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Fターム[5F031PA24]の内容

ウエハ等の容器、移送、固着、位置決め等 (111,051) | 特殊目的 (8,207) | 汚染防止 (1,146) | 容器、移送機構等の洗浄を行うもの (136)

Fターム[5F031PA24]に分類される特許

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【課題】搬送アームの保持部が半導体ウエハ表面を保持したままの状態で、半導体ウエハの水平面内の位置を調整する時に、半導体基板表面に傷が発生するのを防止することができる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、表面が下を向いた半導体基板の表面に接触して、半導体基板を保持する保持部を有するとともに、半導体基板を保持した状態の保持部を、半導体基板に対して相対的に、水平面内で第1の方向に移動させることによって、半導体基板の水平面内の位置を調整する位置調整機構を有する。保持部は、内縁と外縁とを有する上面を有する環状の第1層と、第1層の上面に設けられ、内縁と外縁とを有する下面と、半導体基板表面に接触する上面とを有する環状の第2層とからなり、第1層の上面は、その外縁の、少なくとも第1の方向に平行な部分の全体において、第2層の下面の外縁から水平面内において外側に広がった形状を有する。 (もっと読む)


【課題】 半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの各種の基板処理装置に付着する0.2〜2.0μm程度の粒子径の異物を効率良く除去できるクリーニング部材を提供することを課題とする。

【解決手段】 搬送部材の少なくとも片面にクリーニング層が設けられてなるクリーニング機能付き搬送部材において、クリーニング層の膜厚のばらつきが10%以下であることを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材、とくに、上記のクリーニング層が実質的に粘着力を有しない上記構成のクリーニング機能付き搬送部材。 (もっと読む)


【課題】クリーニング容器本体の構造強度が増され、且つ荷重積載時の作用力伝送方式が良好で、クリーニング容器に自動化伝送時に、荷重による変形が精度に影響するのを防止し、またクリーニング容器本体の内部収容室の気密性を維持でき、更に静電防護の効果を提供し、並びに洗浄、乾燥などの維持作業を容易にする。
【解決手段】ホルダフレーム2がクリーニング容器本体1の前側開口12より挿入されてクリーニング容器本体1の内部収容空間内部11に収容され、並びにクリーニング容器本体1の上方と下方に、上取付板3と下取付板4が設置され、且つ上取付板3と下取付板4が更にホルダフレーム2と相互に組み合わされる。 (もっと読む)


【課題】 例えば、真空チャンバー内に装備されたXYステージの、走行車輪とステージ軌道とに付着したパーティクルに起因する位置決めの不具合を防ぐ。
【解決手段】 XYステージ100の少なくとも一方のステージが、複数の走行車輪のそれぞれに回動自在に弾接する車輪清掃ローラ5と複数のステージ軌道のそれぞれに回動自在に弾接する軌道清掃ローラ6とを有し、該車輪清掃ローラ5は、走行車輪の表面に付着したパーティクルを粘着除塵し、該軌道清掃ローラ6は、ステージ軌道の表面に付着したパーティクルを粘着除塵するように構成する。 (もっと読む)



【課題】 基板処理装置のチャックテーブル温度が室温から高温でも(25〜200℃)チャックテーブルに貼り付かず、良好な搬送性を維持し、しかも異物除去性にすぐれており、チャックテーブルに付着している異物を確実に除去できるクリーニング部材を提供することを課題とする。


【解決手段】 25〜200℃の温度範囲において、非粘着性であり、かつ引っ張り弾性率が3,000MPa以下てある、とくに好ましくは100MPa以下であるクリーニング層を有することを特徴とするクリーニング部材、このようなクリーニング部材として、上記クリーニング層を有するクリーニングシート、あるいは搬送部材上に上記クリーニング層を有するクリーニング機能つき搬送部材。 (もっと読む)


【課題】 サセプタ装置と板状試料との間の熱伝導特性が大きく変化することがなく、パーティクルの発生も少なく、板状試料の裏面へのパーティクルの付着を防止することが可能であり、さらに、サセプタ装置を静電チャックとして用いた場合においても、静電吸着力が変動したり、電圧印加中止後の離脱性が変化することもないサセプタ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明のサセプタ装置は、基体の一部を構成する誘電体板21の上面に複数の突起部31を設け、これらの突起部31それぞれの頂面31aに複数の微小突起部32を設け、これら微小突起部32それぞれの頂面32aを板状試料Wを載置する載置面としたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】小ロットサイズのリソグラフィーベイを提供する。
【解決手段】小ロットサイズのリソグラフィーベイ300は、(1)複数のリソグラフィーツール314〜328と、(2)小ロットサイズの基板キャリアをリソグラフィーツール314〜328へ搬送するように適応された小ロットサイズの搬送システム330とを備えている。各小ロットサイズの基板キャリアは、13個より少数の基板を保持するように適応される。多数の他の態様も提供される。 (もっと読む)


【課題】 本発明の課題は、半導体、ガラス、基板、樹脂から形成されたウエハ若しくは基板の裏面に付着している異物の除去を連続して処理することができる装置を提供することである。さらに、本発明の第三の課題はウエハ若しくは基板に付着している異物の量あるいは大きさによって異物除去効果が最適にできる機能を有すことでウエハ若しくは基板一枚あたりに要する処理時間を最短化することである。
【解決手段】 基板を異物を捕捉することのできる樹脂シートを介して静電チャックに吸着させることにより、基板の裏面に付着している異物を樹脂シートに捕捉する。樹脂シートは基板ごとに逐次連続的に供給できるようロール状にし、異物を捕捉した一度使用済みの樹脂シートもロール状に回収し、樹脂シートを全部使い切った時には、使用済みのロールは廃棄し、新しいロールを装填する。 (もっと読む)


【発明の課題】 より高いスループットで、ウェハー表面の汚染を生ずることなく当該ウェハー上に膜を堆積できるCVD装置を提供すること。
【解決手段】 CVD装置は、ウェハー搬入/搬出チャンバ1a,1b、処理チャンバ3、ウェハー搬送チャンバ2を備える。処理チャンバは、2つまたはそれより多いウェハーステージ6a〜6dであって、当該ウェハーステージの各々は回転可能な中央ポールに水平アーム8a〜8dを介して連結されているものと、ウェハー・ロード/アンロード室5と、2つまたはそれより多い分離された処理反応容器4a,4bとで構成され、当該処理反応容器では各々に膜の化学的気相成長のために必要な1タイプの処理ガスのみが供給される。ウェハー・ロード/アンロード室と処理反応容器は、中央ポールから同じ半径距離に配置され、中央ポールが回転する時、ウェハーステージの各々は処理反応容器等を通って移動する。 (もっと読む)


【課題】 静電チャックのクリーニング時間を短縮できる基板処理装置及び静電チャックのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置1は、チャンバ3内に設置され、基板Wを支持する表面20aを有する静電チャック20を備える。チャンバ3内には、静電チャック20の表面20aに接触可能なクリーニング面32aを有するクリーニングディスク32と、クリーニングディスク32を搬送する搬送装置36とが設置されている。 (もっと読む)


【課題】 洗浄時の洗浄液等の外部への飛散を防止して外部周辺機器類等が腐食するのを抑制すると共に、洗浄処理の効率の向上を図れるようにした洗浄処理方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】 被洗浄体であるチャック30と、洗浄液を噴射する2流体供給ノズル50とを相対的にチャック30の保持部材31〜33に沿って水平方向に移動して、保持部材を洗浄する洗浄処理方法において、2流体供給ノズルに対して少なくともチャックへの洗浄時の移動方向側に、保持部材が挿通可能な陽圧室400を形成し、2流体供給ノズルから洗浄液を保持部材の保持溝31aに向かって噴射する間、陽圧室内に気体を噴射して陽圧室内を陽圧状態にして、洗浄液等の外部への飛散を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 使用したクリーニング部材の表層に付着したパーティクルを除去して、新品同様のクリーニング部材の表面状態に再生する半導体装置用クリーニング部材の再生方法を提供することを課題とする。

【解決手段】 ウエハ1の少なくとも片面にポリアミック酸を熱硬化させた耐熱性樹脂からなるクリーニング層2が設けられてなる半導体装置用クリーニング部材の再生方法であって、上記クリーニング層の表層に付着したパーティクルをドライエッチング方式を用いて除去することを特徴とする半導体装置用クリーニング部材の再生方法。 (もっと読む)


【課題】 基板の外観や品質を良好に保つことができる基板搬送装置、基板搬送方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板搬送装置20は、基板23上に形成された被処理物のうち、除去すべき当該被処理物の除去を行う現像部(ウェット処理部)21に対して基板23の搬送方向下流側に位置し、現像部(ウェット処理部)21から搬出された基板23を搬送する搬送ローラー27と、この搬送ローラー27を洗浄する洗浄液28を搬送ローラー27に対して噴射する洗浄液噴射手段30と、搬送ローラー27上の基板23の有無を検出する基板検出手段32と、を有し、基板検出手段32により搬送ローラー27上の基板23が存在しない状態であると検出した時に、洗浄液噴射手段30により洗浄液28を搬送ローラー27に噴射する。 (もっと読む)


内側ドア部と外側ドア部を有するウエハーキャリアドア。内側ドア部はほぼ連続する内面を有している。外側ドア部は内側ドア部の少なくとも一部分の上に延びている。外側ドア部はその中に形成された複数の開口部を有する。外側ドア部は内側ドア部に取り付けられる。
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投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する基板搬送装置は、前記基板を支持する基板支持部材と、前記基板支持部材と、前記基板の裏面のうち少なくとも一部の領域との少なくとも一方に付着した前記液体を除去する液体除去機構とを備える。 (もっと読む)


【課題】基板を処理する処理槽と、処理槽に沿って設けられた搬送路と、搬送路上を移動して基板を搬送する基板搬送装置とからなる基板処理装置で、基板処理装置の設置面積を拡大することなく、基板処理のスループットを向上することが可能な基板処理装置及び基板処理装置における基板搬送装置を提供すること。
【解決手段】同一搬送路上を移動可能な少なくとも2以上の基板搬送装置を具備し、基板を搬送する前記基板搬送装置は、互いに複数の処理槽を重複して移動可能するようにする。また、スケジューラにより生成されたスケジューリングデータで同時に複数の処理槽での基板搬送が生じた場合には、基板搬送分担処理条件と照合してスケジューリングデータを決定するようにする。 (もっと読む)


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