【課題】基板を安定させて支持することができる加熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理板１４１の上面に，基板Ｗの下面を支持する複数の支持部材１４６を備えた。各支持部材１４６は，基板Ｗの下面中央部Ｃから外側に離隔したものほど，熱処理板１４１の上面から高く突出するように備えた。かかる加熱処理装置によれば，加熱により基板Ｗが下に凸状に反ったとき，基板Ｗの下面が支持部材１４６から離れすぎず，基板Ｗを安定させて支持することができる。 （もっと読む）

【課題】 真空状態を保ったままで、チャック表面に付着した異物を除去する方法を提供する。
【解決手段】 （ａ）に示すように、図示しない搬送ロボットにより、レチクルの代わりにパージ用容器７を昇降テーブル５の上に載置する。そして、（ｂ）に示すようにレチクルステージ１が、チャッキング位置に来た状態で、昇降テーブル５を上昇させ、パージ用容器７のパージ口７ａが、静電チャック２の表面から数ｍｍ程度離れた位置となるように上昇させ、その状態で、パージ口７ａから気体を吹き出して、静電チャック２の表面を気体パージし、静電チャック２の表面に付着したパーティクルを吹き飛ばす。吹き飛ばされたパーティクルとパージ用気体は、露光装置を真空引きしている真空ポンプにより露光装置外に排出される。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜形成用の単位ブロックと、反射防止膜形成用の単位ブロックとを積層して設けることにより、レジスト膜の上下に反射防止膜を形成するにあたり、省スペース化を図ること。また反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれにも対応することができ、この際のソフトウェアの簡易化を図ること。
【解決手段】処理ブロックＳ２に、塗布膜形成用の単位ブロックであるＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５と、現像処理用の単位ブロックであるＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互いに積層して設ける。反射防止膜を形成する場合、しない場合のいずれの場合においても、ＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５の内の使用する単位ブロックを選択することにより対応でき、この際の搬送プログラムの複雑化を抑えて、ソフトウェアの簡易化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】
搬送中における試料に付着する異物の量を抑制することのできる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】
ガス供給手段及びガス排気手段を備えた真空処理室と、該真空処理室内で試料を載置して保持する試料載置電極と、ガス供給手段及びガス排気手段を備えた搬送室と、前記真空処理室と搬送室間を連絡する通路を開閉するゲートバルブと、搬送室内に配置した搬送アーム９及び該搬送アーム先端に配置した試料保持部９ａを備え、試料を該保持部に保持して前記搬送室から真空処理室に搬送し、処理済みの試料を真空処理室から搬送室に搬送する搬送装置と、搬送中の試料の搬送位置に連動して試料にガスを吹き付けて浮遊する塵埃の試料表面への付着を防止するガス吹きつけ手段２５ｃを備えた。 （もっと読む）

【課題】 処理ブロックと露光装置との間に介在するウエハＷの搬送手段に異常が発生した場合に、塗布膜形成用の単位ブロック内のウエハＷに対して通常の処理を行うことにより、基板の歩留まりの低下を抑えること。
【解決手段】 ウエハＷに対してレジスト膜を形成した後、露光装置に搬送し、露光後の基板を現像処理する処理ブロックＳ２に、塗布膜形成用の単位ブロックであるＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５と、現像処理用の単位ブロックであるＤＥＶ層Ｂ１，Ｂ２とを互いに積層して設けると共に、前記処理ブロックＳ２と露光装置Ｓ４との間に搬送手段Ｂを設ける。この搬送手段Ｂに異常が起きたときに、ＴＣＴ層Ｂ３、ＣＯＴ層Ｂ４、ＢＣＴ層Ｂ５内に存在するウエハＷに対して、当該単位ブロック内で通常の処理を行った後、収容ユニット４に退避させると共に、これら単位ブロック内へのウエハＷの搬入を禁止する。 （もっと読む）

【課題】 保管、搬送等に好適であり、大容量化にも対応することができるような収容物
保管搬送装置を実現する。
【解決手段】 例えば電動ファン２２のような送風手段と、送風手段から送られる気体の
パーティクルを除去する高密度フィルタ２３Ａ等の脱塵手段とを有する送風ユニット２と
、例えば基板１００のような収容物を収容するための空間を形成する筐体１１及び上蓋１
２の箱体に、送風ユニット２との接合する部分となり、送風ユニット２から送られる気体
が流入する給気口部１３を少なくとも設けた清浄空間ユニット１とを備え、送風ユニット
２に対して清浄空間ユニット１を脱着可能にするものである。 （もっと読む）

システム規模を小さくすることのできる基板搬送システムを提供することを目的とする。移載装置９０３は、メイン搬送路９０１と、サブ搬送路９０２ａまたはサブ搬送路９０２ｂとの間で基板やレチクルを移載すると共に、基板またはレチクルまたは基板収容カセットをストックするための装置である。このように基板Ｓを１枚ずつ保管することにより、もしくは、基板収容カセットを一つずつ保管することにより、サブ搬送路とメイン搬送路で搬送される基板やレチクルまたは基板収容カセットの数を調整することが可能となり、処理負荷が大きくなった場合のバッファとして機能する。
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【課題】 ＩＣチップと外観検査装置との位置合わせを容易にしたＩＣチップの外観検査方法およびその装置を提供する。
【解決手段】 ＩＣチップ収納用の凹部５１を有するトレイ５０を用いて、ＩＣチップ１の外観を検査する方法であって、トレイ５０の凹部５１にＩＣチップ１を収納し、このトレイ５０を傾けて、ＩＣチップ１を凹部５１の内角部５１ｄに片寄せする。その後、凹部５１底面の貫通穴５５を通して排気を行いつつ、トレイ５０の傾きを調整する。外観検査の対象となる複数個のＩＣチップ１の、凹部５１における位置や傾きを揃える（即ち、整列させる）ことができるので、ユニークマークを探すための捜索領域を狭くすることができる。 （もっと読む）

【課題】 処理ガスによる測定装置内の汚染を抑制する。
【解決手段】 測定装置４の筺体３０内に，測定室Ｓを形成するための測定ブロック４０が設けられる。測定室Ｓは，ウェハＷの搬送口３３を一側面とする直方体形状に形成する。測定室Ｓ内には，載置板４２が設けられる。光学系４５は，測定室Ｓの天井面を隔てた反対側に設けられる。これにより，光学系４５と測定室Ｓとの通気が遮断される。測定室Ｓには，搬送口３３に向けて清浄なエアを供給する給気口５０が設けられる。測定室Ｓ内に，ウェハＷを搬入し，ウェハＷに対する測定を行う際には，給気口５０から搬送口３３側に向けて清浄なエアが給気され，搬送口３３から測定室Ｓ内に流入する処理ガスを希釈化したり，押し戻す。 （もっと読む）

【課題】 FOUPに収容されたウエハからの汚染物質等の除去操作を容易且つ確実に行うことを可能とする。
【解決手段】 FIMS内部における開口部１０の上部にガス給気パイプを配置し、該パイプより、ポッド内部に収容されたウエハの上面に対して清浄ガスを吹き付けることによって、ウエハからの汚染物質等の除去を行うこととする。 （もっと読む）

【課題】 基板収納容器内の残留気体を置換ガスで置換する場合、短時間にまた置換ガスの使用量を最小限にして置換する。
【解決手段】 一側面が開口した容器本体０１と、上記開口を塞ぐ蓋体０２とを備え、複数の基板Ｗを水平にかつ縦方向に間隔を置いて保持する保持手段を有する基板収納容器において、保持される一方の基板の特定方向のほぼ半周と容器内壁との空間を塞ぐ一方の気流制御板０５を設け、さらに保持される他方の基板の前記特定方向と反対方向のほぼ半周と容器内壁との空間を塞ぐ他方の気流制御板０６を設ける。 （もっと読む）

【課題】基板に残留応力が蓄積しにくい基板保管装置を提供する。
【解決手段】この基板保管装置は、上下方向に積層配置され、基板Ｓを１枚ずつ保管する複数の基板保管棚２１を備えており、複数枚の基板Ｓを上下方向に積層状態で保管することができる。各基板保管棚２１は、基板Ｓを浮遊状態で保持する気体ベアリング機構１７を有している。気体ベアリング機構１７は、隔壁４０（支持部材）と、この隔壁４０に固定されて当該隔壁４０の上方に上空気流通路４４（気体流通空間）を区画するとともに、この上空気流通路４４に供給される気体を上方に吹き出す上フィルタ膜とを備えている。 （もっと読む）

【解決手段】円板状基板を支持・回転するエッジホイールは、基板の端部を保持するように周縁溝が形成されたホイール体と、周縁溝からホイール体内部に伸張する少なくとも一本の放射状チャネルと、を備える。本発明の技術は、エッジホイール乾燥機並びに円板状基板の処理方法としても実現可能である。 （もっと読む）

【課題】この発明は処理槽を形成する板材を厚くせずに、その剛性を向上させることができるようにした処理装置を提供することにある。
【解決手段】基板を処理するための処理装置であって、
板材によって上面が開口した箱型状に形成され一側面に基板の搬入口２、他側面に搬出口３が形成された処理槽１と、処理槽の上部の外周面に沿って一体的に設けられ処理槽を形成する板材を補強する補強フレーム７と、補強フレームに回動可能に取り付けられ処理槽の上面開口を開閉する蓋部材１６とを具備する。 （もっと読む）

電子部品の製造において用いられるレチクル用検出／クリーニング装置であって、検出／クリーニング装置がクリーニングユニットを有し、その中にクリーニングチャンバーが構成されている。圧縮液体クリーニング媒体の導入用の少なくとも１つのガス供給がクリーニングチャンバーへ通じる。ガスをクリーニングチャンバーから放出する少なくとも１つの吸引手段がクリーニングチャンバーから通じる。クリーニングチャンバーはレチクルを導入し且つ取り除く少なくとも１つの第１開口部を有する。半導体製造で用いられる品物の汚染を検出する検出ユニットが設けられる。検出ユニットは検出手段を有し、その中へレチクルが検出ユニットの１つの送り側から導入され得る。クリーニングチャンバーの第１開口部と送り側は互いに反対側にある。送り装置はクリーニングユニットと検出ユニットとの間のレチクルを交換するために設けられる。
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【課題】平坦な物品を装置へまたは装置から搬送するための機器を提供する。
【解決手段】搬送ポッド１を、耐漏洩性の方式で処理装置９の物品通過開口部１１に結合することができ、シーリングが、間に配置されたインタフェース周辺ガスケット１６によって得られる。ポッドドア４を、インタフェースドア１２に選択的に固定することができ、これらドアを、１つのユニットとして、ドアアクチュエータ１４からの駆動の下で横断ストロークが後に続く軸方向ストロークに沿ってともに動かすことができる。搬送ポッド１は、保持手段１５によって保持される。２つのドアの周りの周辺容積２１を、ポンプ２２とダクト２３によってポンプ排気することができる。ポッドドア４を、ロック手段２０によって搬送ポッド１にロックすることができ、ロック手段２０は、搬送ポッド１が処理装置９から分離している間の良好なシーリングを保障する。 （もっと読む）

【構成】 スライドフォーク１６のベースユニット内の基端側に駆動モータ４２を収容し、ベルト４４，４６によりトップユニット２２とミドルユニット２０とを駆動する。トップユニット２２はスライドフォーク１６の上部を覆う板材を備え、ミドルユニット２０の長手方向の中央部に連結部６６を設けて、ミドルユニット２０の左右のパーツを連結し、ベルト４６を固定する。
【効果】 駆動モータをスライドフォークの厚さサイズ内に収めることができ、スライドフォークの上下サイズを小さくできる。 （もっと読む）

【構成】 左右の走行レール４，４の間に給電ダクト６を設け、スタッカークレーン１０にユニバーサルジョイントを介して接続した集電台車２４を給電ダクト６内を走行させる。給電ダクト６にＦＦＵ８を接続して、トロリー内での発塵を吸引してグレーティング３側へ排気する。
【効果】 給電トロリーとの接触による発塵を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 クリーン環境内におけるクリーン度を確保しやすくしながら、物品を搬送することができるクリーン用の物品搬送車の提供。
【解決手段】 クリーン環境内で走行する車体５に物品を収納する物品収納部６が設けられ、その物品収納部６に対してその内部に清浄空気を通風する通風手段７が設けられているクリーン用の物品搬送車において、物品収納部６が、車体５の上面部よりも上方側に突出する移載用高さＴ１と車体５の内方側の収納用高さＴ２とに昇降自在に設けられ、通風手段７が、車体５の上面部よりも上方側に突出しない状態で、収納用高さＴ２に位置する物品収納部６に対して通風作用するように設けられている。 （もっと読む）

【課題】 ＦＯＵＰ等の密閉型ウエハ収納容器において、内部に保管したウエハから放出される原子および分子がウエハに再付着することを防ぐ。
【解決手段】 ウエハ上にＰがドープされた多結晶シリコン膜を堆積した後、ウエハをＦＯＵＰｃｕｃ内に収容し、ＦＯＵＰｃｕｃを密閉してベイステーションＢＳへ搬送し、ベイステーションＢＳにてＦＯＵＰｃｕｃを保管する。ベイステーションＢＳでのＦＯＵＰｃｕｃの保管中には、ＦＯＵＰｃｕｃの底面の２個所に設けられたブリージングフィルタにそれぞれパイプＰＰを取り付け、一方のパイプＰＰから乾燥ガスをＦＯＵＰｃｕｃ内へ流し込み、他方のパイプＰＰからＦＯＵＰｃｕｃ内の雰囲気を排気することによって、ＦＯＵＰｃｕｃ内雰囲気を換気する。 （もっと読む）