【課題】外部汚染から保護し、装置スループットが最適になるリソグラフィ・パターニング装置を搬送するボックスを提供する。
【解決手段】運搬ボックス２は、パターニング・デバイスを格納する格納位置を有する内部空間１０、及び、パターニング・デバイスの搬送のための開口を有するコンテナ部８を具備する。内部空間から装置へパターニング・デバイスを搬送する前に、内部空間が加圧される。ボックスはまた、開口を閉じる閉塞部、及び／又は、ボックスの内部空間から／そこへ、ガスを排気し、かつ／又は、供給するチャネル・システム１８を備え、こうしたボックス装置と協働するように構成されたリソグラフィ装置を含む。 （もっと読む）

【課題】 ウエハカセットなどのウエハ保持容器を経て搬送するウエハへの前記ウエハ保持容器でのパーティクルの付着をなくし、配線ショート等のパターン形成不良の発生を防止する。
【解決手段】 複数のウエハ処理工程間でウエハ４を保管するウエハ保管装置２０を、ウエハ４をウエハ表面４ａが上下方向に沿う向きに保持するウエハカセット１と、ウエハカセット１内に上下方向の気流を流す気流取り入れ口２３ａ，排気口２４ａなどからなる気流発生機構と、ウエハカセット１の上流部で前記気流に対してイオン化を行うイオン化機構２２とを備えた構造とする。これにより、ウエハカセット１内の雰囲気中のパーティクルや、複数枚保持されたウエハ４の内の他のウエハ４に付着していたパーティクルが、重力作用によってウエハ表面４ａに落下すること、および、ウエハ表面４ａへ静電吸着することを防止可能である。 （もっと読む）

【課題】 余分に材料を使用することなくコストを抑え、工程を増やさず、環境にも影響の少ない状態で、更にアルミ電極の腐食や変色をさせることなく長期保管することができる半導体装置の保管方法を提供する。
【解決手段】 半導体装置１０に形成されたアルミ電極側の面に、紫外線を照射することで硬化する保護テープ１４を貼り付ける貼付工程と、半導体装置１０の裏面を研磨する研磨工程と、半導体装置１０に保護テープ１４を貼り付けた状態で保管する保管工程と、保護テープ１４を剥離する紫外線照射工程とを行う。これにより、保管中の、アルミ電極と半導体装置１０の周囲に滞留する大気中の湿気および有害ガスとの接触を防ぐことができ、アルミ電極の腐食や変色を抑制することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】電力消費を減少し、ナノサイズのパーティクルを除去できるウエハ移送システム及びシステム内の圧力調整方法を提供する。
【解決手段】ウェーハ移送システム４０は、ウェーハ容器２０を収容するためのロードポート１００、ロードポート１００と連結されるハウジング２００、ウェーハ容器２０とハウジング２００との間でウェーハを移送するためのウェーハ移送機構２８０、ロードポート１００上でのウェーハ容器２０の存在を感知するためのウェーハ容器センサ３３０、ハウジング２００の第１部分に位置する変速ファン３２２、ハウジング２００内で第１部分と向い合う第２部分に位置し、ハウジング２００から排出される空気の排気率を変化させることができる変動排気ユニット３４０、ウェーハ容器センサ３３０から受けた信号に従って変速ファン３２２と変動排気ユニット３４０とを多様に作動させることができる制御器３６０を含む。 （もっと読む）

【課題】 容器開閉装置の載置台上に載置された容器に対し、簡単に、少ない不活性ガス
量で、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気で置換する。
【解決手段】 半導体ウエハ等の収容容器１の開閉装置１０の載置台上に載置された当該
容器１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージシ
ステム２０が、不活性ガス供給路２１、容器１内の酸化性ガス排出路２２、これらを接続
するバイパス路２３を備え、供給路２１の一端には、容器１に設けられた給気用パージポ
ート３に接合する給気ノズル２４が設けられ、供給路２１とバイパス路２３との接続部よ
りも上流側には、第１のバルブ２６が設けられ、排出路２２の一端には、容器１に設けら
れた給排気用パージポート４に接合する給排気ノズル２５が設けられ、排出路２２とバイ
パス路２３との接続部よりも下流側には、第２のバルブ２７が設けられ、バイパス路２３
には、第３のバルブ２８が設けられている。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、標準化機械インタフェース（ＳＭＩＦ）ポッドなどの搬送コンテナをパージングする方法およびシステムを対象にしている。詳細には、浄化されたパージガスを使用して、コンテナと密閉チャンバ（たとえば半導体処理ツール）を、密閉チャンバの環境に対する有機物および他の有害な汚染物質による有害な汚染を伴うことなくインタフェースさせることができるよう、前面作動統一ポッド（ＦＯＵＰ）および他の非気密封止搬送コンテナを浄化することができる。この方法およびシステムを使用して、電子材料を製造し、かつ、処理している間、ウェハ、半導体コンポーネント、および極めて清浄な環境への露出を必要とする他の材料などの対象を搬送することができる。
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本発明は、半導体製造処理に用いられるウエハ等の基板に塵等が付着することを防止し、短時間で精度よく基板の向きを調整する基板位置決めシステムを提供する。本発明の好適な実施形態である基板処理
システムＡでは、複数のローラ２２０により、ウエハＷの周縁を他方向から押圧することで、その中心位置合わせを行う。そして、当該ローラ２２０による中心位置合わせ状態を維持したまま、当接部材２１０の当接部２１１をウエハＷの切り欠きＷａに当接させ、当接部材２１０を弧状に移動することでウエハＷを回転してその向きを調整する。 （もっと読む）

投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】 処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止することができる枚葉式の処理装置を提供する。
【解決手段】 処理容器３２内にて載置台３８上に載置された被処理体Ｗに対して所定の処理を施す枚葉式の処理装置において、前記載置台を浮上させる浮上用磁石機構６０と、前記載置台の周縁部に設けた羽根部材４４と、前記羽根部材に対して不活性ガスを噴射させて前記載置台に回転力を付与する回転用ガス噴射手段６４とを備えるように構成する。これにより、処理容器内に晒される軸受をなくして、パーティクルの発生を完全に防止する。 （もっと読む）