【課題】 基板を保持するステージを支持する定盤の温度均一性を高める。
【解決手段】 基板の複数のショット領域を順に露光する露光装置であって、基板を保持するステージと、前記ステージを支持する定盤と、前記ステージを前記定盤に対して平行な平面内で駆動する平面モータと、前記定盤を冷却する冷却ユニットと、を備え、前記定盤は、最初のショット領域の露光が開始されてから最後のショット領域の露光が終了されるまでの露光処理期間においてその中に前記ステージの一部が常に存在する領域の外縁を規定する第１境界線と、前記露光処理期間において前記ステージが駆動される領域の外縁を規定する第２境界線と、の間に設定される第３境界線によってその外縁を規定される第１領域と、前記第３境界線によってその内縁を規定され、前記第１領域よりも前記露光処理期間内における温度上昇が小さい第２領域とを含み、前記冷却ユニットは、前記第１領域内で冷媒を流す第１冷却路と前記第２領域内で冷媒を流す第２冷却路とを含む。 （もっと読む）

【課題】非常時の方針が改善されたリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】 リソグラフィ装置の位置決めシステムであって、フレームに実質的に平行な少なくとも１つの方向でリソグラフィ装置の可動オブジェクトを位置決めする制御システムを含み、制御システムが、可動オブジェクトの位置を測定する測定システム、可動オブジェクトに力を与えるアクチュエータ、及び測定システムの出力に基づいて、駆動信号をアクチュエータに提供するコントローラを含み、制御システムの故障を割り出し、故障が割り出された場合は、制御システムを使用不能にして、フレームに対して可動オブジェクトを引っ張る非常時制動システムをさらに含む位置決めシステム。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間の所定面上を、前記基板を保持して移動するステージと、前記所定面に対して前記ステージを浮上させる浮上装置と、前記浮上装置に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良を抑制できる露光装置及びデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板を用いて露光処理を行う露光装置であって、ダウンフローが供給される所定空間を、前記基板を保持して移動するステージと、前記ステージの移動に応じて前記所定空間を移動する移動体と、前記移動体に設けられ、前記所定空間を排気する排気装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】パレット保持の信頼性及び動作の信頼性を確保し、生産性を向上する。
【解決手段】基板支持装置が、基板１２を搭載するパレット８と、パレットを鉛直姿勢した状態で、パレットの径方向両端部を保持するパレット両端保持機構１５と、パレットの中心部を回転可能に保持するパレット中央保持機構１３と、装置本体を移動する移動機構１１と、を備え、パレット両端保持機構は、パレットの径方向両端部を板厚方向の両側から把持する機構で、移動中はパレット両端保持機構がパレットを保持し、パレット両端保持機構からパレット中央保持機構への受け渡し時は、双方の保持機構によってパレットが保持され、基板処理時はパレット中央保持機構によってパレットの中心部を回転可能に保持し、パレット両端保持機構による保持は解除される。 （もっと読む）

【解決手段】開示されるのは、円盤状の物品を流体で処理するための装置であり、この装置は、円盤状の物品の上に流体を分配するための分配手段と、円盤状の物品を該円盤状の物品に垂直な軸Ａを中心に保持する及び回転させるためのチャックとを含み、チャックは、ベース本体と、駆動リングと、円盤状の物品の縁に接触するための把持部材とを含み、把持部材は、円盤状の物品の中心に対して偏心して移動可能であり、把持部材の偏心移動は、駆動リングによって駆動され、駆動リングは、軸Ａを中心にベース本体に対して回転可能であることによって把持部材を駆動するように、ベース本体に回転可能に取り付けられ、ベース本体に対する駆動リングの相対的回転移動は、ベース本体を保持するとともに駆動リングを回転させること、または駆動リングを保持するとともにベース本体を回転させることによって実行され、これによって、保持対象パーツ（駆動リングまたはベース本体）は、それぞれの保持対象パーツに触れることなく磁力によって保持される。 （もっと読む）

【課題】
エアベアリング部の機構の大型化を抑えることが可能で高精度なステージ装置を提供する。
【解決手段】
ステージ装置１００は、基準面内のＸ方向及びＸ方向と直交するＹ方向にステージ８を駆動するステージ装置であって、ステージ８をＸ方向に駆動するリニアモータ１２と、ステージ８をＸ方向及びＹ方向に駆動するリニアモータ９と、Ｙ方向に延びて、リニアモータ１２がＸ方向に移動するのを規制するヨーガイド３と、ヨーガイド３に向けて気体を噴出することにより、ヨーガイド３に対してＸ方向に所定の距離だけ離れて設けられたヨースライダ６と、ステージ８の移動に伴いヨースライダ６に対してＸ方向に所定の力が発生した場合、この所定の力を相殺するようにリニアモータ９を制御する制御手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ウェハへの汚染が少なく加熱容器のシール性を向上する。
【解決手段】 気密構造の容器と、容器内に収納される基板を保持する基板保持手段と、容器の上壁を透過して基板を加熱するランプユニットと、容器の外周に設けられ容器の鉛直軸を中心に回転する円筒状の外部ロータと、容器内に嵌められ基板保持手段を外部ロータと同心に回転させる円筒状の内部ロータと、外部ロータと内部ロータとを容器の側壁を介して磁気的に結合し外部ロータにより内部ロータを回転させる磁気結合手段と、内部ロータにガスを流し内部ロータを浮上支持させるガス軸受と、を備え、磁気結合手段は外部ロータに設けられた磁石と内部ロータに設けられた磁性体とを有し、基板保持手段を回転させる際に外部ロータに設けられた磁石の上面を内部ロータに設けられた磁性体の上面より高い位置に保持する。 （もっと読む）

【課題】レチクルステージの移動中のレチクル滑りを実質的に除去するシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】システムは、マスク保持システム、マスク力デバイス、サポート移送デバイスを含む。マスク保持システムは、サポートデバイスおよび保持デバイスを含み、保持デバイスはマスク、例えば、パターンを有するレチクルなどのパターニングデバイスをサポートデバイスに取外し可能に結合する。マスク力デバイスは、リソグラフィ装置内の投影光学系が放射ビームを用いて基板のターゲット部分上にパターニングデバイスによって付与されるパターンを正確に投影できるように、加速力をマスクに提供するためにマスクに取外し可能に連結されている。サポート移送デバイスは、マスクサポートデバイスに結合され、かつマスク力デバイスと同時にマスクサポートデバイスを移動させる。 （もっと読む）

【課題】基板ステージの駆動、及び発熱による、レーザ干渉計の光路の温度の揺らぎを効果的に低減する。
【解決手段】可動子６Ｂと、可動子６Ｂを移動させるための固定子６Ａと、可動子６Ｂに設置された反射鏡１０と、反射鏡１０に対して光を投射することで前記可動子の位置を計測する位置計測手段とを有する位置決め装置において、可動子６Ｂの側面に防風部材１１を備える。 （もっと読む）

【課題】液体が漏出しても被害の拡大を抑え、露光装置の稼働率の低下や露光精度の低下を防止できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置（ＥＸ）は、液体（ＬＱ）を介して基板（Ｐ）上に露光光（ＥＬ）を照射して基板（Ｐ）を露光するものであって、第１ベース部材（ＢＰ１）と、基板Ｐを移動可能に保持する基板ステージ（ＰＳＴ）と、基板ステージ（ＰＳＴ）を支持する第２ベース部材（ＢＰ２）とを備え、第２ベース部材（ＢＰ２）上に漏出した液体（ＬＱ）の第１ベース部材（ＢＰ１）への拡散が防止されている。 （もっと読む）

磁力によって浮上する一体式ステージ位置決めシステムは、３相リニアモータと、一体式ステージに接続され、強磁性体ベースと相互作用するコイル巻線とを含む。３相リニアモータを励起して、Ｘ軸方向の動き、Ｙ軸方向の動き及びＺ軸を軸にした回転を提供できる。一体式ステージは、空気軸受上で浮上する。一体式ステージに接続された複数のコイル巻線は、磁力によって空気軸受に予圧を加える役割を果たすことができる。複数のコイル巻線を励起して、Ｚ軸方向の動き、並びにＸ軸及びＹ軸を軸にする一体式ステージの回転を提供してもよい。 （もっと読む）

【課題】真空チャンバ内で基板等を搬送する際に、搬送機構によるパーティクルの発生を防止する。
【解決手段】真空チャンバ２内に移動可能に配置され、被搬送物（基板２０）を支持、搬送する支持体５と、チャンバ外から支持体５に磁力を介して運動伝達する磁気運動伝達機構を備える。真空雰囲気のチャンバ内においてローラや歯車などの回転体を用いず、磁気運動伝達することができ、搬送時のパーティクルを極力少なくする効果がある。さらに、チャンバ外への無駄な設置面積を必要としない。また、磁気運動伝達機構と回転機構を併用することにより、基板の受渡し、搬送時に任意の角度を設定でき、装置設計時の自由度が大きくなる。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置の物体テーブルを位置決めするためのデバイスを利用したデバイス製造方法。
【解決手段】物体テーブル３０を位置決めするためのデバイスは、物体テーブル３０を第１の方向に支持するためのフレームと、第１の力を第１の方向に実質的に直角の第２の方向から物体テーブル３０に付与し、第２の力を第１の方向及び第２の方向に実質的に直角の第３の方向から物体テーブル３０に付与するように構築され、且つ、配置されたモータ・ユニット３５、３６とを備えている。モータ・ユニット３５、３６は、第２の部品４０、４１と協働して第１及び第２の力を生成するように構築され、且つ、配置された第１の部品３８、３９を備えており、第１の力及び第２の力の両方が実質的に物体テーブル３０の重心を通る方向に物体テーブル３０の上に配置される。 （もっと読む）

【課題】バーミラーを用いることなく、干渉計の測長光路を減圧して位置決め精度を向上させることで、ステージ外部の減圧が困難な加工装置等への適用及び装置の小型化を可能にする。
【解決手段】位置決め装置の固定部であるベース１は、Ｙガイド面２を有し、Ｙ凹空間部６、シール部７、Ｙ軸受８を有するＹスライダ３は、Ｙガイド面２に沿って移動する。Ｘ凹空間部９、シール部１０、Ｘ軸受１１を有するＸスライダ５は、Ｙスライダ３上をＸガイド面４に沿って移動する。干渉計２５ａ及びミラー２７ａ、２７ｂは、Ｘスライダ５のＸ凹空間部９に配置され、干渉計２５ｂ及びミラー２７ｃ、２７ｄは、Ｙスライダ３のＹ凹空間部６に配置される。各凹空間部６，９は、それぞれ排気ホース１５、１６によって減圧される。 （もっと読む）

【課題】局所的滑動及びヒステリシスが実質的に減少したリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えてパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するサポートと、基板を保持する基板ホルダを備える基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムとを備え、基板テーブルは、基板テーブルと基板ホルダの間の位置及び方向の滑動及びヒステリシスを減少させる、又はなくす。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク等の基板を搬送し、基板処理を施して大量に生産する基板処理システムのスループット及び生産性の向上のため、各処理チャンバにおける処理時間（タクトタイム）を短縮する。
【解決手段】基板搬送装置は、ゲートバルブを介して連結されたチャンバと、前記ゲートバルブを開状態にして前記チャンバ間でキャリアを搬送路に沿って搬送する搬送機構と、前記キャリアが前記チャンバの停止位置に到達する前に前記キャリアを検知するセンサと、前記センサからの検知信号に基づき前記ゲートバルブの閉動作を開始するよう制御する制御器とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の処理不良を防止できる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、基板支持部材１００及び回転調節部４５０を具備する。基板支持部材１００は、基板がローディングされ、回転できる支持プレート１１１と、該支持プレート１１１に設置され、支持プレート１１１にローディングされた基板の側面で基板のエッジを支持して支持プレート１１１の上面から離隔させ、各々自転して支持されている前記基板を回転させる多数のチャッキングピン１１２とを具備する。回転調節部４５０は、支持プレート１１１の下に設置され、各チャッキングピン１１２の自転を調節する。チャッキングピン１１２は、工程の時基板を回転させて基板がチャッキングピンと接点される位置を変更させるため、チャッキングピンに当たった処理液が基板上に落ちる位置が継続変更される。 （もっと読む）

【課題】移送装置を提供する。
【解決手段】垂直軸線を形成するプロファイルと、プロファイルに隣接して設けられて被移送物を支持し、プロファイルの垂直軸線に沿ってプロファイルに対して相対的にアップ／ダウン移動するカーアセンブリーと、プロファイルとカーアセンブリーとのうち少なくとも何れか一つに設けられてカーアセンブリーのアップ／ダウン移動時、プロファイルに対するカーアセンブリーの移動経路を非接触式で案内する非接触式アップ／ダウン案内ユニットと、を含むことを特徴とする移送装置。本発明によれば、被移送物に対する高速移送が可能でありながらも、移送速度を安定的に維持及び制御し、かつ被移送物の移送過程中にパーティクルの発生を防止できるということはもとより、従来よりさらにノイズを減らせて、耐久性を向上させうる。 （もっと読む）

【課題】液体の漏れ出しを抑制する。
【解決手段】液体（Ｌｑ）が供給される投影光学系（ＰＬ）直下の第１領域に一方のステージ（ＷＳＴ１（又はＷＳＴ２））が位置する第１の状態から他方のステージ（ＷＳＴ２（又はＷＳＴ１））が第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、両ステージが、Ｘ軸方向に関して近接した状態を維持してＸ軸方向に同時に駆動される。このため、投影光学系とその直下にある特定のステージとの間に液体を供給したままの状態で、第１の状態から第２の状態に遷移させることが可能となる。これにより、一方のステージ側での露光動作の終了から他方のステージ側での露光動作開始までの時間を短縮することが可能となり、高スループットの処理が可能となる。また、投影光学系の像面側には、液体が常に存在させることができるので、投影光学系の像面側の光学部材にウォーターマークが発生するのを防止する。 （もっと読む）