装置は半導体ウェハのような物体を正確に制御された位置で処理する。物体（１９）は経路に沿って移動可能な作業テーブル（１２）上に支持される。作業プラットフォーム（１２）に取り付けられた懸架アクチュエータ部（１４）は、経路に沿って支持構造上の軟磁素子（３４）の表面に面する極を有する軟磁コア（２４）と、極を介してコア（２４）を通じて流れ、且つ、軟磁素子（３４）を介して戻る磁界を発生するために電流を加えるための巻線（２０）とを含む。センサ（１７）は、位置基準素子（１６）に対する懸架アクチュエータ部（１４）の測定された位置を感知する。制御回路は、外部制御回路（４０）と、内部制御回路（４２）とを含む。外部制御回路（４０）は、感知結果を受信し、アクチュエータ部（１４）の測定された位置を所定値に規制するために、力設定点情報を決定する。内部制御回路（４２）は、力設定点情報を受信し、力設定点情報に従って、アクチュエータ部（１４）と支持構造（１０）との間に力を実現するために、電流を制御する。
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【課題】 生産性を向上することができ、しかも推力変動を抑えられた磁石ユニットを備えたリニアモータを提供する。
【解決手段】 リニアモータは、磁石ユニットからなる固定子１１を備えている。固定子１１は、第１、第２磁石部材１３、１５を有している。第１、第２磁石部材１３、１５を構成する母材１３Ｂ、１５Ｂは、Ｙ軸方向に延在する第１、第２面１７、１９を有しており、その第１、第２面１７、１９には、Ｎ極又はＳ極に磁化された着磁領域が、Ｙ軸方向に関して複数並んで設けられている。 （もっと読む）

搬送路（Ｔ）に沿って基板（２３）を搬送するための装置を備えたプロセスシステムであって、搬送装置が、軸受モジュールと駆動装置モジュールとを備えており、軸受モジュールが、電磁石として形成されたアクチュエータを有する軸受ステータと、強磁性体素子を有する軸受ロータとを備えている形式のものにおいて、相互間隔を有して配置された少なくとも２つのアクチュエータによって、ギャップ領域の対応配置されたアクチュエータ対が形成されており、ギャップ領域に、軸受ロータのアクティブな磁気軸受が設けられている。
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【課題】コイル群を備えたステージ装置においてコイル群を均一かつ効率的に冷却する。
【解決手段】ステージ装置１００は、第１層コイル群Ｃ１及び第２層コイル群Ｃ２と、第１層コイル群Ｃ１を冷却するために第１層コイル群Ｃ１を構成する各コイルの長手方向に交差する方向に冷媒を流す第１流路４６と、第２層コイル群Ｃ２を冷却するために第２層コイル群Ｃ２を構成する各コイルの長手方向に交差する方向に冷媒を流す第２流路４８とを備え、コイル群Ｃ１、Ｃ２が発生する磁界によって可動子２０を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）

【課題】 高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれも生ずることのない被処理体の搬送機構を提供する。
【解決手段】 薄い板状の被処理体Ｗを搬送するために比較的長い共通搬送エリア６内に設けられた搬送機構４０において、前記共通搬送エリアの長手方向に沿って設けられる案内レール４２と、前記案内レールに沿って移動可能になされた移動体４４Ａと、前記移動体に設けられて、前記被処理体の周縁部の下側角部に係合される断面Ｌ字状の係合段部８２，８４を有する複数の被処理体支持支柱８０とを備える。これにより、被処理体を上記係合段部により保持することにより、高速搬送ができ、しかも、被処理体の位置ずれが生ずることも防止する。 （もっと読む）

【課題】 リニア増幅器とＰＷＭ増幅器を効率よく組み合わせた出力電流制御装置、この出力電流制御装置を使用したステージ装置および露光装置を提供すること。
【解決手段】 出力電流に応じてリニア増幅器１０５とＰＷＭ増幅器１０４とを使い分け、出力電流検出器Ｒ５、１０７と比較器１０６とを共通に使用する。 （もっと読む）