【課題】電極を有する支持ブロックと、プロセスチャンバ内で支持ブロックを保持しているアームであって、中を貫いている通路を有するアームを備えている基板支持アセンブリを提供する。
【解決手段】アームは、支持ブロックに結合されている第１の取付け部と、チャンバコンポーネントに結合されている第２の取付け部とを備えている。固定カバーは、第１の取付け部の真下においてアーム内に着座している円環状板を備えており、通路の中の電気導体を覆って電気導体をチャンバ環境からシールする。 （もっと読む）

【課題】ウエーハ搬出手段を構成する搬送パッドの吸着面を洗浄する搬送パッド洗浄手段から搬送パッドの吸着面に銅イオンを付着しないようにした搬送パッド洗浄手段を備えた研削装置を提供する。
【解決手段】ウエーハを保持する保持面を有するチャックテーブルと、チャックテーブル上に保持されたウエーハを研削する研削手段と、チャックテーブル上で研削されたウエーハを吸引保持する吸着面を有する搬送パッドを備えたウエーハ搬出手段とを具備する研削装置であって、搬送パッドの搬出経路に配設され搬送パッドの吸着面を洗浄する洗浄部材を備えた搬送パッド洗浄手段を具備し、搬送パッド洗浄手段の洗浄部材は銅を含まないセラミックスによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】基板処理システムのスループットを低下させることなく、大気系搬送室及び内圧可変搬送室の間を連通し、若しくは遮断するゲートバルブを洗浄することができるゲートバルブの洗浄方法を提供する。
【解決手段】基板処理システム１は、ローダーモジュール４及びロードロックモジュール５の間に配置されたゲートバルブ７を備え、ゲートバルブ７はウエハ受け渡し口７１の開閉を行う弁体７２を有し、ローダーモジュール４及びロードロックモジュール５の間を連通すべく弁体３７によりウエハ受け渡し口３６を開く前に、ガス供給系３３によりロードロックモジュール５のチャンバ３２内に窒素ガス等の不活性ガスをチャンバ３２内の圧力がローダーモジュール４の搬送室２５内の圧力（大気圧）よりも陽圧になるように供給してから、弁体３７によりウエハ受け渡し口３６を開く。 （もっと読む）

【課題】基板を吸着保持する方式の処理装置における吸引通路に存在する塵埃やパーティクル等によって基板が汚染されるのを防止する。
【解決手段】被処理基板であるウエハＷを回転可能に保持するスピンチャック１０に、ウエハを吸着するための吸引口１４を設けると共に、この吸引口に真空ポンプ２０を接続してなる基板処理装置において、スピンチャックにおける吸引口と真空ポンプとを連通する吸引通路１５ａの汚れを防止するための汚れ防止手段４０を設ける。この汚れ防止手段を、吸引通路における吸引口側に配設されるフィルタ部材４１にて形成する。 （もっと読む）

【課題】チップに傷を付けず、移載先を汚すことがなく、コレットが吸着不良を生じさせることがない、チップ移載装置を提供すること。
【解決手段】複数のチップに分割されたウェハを載置して、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能なステージと、そのステージに載置されたウェハからチップ毎にピックアップする、Ｚ方向に移動可能なコレットと、そのコレットを８つ配設し、Ｘ方向及びＹ方向に移動可能であり且つ回転可能なヘッドと、コレットを画像を通じて監視するモニタと、を具備するチップ移載装置１０の提供による。 （もっと読む）

【課題】 手動で開閉する場合にも部品や付属品等の紛失するおそれが少なく、搬送時の振動や衝撃等でもパーティクルが発生しにくく、しかも、洗浄後の乾燥作業に長時間を要することのない蓋体及び基板収納容器を提供する。
【解決手段】 基板を収納する容器本体１と、容器本体１の開口正面部２に着脱自在に嵌入される蓋体１０とを備える。蓋体１０を、容器本体１の開口正面部２に着脱自在に嵌入される筐体と、筐体の表面に配設され、回転プレート１５の回転に基づき筐体の周壁から出没可能に突出させた係止爪を容器本体１の開口正面部２内周に係止させることにより筐体を施錠する施錠機構１４と、筐体の表面に装着されて施錠機構を覆うカバープレート２２と、カバープレート２２に形成されて回転プレート１５に部分的に対向する操作窓３０とから構成し、施錠機構１４の回転プレート１５の操作窓３０との対向部には、手動操作手段を備える。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＣボート表面の酸化膜中の金属汚染を簡便に除去することによって半導体ウェーハへの金属汚染を防止し、半導体ウェーハの製造時間および製造コストの抑制を可能にする半導体ウェーハ熱処理用ボートの表面清浄化方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面がＳｉＣ１０２で形成される半導体熱処理用ボートの表面清浄化方法であって、熱酸化により熱処理用ボートの表面を酸化する工程と、酸化する工程で形成された酸化膜１０４の一部を除去する工程を有することを特徴とする半導体ウェーハ熱処理用ボートの表面清浄化方法。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクやフォトマスクブランクス等のマスク基板、半導体用ウェハ等の半導体基板、ペリクル等を保管あるいは運搬する際に使用する収納ケースの洗浄方法として、定期的に洗浄することが容易で、複雑な形状のケースにも適用でき、大掛かりな装置や高価な装置を必要とせずに環境対策も容易で洗浄効果の高い収納ケースの洗浄方法を提供する。
【解決手段】 物理吸着した有機物の異物またはイオン性の異物またはイオン結晶異物が付着して汚染された収納ケースの洗浄方法であって、前記収納ケースをクリーンな空気または不活性ガスの気流中に常温〜８０度の温度範囲下で静置し、前記収納ケースに付着した前記異物を脱離除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】保持テーブル上に水層を介してウエーハを保持するための給水量を減らして表面張力が強い状態であってもウエーハを水層上から剥離して搬送できるようにする。
【解決手段】水層１６２を介して保持テーブル１６３に保持されたウエーハＷに対する搬送手段１７の吸着パッド１７１の吸着位置を、パッド中心φ２がウエーハＷの中心φ１に一致しないようにずれた位置に設定して、吸着パッド１７１で吸着した状態で搬送アーム１７２を鉛直方向に上昇させて搬送させることで、ウエーハ中心位置で吸着する場合に比べて格段に水層１６２からのウエーハＷの吸着剥離が容易となるようにした。 （もっと読む）

【課題】クリーニング部位に汚染を生じることなく、微細な異物、好ましくはサブミクロンレベルの異物を簡便、確実、十分に除去できるクリーニング部材を提供すること。該クリーニング部材を有するクリーニング機能付搬送部材、および該クリーニング部材または該クリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング部材は、表面に柱状構造の凸部を複数備えた層状部材を有するクリーニング部材であって、該柱状構造の凸部がカーボン系ナノ構造体である。 （もっと読む）

【課題】容器本体の左右方向に搬送させることが可能な基板収納容器及びコンベアレール部材を提供する。
【解決手段】容器本体に固定される固定部１４を設置して、この固定部１４によって、コンベアレール部材１３を容器本体に固定することで、容器本体の前側に形成されたコンベアレール１１と対になるように、コンベアレール部材１３のコンベアレール１２を容器本体の後側に配置する。すなわち、コンベアレール部材１３を容器本体の底部外面２ｃに取り付けることで、容器本体の左右方向に延在するコンベアレール１０を形成することができる。これにより、基板収納容器を、例えばローラコンベア上に載置して、コンベアレール１０の延在する方向に沿って容器本体の左右方向Ｄ３に搬送することができる。 （もっと読む）

【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、特に、真空吸着方式で基板を保持する基板処理装置を用いた場合であっても異物を効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。そのようなクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面に凹部が設けられ、該凹部にクリーニング層が設けられている。本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、本発明のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。 （もっと読む）

本発明は、伝導性であり、金属非含有であり、かつ、親水性の炭素系被覆を少なくとも部分的に基板に設けることによって、基板の湿潤性を向上させる方法に関する。この炭素系被覆は、窒素でドープされ、１０^８ｏｈｍ−ｃｍ未満の電気抵抗率を有する。さらに本発明は、伝導性であり、金属非含有であり、かつ親水性の炭素系被覆で少なくとも部分的に被覆された基板にも関する。
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【課題】異物除去性能および搬送性能に優れ、特に、エッジ付近を含むテーブル全面にわたって異物を効率よく除去し得るクリーニング機能付搬送部材を提供すること。そのようなクリーニング機能付搬送部材を用いた基板処理装置のクリーニング方法を提供すること。
【解決手段】本発明のクリーニング機能付搬送部材は、搬送部材の少なくとも片面にクリーニング層が設けられ、該クリーニング層は、コーティング式の塗布手段と噴射式の塗布手段とを組み合わせて形成された塗布層である。本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、上記のクリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送することを含む。 （もっと読む）

【課題】交叉汚染の影響を抑制して、ミニ・エンバイロメント環境を実現し、それにより、高精度、高品質での局所クリーン化ロボット搬送工場、ロボット搬送式製造方法を提供する。
【解決手段】複数の製造装置５８i,５８i+1,５８i+2,５８i+3,・・・・・と、中間生成物を収納して搬送する密閉型搬送容器を保存する容器一時保存庫５２ａ，５２ｂと、容器一時保存庫に保存された複数の密閉型搬送容器のうちから、搬送タイプ１又は２の密閉型搬送容器を、弁別・選定する容器弁別選定装置５３ａ，５３ｂと、複数の製造装置、容器弁別選定装置の動作を制御し、特定工程間搬送経路に搬送タイプ２の密閉型搬送容器を移動させ、それ以外の工程間搬送経路に搬送タイプ１の密閉型搬送容器を移動させる装置群制御サーバ５１とを備える。 （もっと読む）

【課題】パネルを搬送する無端ベルトに滞留した異物を洗浄除去し、洗浄機外部へ排出する機構を備えたパネル洗浄機及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】無端ベルト６によりパネル２を定盤１２上に搬送し、洗浄ノズル１から洗浄液を噴出すると共に、洗浄ヘッド３によりパネル２の表面から異物を洗浄除去するパネル洗浄装置において、パネル表面から除去された異物のうち、無端ベルト６の内面に滞留した異物を洗浄除去するために、パネル２の搬送方向における定盤１２の後端部側に洗浄ノズル１３及び排水路１４を設置した。 （もっと読む）

【課題】 クリーニング機能付搬送部材の作製の際に、クリーニングシートを搬送部材に貼り合わせる作業の回数を減らすことのできる積層クリーニングシートを提供する。
【解決手段】 本発明の積層クリーニングシートは、支持基材の片面に二層以上の粘着性を有するクリーニング層が一層ずつ剥離可能に積層され、支持基材の他方の面に感圧接着層が設けられていることを特徴とする。また、本発明は、前記積層クリーニングシートの感圧接着層表面を貼り合わせたことを特徴とするクリーニング機能付搬送部材を提供する。さらに、本発明は、前記クリーニング機能付搬送部材を基板処理装置内に搬送して基板処理装置をクリーニングすることを特徴とする基板処理装置のクリーニング方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ワイヤーロープ、シーブ間等で発生するダストを周囲に飛散させることなくダスト発生位置で、簡易な方法で確実に回収できるようにしたワイヤーロープのダスト回収装置を提供すること。
【解決手段】ワイヤーロープＷを挿通して取り付けたダスト吸引ボックス１と、内部に吸引ファンを備え、かつダスト吸引ボックス１に近設して配設したダスト回収ボックス２とを、ダスト吸引ホース３にて接続する。 （もっと読む）

【課題】加熱方式よる短時間処理で、半導体ウエハ表面に全くキズを生じさせることなく、支持基板から半導体ウエハを分離することを目的としている。
【解決手段】支持基板３と、支持基板３に熱可塑性接着剤２を用いて接着された半導体ウエハ１とを挟持し、ヒータを内包するとともに、支持基板３及び半導体ウエハ１それぞれを保持する機構を有する一対の保持機構１４，１５、ヒータによって熱可塑性接着剤２を加熱溶融した状態で、熱可塑性接着剤２による接着面と平行に一定量、保持機構１４，１５のいずれか一方をスライドさせ、スライドさせた一方をスライドさせた方向と反対方向にスライドさせて支持基板３と半導体ウエハ１とを分離する水平方向駆動機構２４、支持基板３の接着側の面に露出した付着側を除去する除去機構を備える。 （もっと読む）

【課題】 粘着剤層をクリーニング層として用いる、異物のクリーニング方法であって、基板処理装置内の搬送性および装置内に付着している異物の除去性の両者に優れている、基板処理装置のクリーニングに好適な、クリーニング方法を提供すること。
【解決手段】 平面状の表面を有する粘着剤層からなるクリーニング層を、異物が付着している処理対象体に適用して、処理対象体から異物を除去する、異物のクリーニング方法であって、クリーニング層は、その表面に不連続な、開ロ部の凹部を有し、かつ、
前記開ロ部の平均直径が、平均異物サイズよりも小さいことを特徴とする、異物のクリーニング方法。 （もっと読む）