【課題】被吸着物と静電チャックとの間の異物に関する情報を検出できる静電吸着方法、露光方法、静電吸着装置、露光装置及びデバイス製造方法の提供。
【解決手段】被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着方法であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知工程１０４と、検知工程１０４での検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断工程１０５とを有する。また、被吸着物を基台に静電吸着する静電吸着装置であって、被吸着物の基台への吸着状態を検知する検知部と、検知部の検知結果に基づいて被吸着物と基台との間の異物情報を判断する判断部とを有する。 （もっと読む）

【課題】向上したステージの位置決め精度を有するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、オブジェクトを保持するステージであって、基準構造に対してある運動範囲内で移動可能なステージと、運動範囲の少なくとも一部に空間的に変化する磁界を提供する磁石構造であって、基準構造及びステージに対して移動可能な磁石構造と、基準構造に対するステージ及び／又はオブジェクトの測定方向の位置に対応する第１の測定信号を提供する第１の位置測定システムと、磁石構造に対するステージの位置に対応する第２の測定信号を提供する第２の位置測定システムと、第２の測定信号に依存する値で第１の測定信号を補正して、基準構造に対するステージ及び／又はオブジェクトの測定方向の位置を表す第１の補正測定信号を提供するデータプロセッサとを含む。 （もっと読む）

【課題】回転浮上体の径方向の力と回転トルクとを同一の電磁石で制御することにより不要な外乱の発生を抑制することができる処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体に対して処理を施す処理装置において、処理容器と、被処理体を支持する非磁性材料よりなる回転浮上体と、回転浮上体に所定の間隔で設けられた磁性材料よりなる複数の回転ＸＹ用吸着体と、回転浮上体に周方向に沿って設けられた磁性材料よりなる浮上用吸着体と、処理容器の外側に設けられて浮上用吸着体に垂直方向上方に向かう磁気吸引力を作用させて回転浮上体の傾きを調整する浮上用電磁石群と、処理容器の外側に設けられて回転ＸＹ用吸着体に磁気吸引力を作用させて浮上された回転浮上体を水平方向で位置調整しつつ回転させる回転ＸＹ用電磁石群と、ガスを供給するガス供給手段と、被処理体に処理を施す処理機構と、装置全体の動作を制御する装置制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】半導体製造装置などで使用される基板を位置決めするθＺ駆動装置を小型にすることを課題とする。
【解決手段】ベース６に立設する円筒状のフレーム１７と、フレーム１７の内面に設けられてテーブル１をＺ方向とθ方向に駆動するθＺアクチュエータ１５と、テーブル１がＺ方向へ昇降可能となるよう支持する昇降支持部７と、テーブル１がθ方向へ回転可能となるよう支持する回転支持部４と、テーブル１の昇降位置および回転位置を取得するための位置検出部３１と、を備え、昇降支持部７と回転支持部４と位置検出部３１のすべてが、θＺアクチュエータ１５の内側にあって、かつθＺアクチュエータ１５のＺ方向の高さにほぼ収まるよう配置されるよう構成した。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下や露光処理等への悪影響を抑制する。
【解決手段】一対の接続部材ＡＭ１１、ＡＭ１２を所定の軸周りに回転自在に接続する関節部ＪＴ１２を有する。関節部は、一対の接続部材を非接触で、所定の軸周り方向に相対的に回転自在、且つ所定の軸と直交する方向への相対移動を拘束するベアリング装置ＢＲ１２を有する。 （もっと読む）

【課題】小さい設置面積を維持すると共に、処理ステーション毎に個別に滞留時間を制御することができるコスト及びスループットを改善下装置及び方法を提供する。
【解決手段】線形搬送チャンバは、線形トラックと、線形トラックに乗せられて、処理チャンバの側面に沿って基板を線形に搬送するロボットアームとを含み、処理チャンバに到達させる方法として、基板を、制御された雰囲気中にロードロックを介してフィードし、次いで搬送チャンバに沿ってフィードする。線形平行移動、回転と分節、及びｚ運動が可能な４軸ロボットアームが開示される。 （もっと読む）

【課題】真空下の半導体処理システムにおいて加工中の製品を処理する方法及びシステムに関する。
【解決手段】複数のロボットアームセットを持つロボットコンポーネントを使用した半導体を搬送するシステムであって、ロボットコンポーネント４００２は加工中の製品を搬送する下部ロボットアームセットを有し、ロボットコンポーネントは前記下部ロボットアームセットに対して実質上垂直な位置に、前記加工中の製品を搬送する上部ロボットアームセットを有する。 （もっと読む）

【課題】メンテナンスコスト及びランニングコストの低減に寄与する磁気ネジ駆動装置を提供する。
【解決手段】磁気ネジ駆動装置９は、モータに連結された駆動軸１３を介して、ハウジング１７に軸支された螺旋状磁石軸１１を回転させるものであり、駆動軸１３及び螺旋状磁石軸１１のそれぞれに、駆動軸１３及び螺旋状磁石軸１１が挿通されて気密に取り付けられた円筒状のカラー１９と、このカラー１９の表面に摺接するようにハウジング１７側に取り付けられるオイルシール２０とを備えることでハウジング１７内の潤滑剤Ｇｒを封止することができる。 （もっと読む）

【課題】可動フレームが上下方向に変動し難いとともに、可動フレームが変形し難い非接触軸受構造を有するステージ装置を提供する。
【解決手段】ステージ装置２は、平らな上面を有するベースプレート５０と、ベースプレート５０の上で浮上する可動フレーム４０を備えている。可動フレーム４０の下面には、ベースプレート５０との間に斥力を発生する斥力部４２と、ベースプレート５０との間に吸引力を発生する吸引部４６とが隣接して設けられている。吸引部４６は、その吸引力が斥力部４２から離れるにつれて小さくなっている。斥力と吸引力が作用するので可動フレーム４０が上下方向に変動し難い。また、吸引力の中心と斥力の中心の間の距離が小さいので、互いに反対方向に作用する斥力と吸引力に起因する可動フレームの面外方向変形が抑制される。 （もっと読む）

【課題】パーティクルの発生を抑制するとともに交換部品及び交換回数の低減を図ることができる真空処理装置及び基板搬送装置並びに成膜方法を提供する。
【解決手段】基板搬送装置２は、基板Ｇを垂直姿勢で保持して、搬送レール６上を搬送可能なキャリア部材４を備えており、キャリア部材４に取付けられたキャリア側ガイドマグネット１５，１６，１７，１８が、搬送レール側６に取付けられたレール側ガイドマグネット２１，２２，２３，２４から水平方向の斥力を常時受けることで、キャリア部材４は左右の搬送レール６側と非接触状態で移動できる。また、レール側ガイドマグネット２１，２３を、搬送空間Ｔとプロセス空間Ｐとの境界部分に配置することでパーティクルの除去を行う。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を高精度で計測する。
【解決手段】 露光ステーション２００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ１の位置情報は、計測アーム７１Ａを含む第１の微動ステージ位置計測系により計測され、計測ステーション３００では、ウエハを保持するステージＷＦＳ２の位置情報は、計測アーム７１Ｂを含む第２の微動ステージ位置計測系により計測される。露光装置１００は、ステージＷＦＳ２が計測ステーション３００から露光ステーション２００へ搬送される際、このステージＷＦＳ２の位置情報を計測可能な第３の微動ステージ計測系を有する。第３の微動ステージ計測系は、複数のＹヘッド９６，９７を含むエンコーダシステムとレーザ干渉計７６ａ〜７６ｄを含むレーザ干渉計システムとを含む。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、再現可能かつ正確な基板処理を維持しながら、システム処理量を増大させ、システム稼働時間を改善し、かつデバイス歩留り性能を改善した処理システム内で基板を処理する装置および方法を提供する。システムは、システム制御装置によって制御される複数の平面の移動子を介して平面のモータを使用することによって横方向に位置決めできる複数の処理ネストを含むことができる。各処理ネストによって支持される基板は、回転アクチュエータによってその角度を決定できる。システムは、とりわけ、スクリーン印刷、インクジェット印刷、熱処理、デバイス試験、および材料除去プロセスに使用することができる。
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【課題】 粗微動ステージにおいて、微動ステージの位置を高精度に計測する。
【解決手段】 粗動ステージＷＣＳに保持された微動ステージＷＦＳのＸＹ平面内での位置情報の計測には、微動ステージのＸＹ平面に実質的に平行な一面に配置されたグレーティングＲＧに対向して配置され、該グレーティングに計測ビームを照射するヘッドを含むエンコーダシステムが用いられる。そして、微動ステージは、駆動系によって、エンコーダシステムで計測された位置情報に基づいて、単独で、若しくは粗動ステージと一体で駆動される。この場合、エンコーダシステムのヘッドを微動ステージ（グレーティング）に近接して配置することができ、これにより、エンコーダシステムによる微動ステージの位置情報の高精度な計測が可能になる。 （もっと読む）

【課題】ロボットが収容される搬送室の小型化が図れる搬送モジュールを提供する。
【解決手段】搬送室１４内に被搬送体Ｗを搬送するロボット１２を収容する。ロボット１２は、駆動軸３１，３２に結合されて水平面内を回転するアーム３３，３４と、アーム３３，３４の、駆動軸３１，３２から離れた位置を支持し、アーム３３，３４の重さを搬送室１４の底面１４ａに伝えるアーム支持部４２と、被搬送体Ｗを保持し、アーム３３，３４が回転することによって水平面内を移動する保持体３９と、を備える。ロボット１２の関節でアーム３３，３４を片持ち支持する必要がなくなり、ロボット１２の関節、アーム３３，３４の剛性を低くすることができる。ロボット１２の高さ方向の寸法は、ロボット１２の関節、アーム３３，３４の剛性によって決定されるので、ロボット１２の高さ方向の寸法を抑えることができる。 （もっと読む）

【課題】コイルに流れる電流の遅れに起因して生じる、駆動すべき方向とは異なる方向への力を低減させる。
【解決手段】コイル４、及び複数の永久磁石を有するリニアモータと、コイル４に電流を供給する電流ドライバ９と、該電流ドライバ９への指令を生成する制御手段７とを備えたステージ装置であって、制御手段７は、コイル４と永久磁石との相対位置に基づいて算出した電気角を用いた正弦波を、リニアモータへの推力指令値に乗ずるコミュテーション処理により指令を生成し、更に、指令に対して、推力指令値に比例した振幅を持ち、かつ、正弦波と９０度に位相がずれた正弦波の成分を含ませる。 （もっと読む）

【課題】案内面の損傷を低減させるステージ装置を提供する。
【解決手段】
本発明のステージ装置は、ステージ部４と、ステージ部４の移動を案内する案内面を含む静圧軸受ガイド５と、ステージ部４に保持され且つ案内面に向けて気体を噴出するエアパッド２と、ステージ部４に保持され且つ案内面に対向した永久磁石３とを有するステージ装置であって、 静圧軸受ガイド５は、磁性体を含み且つ永久磁石３に対向した突出部を含む金属部７と、金属部７の硬度より高い硬度を有し、金属部７を被覆し、且つ案内面を有するセラミック部６とを含む。 （もっと読む）

【課題】ステージ装置の作動効率を向上させる。
【解決手段】同一直線上にない三箇所で、ステージを上下方向に個別に移動する三つの上下アクチュエータと、作用線が上下方向に直交する面に沿ってステージの重心を通り、ステージを水平に移動する第１アクチュエータと、作用線の各々が上下方向に直交する面内で第１アクチュエータの作用線と直交して、ステージを水平に移動する第２アクチュエータおよび第３のアクチュエータとを備え、第２アクチュエータの作用線は、三つの上下アクチュエータのうちの少なくとも一の上下アクチュエータの作用線と交差し、且つ、第３アクチュエータの作用線は、三つの上下アクチュエータのうちの一の上下アクチュエータとは異なる少なくとも一つの上下アクチュエータの作用線と交差する。 （もっと読む）

本発明は、クリーンルーム条件下のミニエンバイロンメント内でのマイクロ技術による基板の微粒子なしハンドリングのためのデバイスに関する。摩擦なし、したがって、微粒子なしで働く基板のハンドリングデバイスを提供することが本発明の課題である。本発明によれば、いくつかの自由度がデバイスのために設計され、それにより、少なくともｘ軸、ｙ軸、ｚ軸、およびφ方向が、磁気的にかつ非接触で支持され、かつ／または、誘導され、それにより、軸および方向のそれぞれの支持および駆動が、非接触で電磁的に実行され、支持および駆動のためのエネルギーの伝送が非接触で実行される。少なくとも１つの能動コンポーネント３および少なくとも１つの受動コンポーネント２が設計され、それにより、可動の能動ユニット３が、磁石軸受け４、５によって固定受動コンポーネント２において懸垂保持しながら誘導され、それにより、能動コンポーネント３と共に動くドライブモータ７が、電磁結合を通じてエネルギー供給部に接続される。
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【課題】移動体の傾斜によって生じる計測システムの計測誤差の影響を受けることがない、高精度な移動体の駆動を実現する。
【解決手段】 制御装置により、計測システム７０によって計測される微動ステージＷＦＳの計測方向に関する位置情報と、該位置情報に含まれる微動ステージＷＦＳの傾斜に起因する計測誤差の補正情報とに基づいて、微動ステージＷＦＳが駆動される。従って、微動ステージＷＦＳの傾斜によって生じる計測システムの計測方向に関する位置情報に含まれる計測誤差の影響を受けることがない、高精度な微動ステージＷＦＳの駆動が可能になる。 （もっと読む）

【課題】移動体の駆動手段を制御する電流制御装置が制御の遅れ特性を有していても高精度な位置制御を行うこと。
【解決手段】電流値に応じた推力を発生させて制御対象３０１を駆動するリニアモータと、リニアモータへ入力する電流値をフィードバック制御するリニアモータドライバ３０３と、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて、制御対象３０１をフィードフォワード制御するための第１の操作量Ｓ１を生成するフィードフォワード制御部１０２と、制御対象３０１に生じる外乱を、制御対象３０１の伝達関数とリニアモータドライバ３０３の遅れ特性を含んだ伝達関数とを用いて推定する外乱オブザーバ１０４と、を備え、第１の操作量Ｓ１を推定外乱ｄ’に基づき補正して得られる第２の操作量Ｓ４に従って、リニアモータドライバ３０３が電流値のフィードバック制御を行う。 （もっと読む）