【課題】基板の変形を極力抑制しつつ実用的な速度で基板を冷却することができるロードロック装置を提供すること。
【解決手段】ロードロック装置６，７は、真空の搬送室５に対応する圧力と大気圧との間で圧力を変動可能に設けられた容器３１と、容器３１内の圧力を搬送室５に対応する真空と大気圧に調整する圧力調整機構４８と、容器３１内に設けられウエハＷが載置または近接されて冷却されるクーリングプレート３２と、容器３１内においてウエハＷの変形を検出する変位センサー６１，６２と、搬送室５から高温のウエハＷが容器３１内に搬入された後のウエハ冷却期間に、変位センサー６１，６２が所定値以上のウエハＷの変形を検出した際にウエハＷの冷却を緩和する制御機構２０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】搬送室内に形成されているダウンフローの流速を適切なタイミングで調整することによって，搬送室内にて基板の表面上にパーティクルが付着することを確実に防止する。
【解決手段】搬送室２００内に水平方向に移動自在であるとともに昇降自在に設けられ，搬出入口２１２，１５３などにアクセスしてウエハＷを搬送可能な搬送機構１６０と，搬送室内に清浄な気体のダウンフローを形成し，その流速を調整可能なダウンフロー調整手段と，搬送室内に所定の流速のダウンフローを形成しておき，搬送機構によってウエハを下降搬送している間はその下降速度よりもダウンフローの流速の方が速くなるようにダウンフロー調整手段を制御してダウンフローの流速を一時的に上げる制御部３００とを設けた。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の高信頼性を実現させる。
【解決手段】ダイシングシート２０の一方の主面に置かれた半導体素子１１を、当該ダイシングシート２０の他方の主面側から押し上げ、押し上げられた半導体素子１１上に、吸着コレット１００を近接配置する。そして、半導体素子１１の表面に気体を噴出し、気体を排出する。更に、半導体素子１１を、吸着コレット１００に保持しつつダイシングシート２０から剥離する。そして、半導体素子１１を、吸着コレット１００に保持しつつ支持部材上に搭載する。これにより、半導体装置の高信頼性が実現する。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUPを閉鎖する際に内部の酸化性ガスの分圧の低減を図る。
【解決手段】FIMS内部における開口部１０の両側辺外方に拝されたパージガス供給用のノズルに加え、開口部１０の上辺上方にパージガスによるガスカーテンを形成可能とするカーテンノズルを配置する。蓋４によるポッド２の閉鎖時では、ドア開閉機構を用いて蓋４をカーテンガスの流れ方向に対して所定角度傾斜させて所定時間これを維持することとし、蓋４によってガスカーテンに供せられたパージガスもポッド内のパージに用いることとする。 （もっと読む）

【課題】構成部品の腐食、パーティクルの基板への付着、並びに、基板搬送モジュールのコストアップ及び大型化を防止することができる基板搬送モジュールを提供する。
【解決手段】ローダーモジュール１４は、ウエハＷにエッチング処理を施すプロセスモジュール１１とロード・ロックモジュール１２を介して連接されるとともに、ウエハＷを搬送する基板搬送装置１６及び該基板搬送装置１６を収容する搬送室１５を備え、該搬送室１５内は外部雰囲気から隔絶され、搬送室１５内の圧力は大気圧であり、基板搬送装置１６はウエハＷを保持するピック１９及び該ピック１９を移動させるアーム部２０を有し、ローダーモジュール１４はピック１９及び該ピック１９に保持されたウエハＷを収容して搬送室１５の内部雰囲気から隔絶するマイクロエンバイロメントユニット１８を備える。 （もっと読む）

【課題】
チップトレイや電子部品用トレイに半導体チップを収納した場合、トレイの表面に付着した微小な半導体片などの無機物屑が半導体チップ表面に再付着し、パッケージへの組立工程でのボンディングの際に半導体表面に形成されたボンディングパッドとワイヤとの接続が良好になされず、剥がれてしまうという問題がある。
【解決手段】
紫外線の照射により粘着性が低下する粘着性樹脂を表面に備えたチップトレイに半導体チップを搭載し、チップトレイの半導体チップ搭載面に紫外線を照射することにより、ボンディング時のワイヤ剥がれを抑制する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、シリコンウェーハに不純物を付着させることなく、他の部材とは非接触で安定した搬送が可能なシリコンウェーハの搬送装置を提供することにある。
【解決手段】シリコンウェーハ２を搬送する空間中３に、複数の孔４１および搬送方向と平行に設けた少なくとも１本の直線状溝孔４２を有する搬送テーブル４と、前記孔４１から前記ウェーハ２の裏面にガスを噴出してウェーハを浮上させるウェーハ浮上手段５と、各直線状溝孔４２内に少なくとも１個の第１ノズル６１を有し、前記第１ノズル６１が、搬送前のウェーハ２が位置する直線状溝孔４２の部分よりも搬送方向手前側位置から、前記ウェーハ浮上手段５の孔４１から噴出されるガスより高い圧力のガスを噴出しながら前記直線状溝孔４２を前記搬送方向に移動することにより、浮上状態のウェーハ２の側縁部４ａを押圧して搬送するウェーハ搬送手段６と、前記搬送テーブル４の上方に位置し、前記ウェーハ２の位置を検出するための検出手段７とを具える。 （もっと読む）

【課題】 汚染状態のモニタリングを行い、必要に応じて汚染物質除去装置を稼働させることで、さらに効率の良い汚染物質除去システムを提供することを目的とする。
【解決手段】 室内を複数のエリアａに区画し、エリアａ毎に汚染物質の濃度を低減する汚染物質除去システムにおいて、エリアａ毎又はエリアａを通って物品を搬送する各搬送装置３に設置された汚染物質除去装置２２，２３，３１と、エリアａ又は搬送装置３に設けた汚染物質濃度センサ５と、汚染物質濃度センサ５の検出した値に応じて、汚染物質除去装置２２，２３，３１の作動状態を制御する制御手段１０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理部中の塵埃を除去でき、装置の小型化、処理のスループットの向上及び歩留まりの向上を図れるようにすること。
【解決手段】搬送手段によって搬送されるウエハを処理部に搬送して処理を施す基板搬送処理において、ウエハＷの処理前に、搬送手段であるメインアームＡ２によって搬送される、塵埃を捕集可能な状態の捕集プレートＰＬを塗布処理ユニット３２に搬入して、塗布処理ユニット内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。塵埃を捕集した捕集プレートを洗浄ユニット８０内に搬入し、この洗浄ユニット内において捕集した塵埃を洗浄により除去し、塵埃が除去された捕集プレートを、塵埃を捕集可能な状態例えばイオナイザ２００によって帯電して再生する。塵埃を捕集可能な状態に再生された捕集プレートを、メインアームによって処理前の処理部に搬入して、この処理部内に発生する塵埃を捕集プレートに付着して捕集する。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェハの位置を調整するプリアライナーにおいて、その駆動部から発生するパーティクルがウェハに付着する事を防止する
【解決手段】ウェハステージ２７を回転させる駆動部と、駆動部を収納する機枠２１を備えるプリアライナー装置において、一端がウェハステージ２７に連結され、他端が駆動部に接続され、機枠２１の上板に回転可能に支持されたシャフト２４と、機枠２１の内部においてシャフト２４に設けられた羽車１１と、を備え、シャフト２４が駆動部によって回転したときに、ウェハステージ２７から遠ざかる方向に気流が発生するよう羽車１１を設けた。 （もっと読む）

【課題】ＲＩＥ処理時に発生する反応生成物を効率よく除去できるようにする。
【解決手段】ガス供給機構１０が、処理基板Ｓの周縁部Ｓａに向けて不活性ガスを噴出するため、多量の反応生成物が付着したとしても２工程以上の薬液処理を行う必要なく不活性ガスの噴出処理によって反応生成物を除去することができる。 （もっと読む）

【課題】所謂ミニエンバイロメント方式を採用する際に、清浄度の低い外部環境のガスが局所クリーン領域に取り込まれることを抑制することができる局所クリーン搬送装置における物品受渡し時の清浄度保持装置を提供する。
【解決手段】クリーンルーム１１内の複数箇所に設けられ、清浄度がクリーンルーム１１内の清浄度より高い作業領域１２の物品受渡し部１３間における物品の搬送を手動台車１４で搬送されるポッド１５に収容して行う。物品受渡し部１３内はクリーンルーム１１内の圧力より高い圧力（陽圧）となっている。ポッド１５が移動部材２２上に載置され、移動部材２２と共にカセット１７が下降する途中で開口充填部２２ｂと受渡し口部２０ａとの隙間から物品受渡し部１３内のガスが排出され、クリーンルーム１１内のガスが物品受渡し部１３内に入り込むのが抑制される。 （もっと読む）

【課題】主発塵源である走行レール・車輪接触部からの発生塵埃を拡散させずに床下へ排出するとともに、クリーン搬送装置のファンフィルタユニットを減らし、低コスト化と省力化を図るようにしたクリーン搬送装置を提供すること。
【解決手段】クリーンルーム１内で走行レール２上を、スタッカクレーン３が車輪走行するとともに、クリーンルーム１内の空気を走行レール２の設置床面から排出するようにしたクリーン搬送装置において、設置床面として配設した通気床４を、走行レール付近４ａの開口率が他の部分４ｂより大きくなるように設定する。 （もっと読む）

【課題】基板処理システムのスループットを低下させることなく、大気系搬送室及び内圧可変搬送室の間を連通し、若しくは遮断するゲートバルブを洗浄することができるゲートバルブの洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、ローダーモジュール４及びロードロックモジュール５の間に配置されたゲートバルブ７を備え、ゲートバルブ７はウエハ受け渡し口７１の開閉を行う弁体７２を有し、ローダーモジュール４及びロードロックモジュール５の間を連通すべく弁体３７によりウエハ受け渡し口３６を開く前に、ガス供給系３３によりロードロックモジュール５のチャンバ３２内に窒素ガス等の不活性ガスをチャンバ３２内の圧力がローダーモジュール４の搬送室２５内の圧力（大気圧）よりも陽圧になるように供給してから、弁体３７によりウエハ受け渡し口３６を開く。 （もっと読む）

【課題】半導体収納容器開閉装置において半導体収納容器の蓋を開けるときに、半導体収納容器と半導体収納容器開閉装置の壁面との間隙から、外界の異物が半導体収納容器内部に進入し、ウエハに付着する問題を解決する。
【解決手段】半導体収納容器開閉装置１００において、半導体収納容器を開ける時の最大速度を、半導体製造装置内部の圧力と外界の圧力との差圧で、除した速度差圧比を０．０６（ｍ／ｓ・Ｐａ）以下に設定するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複数の半導体ウエハをストックするバッファ装置において、前記半導体ウエハのパターン面上の塵埃を除去するとともに、パターン面の温度・湿度を一定に保ち、それらに起因する品質の劣化を防止することができるバッファ装置および前記バッファ装置を備えた半導体製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体製造装置において、複数の半導体ウエハ２５を格納することができる複数の格納部２３を有し、各格納部２３は水平に設置された隔壁２２によって隔てられており、前記格納部２３において前記半導体ウエハ２５は一枚ずつパターン面２５ａを下向きにして配置され、前記パターン面２５ａに対峙する隔壁２２は、上向きに気体を噴出する複数の噴出部２４を備えていることを特徴とするバッファ装置２０を用いることによって、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】コストを低減し、省スペースを実現する。
【解決手段】ストック１は、収納用フープ２０と複数のパージユニット５０と測定用フープ３０とスタッカクレーン６０とを備えている。収納用フープ２０は、内部に半導体ウェハを収納している。測定用フープ３０は、内部に流量計を備えている。パージユニット５０は、収納用フープ２０が載置される複数のパージ台からなるパージ棚５１を備えており、パージ台上に載置された収納用フープ２０内に窒素ガスを供給する。スタッカクレーン６０は、パージ台へ収納用コンテナ２０を搬送するとともに、複数のパージ台同士の間で測定用フープ３０を搬送する。 （もっと読む）

【課題】デバイスの微細化に伴うリソグラフィ工程のスループットの低下防止及びコストの低廉化を図ると共に、微細化におけるパターニング寸法精度の向上を図れるようにすること。
【解決手段】基板処理システムによって半導体ウエハＷに、少なくともレジスト塗布処理（ＣＯＴ），露光処理（ＥＸＰ），露光後の加熱処理（ＰＥＢ）及び現像処理（ＤＥＶ）等のリソグラフィ処理を施して所定のパターンを形成するリソグラフィ工程と、現像処理後のパターンをマスクとするエッチング（ＥＴ）工程と、パターンの線幅を測定する測定工程と、を有し、測定工程で測定された測定情報に基づいて、２回目以降のリソグラフィ工程の露光処理における露光補正，露光後の加熱処理における温度補正及び／又はエッチング工程におけるエッチング補正を行う。 （もっと読む）

【課題】ファンフィルタユニットのランニングコストを抑えることができる基板収納用の収納容器を提供する。
【解決手段】横倒れ姿勢の四角筒状に形成された容器本体６６の一端側の開口を、基板を一枚ずつ出し入れするための出入り口として構成し、容器本体６６の他端側の開口から出入り口に向けて通風するファンフィルタユニット６４を、容器本体６６における他端側の開口部に装備し、容器本体６６における出入り口を開閉する蓋６５を、閉じ状態において一部を通気口として開口する状態で、容器本体６６の出入り口部に装備する。 （もっと読む）

【課題】処理済み基板を製造する際のコストを抑えながら基板が汚染され難くすることができる基板処理方法を提供する。
【解決手段】収納棚５に保管するとき及び収納容器搬送装置８にて搬送するときには、収納容器２の蓋を閉じ状態としてファンフィルタユニットにて通風することにより、基板の清浄度を維持し、且つ、基板入出部６において基板搬送装置７にて基板を搬送するときには、収納容器２の蓋を開き状態としてファンフィルタユニットにて通風すること並びに搬送エリア用の浄化空気通風手段２５によって基板搬送エリア２４の清浄度を維持することにより、基板の清浄度を維持する。 （もっと読む）