【課題】半導体ウエハ収納容器の蓋を開けることなく、該半導体ウエハ収納容器内のケミカルガスを除去すると共に、酸の発生を阻止する。
【解決手段】半導体ウエハ９を収納した半導体ウエハ収納容器１の底板５に複数個設けられた呼吸口８のうち、供給側の呼吸口８ａと排出側の呼吸口８ｂに連結固定するドライエアまたは窒素ガス充填装置Ａにおいて、前記各呼吸口８ａ・８ｂは、ＰＴＦＥフィルター７を備えて形成され、且つ前記充填装置Ａは、半導体ウエハ収納容器１内にドライエアまたは窒素ガスを供給するドライエア・窒素ガス供給部１１と、半導体ウエハ収納容器１内に供給されたドライエアまたは窒素ガスにより、半導体ウエハ収納容器１内のケミカルガスを除去すると共に、水分を除去により半導体ウエハ表面の酸の発生を阻止した後のドライエアまたは窒素ガスを排出する使用済ドライエア・窒素ガス排出部１２とにより構成される。 （もっと読む）

【課題】 基板裏面を汚染することなく、基板を安定的に位置保持できる基板搬送・処理装置を、簡単低コストに提供する。
【解決手段】 基板が搭載されたときに、基板の自重により回転する基板把持手段１１０を備え、基板の自重により発生した力により確実に安定的に基板を把持することができる。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムに固定されて開放状態にあるFOUP内部の酸化性ガスの分圧が時間の経過と共に増加することを防止する。
【解決手段】FIMS内部における開口部１０の上部にカーテンノズルを配置して、該開口面を閉鎖する不活性ガスからなるガスカーテンを形成すると同時に、FOUP内部に対しても不活性ガスを供給する。その際、FOUP内部へ供給される不活性ガスの供給方向を、ガスカーテンを形成するガス流れに対して対向する流れ成分を有さない方向とする。 （もっと読む）

【課題】ボンディング装置のチップのピックアップについて、その異物除去をさらに十分に行うことを可能とすることである。
【解決手段】ボンディング装置１０は、複数のチップ８が配列されて保持されるウェーハリング１２と、チップを吸引保持して搬送するコレット２０と、ウェーハリング１２とコレット２０等の周囲にイオン化したガスを供給する除電器３０と、チップ８にイオン化したガスを吹き付ける吹き付け部４０と、イオン化したガスを吸引するダクト部５０とを含んで構成される。ここで、ウェーハリング１２の下部には、コレット２０の真下においてチップ８を突き上げる突き上げピン１８を有する突き上げステージ１６が配置される。吹き付け部４０は、突き上げタイミングの直前のみに、チップに対しイオン化したガスを吹き付ける。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を平面に近い形状に確実に保持しつつ所定の搬送面に沿って滑らかに搬送できる信頼性が高い薄板状材料の搬送方法及び装置を提供する。
【解決手段】搬送装置１０は、略平坦な上面部１６の複数の部位から上方に気体を噴射可能であり該上面部１６が搬送面１４の下側に近接するように配置された下側エアガイド１８と、略平坦な下面部２０の複数の部位から下方に気体を噴射可能であり該下面部２０が搬送面１４の上側に近接するように下側エアガイド１８の上方に配置された上側エアガイド２２と、を有してなるエアガイドユニット２４が備えられ、ガラス基板１２の動きを上下方向の両側において非接触で規制するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】
イオンを運ぶエアフローだけでなく、カセットステージからも除電が行われる様にし、ウェーハの除電が確実に又効果的に行われる様にするものである。
【解決手段】
基板を処理する処理室と、装置内部で基板を搬送する搬送手段と、装置外部から搬入された基板が実装された基板搬送容器３を載置する載置部４と、該載置部に載置された前記基板搬送容器に対してクリーンエアを供給するクリーンエア供給手段１４と、該クリーンエア供給手段からのクリーンエア流れ１５に関し前記載置部より上流側の位置に設けられたイオン発生手段１６とを備え、前記載置部は前記基板搬送容器に接触する接触部５を有し、該接触部は体積抵抗が１０¹⁶（Ω・ｃｍ）以下である。
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【課題】半導体素子製造装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は半導体基板製造に使われる装置を提供する。本発明の装置は基板を収容する容器が置かれるロードポート、前記ロードポートと工程設備との間に配置されて前記ロードポートに置かれる容器と前記工程設備間で基板を移動する移送ロボットが設置されるフレーム、および前記ロードポートに置かれる前記容器内部から前記フレームに向かう方向に流れるように前記容器の壁に形成された流入口を通じて前記容器の内部に窒素ガスまたは非活性ガスを供給するガス供給部材を含む。上述の構造によって、前記容器と前記工程設備間で基板が移送される時、前記フレーム内の空気が前記容器内に流入されることを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 ウェハＷ等の基材を温度調節したり吸着したりするための流体路を、回転ステージ１０の中心からずれた位置に配置した構造を実現し、中心軸Ｌｃ上には他の構成部材の配置スペースを確保する。
【解決手段】
固定筒６０に回転筒５０を回転可能に挿通する。回転筒５０の下端部に回転駆動手段を連結し、上端部にステージ本体１１を連結する。ステージ本体１１には流路ターミナルとして環状冷却室１１ａや吸着溝１１ｂを設ける。固定筒６０の外周面には、流体ポート６１ａを形成し、内周面にはこのポートに連なる環状路６１ｃを形成する。回転筒５０には軸方向路５１ａを形成し、この軸方向路の下端部を前記環状路に連ね、他端部を前記流体ターミナルに連ねる。 （もっと読む）

【課題】半導体ウエハ収納容器内の空気を、清浄化する半導体ウエハ収納容器に使用するシャッター付きブレスフィルター装置を提供する。
【解決手段】半導体ウエハ収納容器２に設置される、底部に開口部１２、内部に円筒状フィルター７を備えたブレスフィルター装置において、円筒状フィルター７の内周面に周接する如く、該円筒状フィルター７より高さの低い筒状ガイド１５を立設固定し、且つ筒状ガイド１５内に開口部１２より径大なシャッター１１を装入する一方、シャッター１１を、半導体ウエハ収納容器２下面に設置された空気循環Ｎ２ガス供給用装置１３に立設された押上げロッド１４により押圧して上昇して、開口部１２を開放し、更に、空気循環Ｎ２ガス供給用装置１３を半導体ウエハ収納容器２より取去ることにより、シャッター１１が自重で降下して、開口部１２を閉鎖する。 （もっと読む）

【課題】従来の貯蔵装置では、貯蔵装置上部に備える送風装置により保管棚の天井部と背面壁から清浄気体を流していたために、搬送ロボット等の動作により装置内に塵埃が舞って、保管棚に収納されている基板上に塵埃が付着することがあり、また保管棚に積載されたウエハ用カセットの背面壁から清浄気体を流しても乱流が発生して塵埃（パーティクル）が滞留する不具合があった。
【解決手段】本発明の貯蔵装置は、前面開口部が一定方向となるように並列して、また、移動可能である複数の基板保管棚と、保管棚が並ぶ方向に沿って移動でき、保管棚に収容される基板の受け渡しを行う搬送ロボットとを備えており、この貯蔵装置は、内部を高清浄に保つことができるものである。 （もっと読む）

【課題】キャリア内に付着したパーティクルやキャリア内のウェハに付着したパーティクルを効果的に除去できる処理システム及び処理方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗを処理する処理部と，複数枚の基板Ｗを収納する収納容器Ｃを載置する載置台４０とを備え，収納容器Ｃは，収納容器Ｃ内の基板Ｗを略水平にして上下に並べる状態，かつ，収納容器Ｃに基板Ｗを搬入出させるための開口２０を収納容器Ｃの側方に向けた状態で載置されるようにした。開口２０の外側には，ガスを供給する複数のガス供給口７３を設けた。各ガス供給口７３は，収納容器Ｃ内の各基板Ｗ同士の間に向かって略水平方向にガスを供給する方向に指向させた。 （もっと読む）

【課題】搬送アーム、及び装置全体を安価で製造する。
【解決手段】同一円弧上にそれぞれの少なくとも一部が配置されたレチクル搬入部２９からレチクルステージＲＳＴを経由して、レチクル搬入部２９に至るまでのレチクルの搬送を、搬入アーム８２ａ、８２ｂが円弧の中心軸を回転軸として回転軸周りの所定方向の回転運動をするのみで行うことができるので、搬送アーム８２ａ，８２ｂの簡素化を図ることができ、これにより、搬送アーム８２ａ，８２ｂひいては露光装置全体を安価で製造することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】キャリアに搬入する前のウェハやキャリアから搬出したウェハからパーティクルを効果的に除去できる処理システム及び処理方法を提供する。
【解決手段】
基板Ｗを処理する処理システムに，基板Ｗを処理する処理部と，複数枚の基板Ｗを収納する収納容器Ｃを載置する載置台４０と，基板Ｗを略水平な姿勢で保持し，前記収納容器Ｃの開口２０を介して収納容器Ｃ内に対して基板Ｗを搬入出させる基板搬送装置６０とを備えた。そして，基板搬送装置６０によって保持された基板Ｗに対して，開口２０側から開口２０の外側に向かう方向にガスを供給するガス供給口７３を設けた。 （もっと読む）

【目的】 簡単な構成により工場内の汚染物質を高効率で除去し、設備の建設や運用等にも大きなコストがかからない搬送装置及び搬送装置を使用する方法を提供する。
【構成】 物品を収納する搬送容器Ｆを搬送する搬送装置１において、搬送装置１は空気を清浄化する汚染物質除去装置６と、汚染物質除去装置６に空気を導入する吸気口１８と、汚染物質除去装置６を通過した空気を排気する排気口１９とを備えるので、簡単な構成により汚染物質を高効率で除去し、設備の建設や運用等にも大きなコストがかからない。 （もっと読む）

【課題】電気研磨および／または電気めっきプロセスにおいて、ウェーハを移動させるロボットアセンブリにおいて、エンドエフェクタ真空カップ内の粒子を取除き、真空通路に酸などが入るのを防止する装置および方法を提供する。
【解決手段】エンドエフェクタ３０６は、真空弁３２２を介して真空源と、窒素弁３２０を介して加圧窒素源と連結されている。真空弁３２２がオンされると、ウェーハをエンドエフェクタ３０６に押し付けて保持するように、真空カップ３０２内の圧力を低下させる。真空弁３２２がオフされ、かつ、窒素弁３２０がオンされると、エンドエフェクタ３０６は、真空カップ３０２内の圧力が増大されウェーハを開放する。ウェーハが保持されていない時、または移動されていない時は窒素弁３２０をオン状態のままにして、真空カップ３０２内において周囲環境圧力に近いか、またはこの周囲環境圧力よりも高い圧力を維持する。 （もっと読む）

【課題】 例えば処理済の基板上に付着した腐食性ガスなど処理ガスのガス成分が搬送室などの排気とともにそのまま外部へ排出されることを防止し，工場の排気設備などの負担を軽減する。
【解決手段】 ウエハに所定の処理を施すための処理ユニットと，この処理ユニットに対してウエハを搬出入する搬送室２００とを備える基板処理装置であって，搬送室２００は，搬送室２００内へ外気を導入する給気部２３０と，給気部２３０に対向して設けられ，搬送室２００内を排気する排気部２５０と，排気部２５０に設けられ，排気に含まれる少なくとも有害成分を除去する有害成分除去フィルタ２５６からなる排気フィルタ手段２５４とを設けた。 （もっと読む）

【課題】基板ウエハの汚染を監視するための方法および装置を提供する。
【解決手段】装置が、たとえばＦＯＵＰまたはＳＭＩＦタイプの搬送エンクロージャ１内で直接に汚染を測定するために使用される。搬送エンクロージャ１は、それと外部ガス分析装置２との間の直接連絡を設定するアダプタ５上に置かれる。ガス分析装置２は、サンプリングされたガスをイオン化し、このイオン化によって生じるイオンのパラメータを測定することによって分析を実施する。これは、非常に低いレベルのガス汚染を実時間に測定する。 （もっと読む）

【課題】 クリーンストッカー設備における床面付近での清浄度の低下を防止する。
【解決手段】 クリーンルーム内の収納スペース１にストッカー本体２とスタッカークレーン３を配置するクリーンストッカー設備において、天井面に設けたファンフィルターユニット１５により天井面から床面に向かう下向きの清浄空気流を形成するとともに、収納スペースの下部に設けたファンフィルターユニット１６から清浄空気を横向きに吹き出すことにより、収納スペース内の下部においては横向きの清浄空気流を形成する。ストッカー本体の直上位置から吹き出す清浄空気流量を、スタッカークレーンの直上位置から吹き出す清浄空気流量よりも大きく設定して、天井面に設けるファンフィルターユニット１５をストッカー本体２の直上位置には密に集約配置し、スタッカークレーン３の直上位置には疎に配置する。 （もっと読む）

【課題】ウェハを確実に把持し、素早いアライメントができるようにするとともに、装置から発生した粉塵をウェハに付着させないアライナー装置を提供する。
【解決手段】複数の把持機構３を動かす把持機構駆動部４のエアシリンダＢ２０に供給されるエアを、旋回部１６に設けた回転継ぎ手２５を介して供給される構造とすることで旋回部１６の無限回転を可能にさせる。また、本体部７にはその内部空間を掃気するファン２７を設け、把持機構３および把持機構駆動部４に、発生した粉塵を吸引するバキュームエアが供給されたバキュームチューブ２８を設置する。 （もっと読む）

【課題】基板を安定させて支持することができる加熱処理装置を提供する。
【解決手段】熱処理板１４１の上面に，基板Ｗの下面を支持する複数の支持部材１４６を備えた。各支持部材１４６は，基板Ｗの下面中央部Ｃから外側に離隔したものほど，熱処理板１４１の上面から高く突出するように備えた。かかる加熱処理装置によれば，加熱により基板Ｗが下に凸状に反ったとき，基板Ｗの下面が支持部材１４６から離れすぎず，基板Ｗを安定させて支持することができる。 （もっと読む）