【課題】搬送室の剛性を高くすることができる搬送モジュールを提供する。
【解決手段】内部を真空にすることが可能な搬送室１４に開閉可能に蓋２２を設ける。搬送室１４内にロボット１２を搭載する。ロボット１２は、被処理体Ｗを搬送する機構の一部に中空の回転軸３６，３７を有する。ロボット１２の中空の回転軸３６，３７内には、閉じた状態の蓋２２を支える柱２８が配置される。大気圧によって蓋２２に作用する荷重を柱２８が負荷するので、蓋２２の肉厚を薄くすることができ、製造コストの削減を図れる。しかも、ロボットが被処理体Ｗを回転軸３６，３７の回りを旋回させたり、放射方向に移動させたりする際、柱２８が邪魔になることもない。 （もっと読む）

【課題】シャトルユニットなどの搬送ロボットと対向する部分のメンテナンス作業がしやすい、基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１では、フレーム１４内に、ウエハＷを搬送するシャトルユニット１７が設けられている。シャトルユニット１７のシャトル本体１９を支持する土台１８は、固定用ボルト４６により、フレーム１４に対して第１位置で固定される。一方、固定用ボルト４６による土台１８の固定が解除された状態では、スライド機構４１により、シャトル本体１９を土台１８ごと第１位置から第２位置へスライドさせることができる。 （もっと読む）

【課題】格子プレートの位置測定システムに干渉する汚染物の困難さに対処することを目的とする。
【解決手段】一実施形態では、汚染物は、格子又はセンサに接触することが防止される。ある実施形態では、表面弾性波を用いて格子又はセンサの表面から汚染物が除去される。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、試料搬送中に、試料に付着した異物の除去を行う試料搬送機構、及び試料搬送機構を備えた走査電子顕微鏡の提供を目的とする。
【解決手段】
上記目的を達成するための一態様として、試料を裏面から支持する試料搬送用ハンドを備えた試料搬送機構であって、前記試料を吸着して保持する吸着機構と、当該吸着された試料と、前記試料搬送ハンド間に形成される閉空間内で、試料に気体を吸着する吸着機構と、当該閉空間内の気体を吸引する吸引機構を備えた試料搬送機構を提案する。更に走査電子顕微鏡内で発生した異物を、試料カセット等に持ち込まないように、走査電子顕微鏡鏡体と試料カセットとの間に設けられた試料搬送用ハンドに設けられた異物除去機構によって、異物を回収する走査電子顕微鏡を提案する。 （もっと読む）

【課題】パージ作業中であってもウェーハをＦＯＵＰ内と半導体製造装置内との間で出し入れすることができるロードポートを提供する。
【解決手段】共通のクリーンルーム内において半導体製造装置に隣接して設けられるロードポート１として、ＦＯＵＰ内部の気体雰囲気を窒素ガスに置換するパージポート（注入用パージポート２３、排出用パージポート２４）を有するパージステージ２と、パージステージ２に並べて設けられ且つ半導体製造装置Ｂ内に通じる開口部３３及び開口部３３を開閉可能なドア部３４を有するオープナステージ３と、ＦＯＵＰをパージステージ２とオープナステージ３との間で移動させる移動機構４とを備えた構成とした。 （もっと読む）

【課題】基板の処理不良を防止できる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、基板支持部材１００及び回転調節部４５０を具備する。基板支持部材１００は、基板がローディングされ、回転できる支持プレート１１１と、該支持プレート１１１に設置され、支持プレート１１１にローディングされた基板の側面で基板のエッジを支持して支持プレート１１１の上面から離隔させ、各々自転して支持されている前記基板を回転させる多数のチャッキングピン１１２とを具備する。回転調節部４５０は、支持プレート１１１の下に設置され、各チャッキングピン１１２の自転を調節する。チャッキングピン１１２は、工程の時基板を回転させて基板がチャッキングピンと接点される位置を変更させるため、チャッキングピンに当たった処理液が基板上に落ちる位置が継続変更される。 （もっと読む）

【課題】窒素ガスパージに伴うウエハ位置ずれによるウエハ移載ミスを防止する。
【解決手段】ポッド１０とボートとの間でウエハ９を授受するウエハ授受ポートにポッド１０のドア１０ａを着脱してウエハ出し入れ口１０ｂを開閉するポッドオープナを設け、ウエハ出し入れ口２２を被覆する筐体６０を設け、筐体６０にはクロージャ収容室６１に窒素ガス６２を流通させる給気管６３、排気管６４を接続する。ポッドの開放時に窒素ガス６２をクロージャ収容室６１、ウエハ収納室１０ｃに吹き込み、窒素ガスパージする。その後、クロージャ４０でドア１０ａをウエハ出し入れ口１０ｂへ嵌入し、ドア１０ａでウエハ９群をウエハ収納室１０ｃ内に押し込み、窒素ガスパージによるウエハ位置ずれを解消させる。 （もっと読む）

【課題】簡単な加工で高い寸法精度が得られ、液処理後の液残りを少なくしてウォーターマーク等のしみの発生を抑制することができ、かつウエハを安定した状態で保持することができ、スループットの向上を図れるようにする。
【解決手段】半導体ウエハＷを複数の保持体で垂直に保持した状態で搬送する搬送手段であるウエハボートを具備する基板処理装置において、ウエハボート５は、ウエハの下端部を支持する下側保持体２０と、ウエハの下部側端部を保持する左右一対の上側保持体３０とを具備し、少なくとも一つの保持体は、該保持体の長手方向に対して所定角度に傾斜する略Ｖ字状の保持溝２１，３１を形成してなる。保持溝を構成する第１の傾斜面４１でウエハの一方の面を保持すると共に、保持溝を構成する第２の傾斜面でウエハの他方の面を保持する。 （もっと読む）

【課題】蓋部材の構成の簡素化を図ることができながら基板の移載が行い易い基板用収納容器を提供する。
【解決手段】一端部に基板出し入れ用の開口が形成され且つ内部に基板を複数枚収納する容器本体４１と、容器本体４１に対して上方側から装着自在で且つ上方側へ離脱自在に構成されて容器本体４１に装着した状態において開口の全面を閉じる蓋部材４２とを備え、蓋部材４２が、容器本体４１における一端部の上端部分に位置する係合部１１４に係合支持される被係合部１１５を備えて、容器本体に装着した状態において被係合部１１５を中心に容器本体４１と蓋部材４２との並び方向と交差する横幅方向に沿う横軸心周りに揺動自在で且つ容器本体４１側に付勢される状態で容器本体４１に装着する。 （もっと読む）

【課題】重量及びコストの著しい増大を回避しながら大型化が可能な基板処理槽と、これを製造するための方法を提供する。
【解決手段】基板処理槽は、槽本体１０と支持枠体２０とを備える。槽本体１０は、樹脂製の板材からなるもので、底板１３とその外縁１４から立上がる補強板１４とを一体に有する底部材１２と、その補強板１４の内側面に沿って立設される側板１６Ａ，１６Ｂとからなる。支持枠体２０は、底板１３を下方から支持する底部枠２３と、側板１６Ａ，１６Ｂを外側から支持する側部枠２６Ａ，２６Ｂとを備える。これらの支持は、槽本体１０の形状を保ち、その形状保持のために板材の厚みを大幅に増やす必要をなくす。 （もっと読む）

【課題】ウェーハをベルヌーイチャックで保持した状態でウェーハの片面をエッチングする際に、エッチング液の巻上げを防止すること。
【解決手段】エッチング液を貯留する円筒状の内槽１と、この内槽１の底面７の中央からエッチング液の液面の中央に向けてエッチング液を供給する吹き出しノズル１３と、半導体ウェーハＷの一方の面を非接触で保持するベルヌーイチャック４１と、半導体ウェーハＷの他方のエッチング面が液面と接触する設定高さまで半導体ウェーハＷを水平に保ちながら下降可能な昇降手段５１を備え、内槽１は、この内槽１の外径が半導体ウェーハＷの外径以下に形成されていること。 （もっと読む）

【課題】FIMSシステムにおいて基板のポッドからの飛び出しを精度よく検出可能な構成を提供する。
【解決手段】FIMSシステムにおける基板飛び出し検出用センサとして光反射型センサを用いる。当該センサにおいて、センサ光の集光時の焦点よりずれてセンサ光の照射領域がセンサ光伝達用の光ファイバの口径まで広がった状態でセンサ光を当該光ファイバに導入させ、検出領域に当該センサ光を射出させる際に、基板から反射された検出光の到達範囲を拡大させる。 （もっと読む）

【課題】筐体内で発生したパーティクルの筐体外への流出を防止することができ、筐体内で安定したダウンフローを生成することができる半導体製造装置を提供する。
【解決手段】処理炉５１を有するウエハ処理領域と、ウエハを収納するポッド２を搬送するポッド搬送装置３５を有するポッド保管室１１ｂと、ウエハ処理領域とポッド保管室１１ｂとを内部に有するメイン筐体１１とを備えたバッチ式ＣＶＤ装置において、メイン筐体１１の正面壁１１ａに開設されたポッド搬入口１２とエアインテーク２６を開閉する第一シャッタ１３と第二シャッタ２８とを両側ロッドシリンダ装置２９によって連動させる。ポッド２の搬入搬出時にはポッド搬入口１２を第一シャッタ１３で開き、エアインテーク２６を第二シャッタ２８で閉じる。ポッド保管室１１ｂ内でのポッド搬送時にはポッド搬入口１２を第一シャッタ１３で閉じ、エアインテーク２６を第二シャッタ２８で開く。 （もっと読む）

【課題】板状体の搬送路における塵の浮遊量を低減することができる板状体搬送装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１の搬送路を形成する天板４を備え、この天板４に形成された複数の孔５から流体を噴出してガラス基板１の少なくとも一部を浮上させる搬送装置において、天板４の複数の孔５から搬送路側に流体を噴出させるか、あるいは搬送路側とは反対側に流体を吸引させる噴出吸引装置６と、ガラス基板１の位置を検出する位置センサ７と、位置センサ７の検出結果に基づき天板４上にガラス基板１が存在すると判断した場合に、噴出吸引装置６に噴出動作を行わせ、位置センサ７の検出結果に基づき天板４上にガラス基板１が存在しないと判断した場合に、噴出吸引装置６に吸引動作を行わせる制御装置３とを備える。 （もっと読む）

【課題】大型化が抑制されるとともに基板の処理効率を向上させることが可能な基板処理装置および基板処理システムを提供する。
【解決手段】基板処理装置５００は、インデクサブロック９、洗浄加熱ブロック１０および基板搬送ブロック１１を含む。基板搬送ブロック１１に隣接するように露光装置１６が配置される。インデクサブロック９は、各処理ブロックの動作を制御するメインコントローラ３０、複数のキャリア載置台４０およびインデクサロボットＩＲを含む。洗浄加熱ブロック１０は、洗浄／乾燥処理ユニットＳＤ１，ＳＤ２、基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２、第１および第２のセンターロボットＣＲ１，ＣＲ２および載置兼ベークユニットＰ−ＰＥＢを含む。 （もっと読む）

【課題】搬送アームの保持部を効率よく洗浄する。
【解決手段】搬送アーム洗浄装置１は、搬送アーム１０２側の側面が開口した処理容器２０を有している。処理容器２０の開口部２１の上部と下部には、気体を噴射する気体噴射部３０、３０が設けられている。気体噴射部３０からの気体の噴射によって、開口部２１にはエアカーテンが形成される。処理容器２０内の上部には、洗浄ガス及び洗浄液を吐出する洗浄ノズル４０が設けられ、洗浄ノズル４０は、水平方向及び鉛直方向に移動可能になっている。洗浄ノズル４０から吐出される洗浄ガス及び洗浄液は加熱され、洗浄液はミスト状になっている。処理容器２０の底面には、洗浄ノズル４０から吐出され処理容器２０の底面に落下した洗浄液を回収する排液口５０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】処理容器内にて処理ガスを流しながら被処理体に対して処理を行うにあたり、処理の面内均一性を向上させ、且つ被処理体へのパーティクルの付着を抑えることができる処理装置を提供する。
【解決手段】
処理装置の載置台は、処理容器内に設けられ、被処理体を載置し、処理ガス供給手段はこの載置台の上方側から処理ガスを供給して、当該載置台に載置された被処理体に対して処理を行う。ガス排気部は載置台の周囲からの処理容器内のガスを排気し、気流ガイド部材は、この載置台の周縁部の上方に当該載置台の周方向に沿って設けられ、当該周縁部との間において気流を外方へガイドする。 （もっと読む）

【課題】ブラシにより基板を洗浄処理する基板処理装置の高さを低減すること。
【解決手段】シーソー部材９１は、支持部材９０を支点として揺動可能であって、支点９３に対して一方側に力点部９６を有し、支点９３に対して他方側に作用点部９７を有している。押圧用アクチュエータ９２は、力点部９６の下方に配置されており、ブラシ２０を基板に押し付けるための押し付け力を当該力点部９６に与えて、シーソー部材９１を揺動させる。前記押し付け力は、作用点部９７からブラケット８２および回転シャフト４５等を介してブラシ２０に伝達される。
【効果】押圧用アクチュエータ９２をシーソー部材９１の下方に配置することにより、ハウジング３２の高さが低減されており、これによって、基板処理装置の高さが低減されている。 （もっと読む）

【課題】
搬送台車の走行輪からの発塵や、発生した塵埃の乱流による巻き上げを効果的に防止するクリーンルーム内搬送装置の走行輪発塵防止装置及び走行輪発塵防止方法を提供する。
【解決手段】
クリーンルーム１１の床板１５に形成されたスリット１７と、床板１５よりも下方に設けられた走行レール１８、１８にスリット１７を通して接触する走行輪２０を備えた搬送台車１０の走行輪２０を床板１５近傍まで覆うように設けられた走行輪カバー２１と、スリット１７を密閉するように両側を床板１５に密着させるとともに、走行輪２０近傍となる走行輪カバー２１直下のスリット１７を密閉しないシールベルト２５と、を備えることにより、清浄エアが走行レール１８、１８近傍で床板１５下に向って流れる気流を走行輪２０近傍に限定して発生させる。 （もっと読む）

【課題】弁体におけるＯリングの劣化を抑制することにより、遮蔽性を長期間維持できるゲートバルブ、及びこれを用いた成膜システムを提供する。
【解決手段】成膜システム１０に用いられているゲートバルブ６２では、遠隔プラズマ生成装置４０による活性化されたクリーニングガスがＣＶＤ装置２０のチャンバ２２に供給されている間、弁体７０を配管６０から退避させた状態で、Ｏリング７８をケーシング６４の内面６４ｃに押圧させる。従って、弁体７０におけるＯリング７８の劣化が抑制され、ゲートバルブ６２の遮蔽性を長期間維持することができる。また、ゲートバルブ６２では、弁体７０の底面７０ａにおいて、Ｏリング７８の外側にガードリング８０が設けられている。従って、Ｏリング７８の劣化がさらに抑制され、クリーニングを繰り返し実行した場合でも、ゲートバルブ６２の遮蔽性を一層長時間維持できる。 （もっと読む）