を真空状態にして真空チャンバとして使用する真空装置において、エアベアリングを備えた容器自体の構造を複雑にすることなく容器内部へ試料を搬送する搬送手段を真空装置に設ける。
【解決手段】上方に開口した容器１１４の上面にエアベアリング１１５を有し、容器１１４の上面をエアベアリング面１０６に押し当てた状態で容器１１４内部を真空状態にして真空チャンバ１１７として使用する真空装置１において、容器１１４を昇降させることにより容器１１４の上面をエアベアリング面１０６へ押圧し及び上面を該エアベアリング面１０６から離す昇降手段２０２と、エアベアリング面１０６から上面が離れることにより開放された凹部の開口部を通して、凹部の内部へ試料１０３を搬送する試料搬送手段２２０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マスクの製造や装置全体としてのコストを低減することができるとともに、効率的な露光を実現する露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板Ｗを少なくとも露光領域において浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向に搬送する基板搬送機構２０と、パターンＰを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、所定方向と交差する方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部７１と、複数のマスク保持部７１の上部にそれぞれ配置され、露光用の光を照射する複数の照射部８０と、を備える。そして、所定方向に搬送される基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板Ｗに複数のマスクＭのパターンＰを露光する。 （もっと読む）

【課題】走行路から噴射する空気が何らかの原因で止まってしまった場合においても、走行路と空気浮上台車との接触に伴う発塵を防止或いは大幅に低減することが可能な空気浮上走行システム、走行制御方法および空気浮上台車を提供する。
【解決手段】走行路と空気浮上台車との距離または接触の有無を検出する検出手段と、空気浮上台車に備えられ、起動信号の受信により気体を噴射して空気浮上台車を所定時間浮上させることが可能な気体噴射手段と、前記検出手段が走行路と空気浮上台車との距離が所定値以下になったことを検出した場合または走行路と空気浮上台車との接触を検出した場合に、前記空気浮上台車に気体噴射手段を起動させるための起動信号を送信し、空気浮上台車を浮上させた状態で所定位置まで移動させ、そこで停止させるように制御する走行制御手段とを備えたことを特徴とする空気浮上走行システム。 （もっと読む）

【課題】搬送装置固有の占有面積を削減し、基板サイズの大型化／多様化の影響を受けないで、安定した高速搬送が実現できる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】少なくともステージ１０と、ワイヤー供給ヘッド２０と、ワイヤー架張ヘッド３０と、ワイヤーを架張するためにワイヤー架張ヘッド３０を搬送方向と直角に移動するための第１駆動軸４０と、ワイヤー供給ヘッド２０とワイヤー架張ヘッド３０とを搬送方向に移動するための第２駆動軸５０ａ、５０ｂとから構成されてなる基板搬送装置である。 （もっと読む）

第１軸に沿って及び第２軸周りにステージ（２３８）を移動させる移動体（３４４）は、磁性部品（４５４）と導体部品（４５６）とを含む。磁性部品（４５４）は、磁界に囲まれた１以上のマグネット（４５４Ｄ）を含む。導体部品（４５６）は、磁界内で磁性部品（４５４）の近くに配置される。また、導体部品（４５６）は、電流が導体部品（４５６）に導かれるときに磁性部品（４５４）と相互作用して第１軸に沿った制御された力と第２軸周りの制御されたモーメントを発生させる。さらに、導体部品（４５６）は、電流が導体部品（４５６）に導かれたときに磁性部品（４５４）と相互作用して第１軸及び第２軸に垂直な第３軸に沿った制御された力を発生させる。
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【課題】独立したアライメント装置を設けることなくワークの位置合わせができるワーク搬送装置を実現する。
【解決手段】搬送機構によってワークを保持し、この搬送機構を前記ワークの搬送方向に沿って移動させることにより前記ワークを搬送するワーク搬送装置において、
前記搬送機構は、前記ワークの保持状態を変化させるアライメント部を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の位置合わせを精度良く行うことを可能とし、且つ装置の小型化を図る。
【解決手段】基板アライメント装置５１は、基板位置検出部３０ａと、移動ステージ１２ａと、移動ステージ駆動部５３ａと、ステージ位置検出部２７ａと、全体制御部５０とからなる。移動ステージ１２ａは、ベースユニット５６と、変位ユニット５７〜５９と、従動ユニット６１と、基板ホルダ６２とからなる。基板ホルダ６２は基板１０を保持する。基板位置検出部３０ａが検出した基板１０の位置に基づいて変位ユニット５７〜５９が基板ホルダ６２をX、Y、θ方向に変位して位置合わせをするときには、基板ホルダ６２がベースユニット５６から浮上し、位置合わせの後、基板ホルダ６２がベースユニット５６に吸着固定される。 （もっと読む）

【解決手段】 基板処理方法および装置が開示される。該装置は、表面にガス流を供給するように構成される、一つあるいはそれ以上のガス流開口を備えた表面を有するチャックを含む。前記表面は、表面に亘って分散された一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを含む。真空チャンネルは、それを通って真空を引くことを可能にする。本方法では、基板は、基板の裏面でチャック表面の近傍に、チャック表面に充分に接近して支持されるので、ガス流と真空が基板の裏面とチャック表面とを隔置された関係に維持することができる。ガス流は、ガス流開口を通して供給され、真空は、一つあるいはそれ以上の真空チャンネルを通して引かれる。基板は、基板表面に実質的に垂直な方向に沿って移動される。 （もっと読む）

【課題】プレートがその移動範囲のどの位置にあっても、プレートの微小な移動制御を容易に行うことのできるステージ装置を提供すること。
【解決手段】ワークを保持するプレート６をプレート面において直交するＸＹ方向およびプレート面に対して直交する軸の周りのθ回転方向に移動させるステージ装置において、ステージベースと、ステージベースに固定され、エアを噴出し移動磁界を発生する磁極を有する複数の推力発生手段２１−１〜２１−４、２２−１〜２２−５と、この推力発生手段に対向する面に碁盤目状の凸極が形成された平面状のプラテンが設けられ上記推力発生手段により駆動されるプレート６と、プレート６のステージベースに対する位置を検出するプレート位置検出手段１１，１２と、プレート位置検出手段１１，１２からのプレート位置信号に基づき、上記複数の推力発生手段のうち動作させる推力発生手段を選択する制御部１３とを備えることを特徴とするステージ装置である。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージ等を駆動する際に生じる駆動反力を低減し、投影光学系等へ伝達する振動の影響を小さくして、高精度な露光を行う。
【解決手段】レチクル１のパターンを投影光学系２を介してウエハ３上に投影する露光装置において、ウエハステージ５が載置されるウエハベース７とは分離されるとともに、レチクルステージ４及びレチクルベース９を支持する構造体６から延びる３本の柔構造のロッド１９Ａ〜１９Ｃにより投影光学系２を支持する。また、ウエハベース７が載置される床面上に防振パッド４９を介して構造体６を支持する。 （もっと読む）

【課題】外部への振動伝達を防止することができる移動体装置を提供する。
【解決手段】物体を移動させる移動体ＭＳＴと、前記移動体を所定方向に駆動する駆動装置４８Ａ，４８Ｂと、前記駆動装置により前記移動体を駆動する際に発生する反作用力を回転エネルギーに変換する変換部９０，９２とを備える。 （もっと読む）

【課題】変形によってシール機能を発揮するシール手段に対し十分な押圧力を加えて、シール手段のシール機能を確実に発揮できる浮上ユニットを得る。
【解決手段】球面室４９と外部とを連通する開放通路６１を揺動体１２に設けた。これにより、加圧室４７に加圧気体を導入した直後に、球面室４９に漏れた加圧気体は開放通路６１を介して大気中に排気される。このため、加圧気体の導入が進めば、加圧室４７の圧力は十分に高められ、Ｏリング４６は変形されてシール機能を確実に発揮できる。 （もっと読む）

【課題】液晶パネル用のガラス基板等の薄板状の搬送物をエアにより浮上させた状態でその面方向に搬送する装置において、搬送ユニット間の非浮上領域で搬送物の前端部が自重により撓んで干渉しないようにする。
【解決手段】搬送ユニット１１の前後両端部にエアノズルを集中的に配置して、搬送物１を下側へ凸となる凹形状状態で浮上させることにより、その前端部１ａが上側へ変位するようにして自重による下方への変位を抑制する。 （もっと読む）