【課題】 ＦＯＵＰの金属による汚れを除去できるＦＯＵＰ洗浄乾燥装置及びＦＯＵＰ洗浄乾燥方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係るＦＯＵＰ洗浄乾燥装置は、ドアシェルを薬液で洗浄し純水でリンスするドアシェル洗浄リンス槽１と、前記ドアシェルの水切りを行うドアシェル水切り槽２と、前記ドアシェルを乾燥させるドアシェル乾燥槽３と、ポッドシェルを薬液で洗浄し純水でリンスするポッドシェル洗浄槽４と、前記ポッドシェルの水切りを行うポッドシェル水切り槽５と、前記ポッドシェルを乾燥させるポッドシェル乾燥槽６と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学吸着剤４１を清浄に保った状態でケミカルフィルター２６を組み立てる。
【解決手段】本体部３３の下側を構成する受け皿部３７と、本体部３３の上側を構成するキャップ３８と、受け皿部３７の底部に装着される下側フィルター部３９と、上記キャップ３８の天井部に装着される上側フィルター部４０と、上記受け皿部３７及びキャップ３８を合わせてできる空間に充填される化学吸着剤４１と、上記受け皿部３７及びキャップ３８の合わせ目を覆って取り付けられるリング枠４２とを備え、上記下側フィルター部３９と上記受け皿部３７との間の全周、上記上側フィルター部４０と上記キャップ３８との間の全周、上記受け皿部３７と上記リング枠４２との間の全周及び上記キャップ３８と上記リング枠４２との間の全周を超音波接合した。 （もっと読む）

【課題】 扉などを設けることなく板状収容物への塵埃の付着を抑制する。
【解決手段】 カセット本体１１は、前面側が開口した略箱型をなすとともに、その開口部１５を通してマザーガラスＭが出し入れ可能とされている。カセット本体１１の天板１４の周縁部には、囲い壁１７が立設されている。カセット本体１１の天板１４の上面には、所定の間隔を空けて複数の凸部１８が並んで設けられている。天板１４上に塵埃Ｄが載ったとしても、その塵埃Ｄには凸部１８が干渉することで、天板１４上での移動が規制される。また天板１４上に塵埃Ｄが載ったとしても、その塵埃Ｄには囲い壁１７が干渉することで、天板１４からの落下が防止される。これにより、天板１４に載った塵埃Ｄが天板１４から落下して、開口部１５内に侵入するのを回避することができる。 （もっと読む）

【課題】現場組立可能な板金構造体でありながら、板状物の収容高さを低く抑え、かつ、この板状物を載置する桟の強度を向上させることができる枚葉搬送用トレイを提供する。
【解決手段】外枠間に桟４を架け渡すことによってワーク載置部を形成する枚葉搬送用トレイであって、桟４の断面形状を、外枠への平坦な取付部２５の間に上方に突出する膨出部２６を設けたハット型とした。 （もっと読む）

【課題】 生産性の高いバッチ式研磨装置にてナノトポグラフィの悪化を抑制するとともに、ベースプレートからウエハを剥離する際、ウエハに損傷を与えることなく剥離できるウエハ剥離装置及び研磨ライン装置を提供する。
【解決手段】ベースプレート１１と、前記ベースプレート１１上の所定の位置に設けられ、貼付されるウエハＷの裏面と側周部に面接触するテンプレート９と、前記テンプレート９及びベースプレート１１に形成された貫通する複数の貫通穴１１ａと、前記貫通穴１１ａに挿通可能に設けられ、テンプレート９上方に突出可能な複数の押し上げピン６ｃと、前記複数の押し上げピン６ｃを昇降動作させる昇降手段６ｂとを備え、前記昇降手段６ｂによって押し上げピン６ｃを上昇させて、テンプレート９上に貼付されたウエハＷの裏側を押し上げ、前記ウエハＷをベースプレート９から剥離する。 （もっと読む）

【課題】極薄の半導体基板のエッジ把持型多関節搬送ロボットで搬送するに適した半導体基板のホルダ−を提供する。
【解決手段】基板ホルダ−はポ−ラスセラミック製円板状載置台３１を非通気性材料製支持台３２にポ−ラスセラミック製円板状載置台３１の上面と非通気性材料製支持台３２上面が面一となるよう載せ、この非通気性材料製支持台３２を回転自在に軸承させるとともに、ポーラスセラミック製円板状載置台３１下面にある非通気性材料製支持台３２の環状空所３２ｂ、３２ｃを減圧するバキューム手段を備える。ポ−ラスセラミック製円板状載置台３１の外周壁面に接する非通気性材料製支持台３２の環状側壁部の上面３２ａには、エッジ把持型搬送ロボットのア−ム１０下面に取り付けられた積層体Ｗ、Ｓ、Ｇのエッジを把持する把持部材２１，２２が進入可能な径および深さを有する環状溝３２ｄを設けた。 （もっと読む）

【課題】静電吸着型のウエハステージを備えた半導体製造装置において、ウエハステージのウエハ載置面からの半導体ウエハの浮きを防ぐ。
【解決手段】半導体ウエハＳＷをロードカセット４からロードロック室３ａへ搬送し、さらに半導体ウエハＳＷをロードロック室３ａから処理室２へ搬送して、半導体ウエハＳＷの回路形成面に形成された被エッチング材を処理室２でエッチングする際、半導体ウエハＳＷを処理室２へ搬入する前に、半導体ウエハＳＷの裏面に付着した異物を除去して、処理室２に備わるウエハステージ２ａのウエハ載置面と半導体ウエハＳＷの裏面とを静電吸着により接触させる。 （もっと読む）

【課題】ピックアップヘッドの自動クリーニングの装置と方法の提供。
【解決手段】ピックアップヘッド３３でダイ３６をピックアップし、更にそれをトレイ３２内に置くステップを何度も重複することで、ダイ３６表面との頻繁な接触によりピックアップヘッド３３に塵や汚れが付着してダイ３６の損傷を形成しうる。ゆえにこの装置はピックアップヘッド３３をテープ３７の表面に接触させて、ピックアップヘッド３３を自動クリーニングし、ダイ３６の汚染を防止する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ウエハ等の基板を吸着するための静電チャック装置およびこの静電チャック装置を備えた露光装置に関し、テーブルへの静電チャックの着脱を容易，確実に行うことを目的とする。
【解決手段】 基板を吸着する静電気を発生させる静電気発生手段を備えた静電チャックと、前記静電チャックをテーブルに着脱自在に固定する固定手段と、前記テーブル側から前記静電気発生手段に非接触で給電する給電手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板処理装置内を良好に搬送できると共に、この搬送で上記装置内に付着している異物を簡便かつ確実にクリーニング除去できるクリーニング機能付き搬送部材を提供することを課題としている。


【解決手段】 搬送部材の少なくとも片面に耐熱性を有する高分子樹脂からなるクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材において、上記のクリーニング層は、表面自由エネルギーが２５ｍＪ／ｍ² 以上、ビッカース硬度が１５以上であることを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材。 （もっと読む）

【課題】 クリーンルームに設置されるローラ式コンベアにより半導体基板を収納したカセット等の被搬送物を搬送するに当り、被搬送物の底面と前記ローラ式コンベアのローラとの接触部位の転動摩擦により発生する塵埃を的確に捕獲し、クリーンルーム内への塵埃の拡散を防止することである。
【解決手段】 ローラ式コンベアのローラと被搬送物の底面との接触部位の変動により発生する塵埃を、被搬送物の底面に備えた粘着部にて捕獲し、この捕獲した塵埃を連続的あるいは適宜の時間間隔にて除去する手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 裏面研削加工された半導体基板の研削条痕の溝内に固着する微小パ−チクルの量を低減する基板の研削ステ−ジから洗浄ステ−ジへの受け渡し方法。
【解決手段】 プリント配線が施された基板表面を保護テ−プで被覆し、この保護テ−プ面をポ−ラスセラミック製チャック１２に対向させて載置された半導体基板の裏面を砥石１６ｂ，１６ｄで研削し、研削終了後、この裏面研削された基板面に洗浄液をノズル６０より供給しながら搬送機器の上下部開放型の環状吸着パッドを当該研削基板裏面に当接させて基板を吸着させ、基板上面と前記環状吸着パッド下面とで形成される凹部空所に洗浄液膜が存在する状態で基板を洗浄スピナ−１０へと受け渡す。研削加工面がウエット状態で基板が搬送されるので微小パ−チクルの固着が防止され、スピン洗浄での微小パ−チクルの除去が容易となる。 （もっと読む）

【課題】 基板周囲の雰囲気を清浄に保ったまま搬送するに際しての空調エネルギーの削減を図ることが可能な技術を提供する。
【解決手段】 基板Ｗに対して所定の処理を行う複数の処理装置１０の配置位置に沿うように搬送経路が構成され、基板Ｗを、各処理装置１０それぞれに対応した受け渡し準備位置Ｐ１に間欠搬送するコンベア３０を備え、コンベア３０には、基板Ｗを気密に収納する基板収納容器５０が着脱自在に装着され、基板Ｗを基板収納容器５０に収納した状態で受け渡し準備位置Ｐ２に搬送する。 （もっと読む）

【課題】レジストを基板に塗布し、液浸露光後の基板を現像するにあたって、パーティクル汚染を抑えることのできる塗布、現像装置を提供する。
【解決手段】レジストを塗布する塗布ユニット及び現像液を供給して現像する現像ユニットを備えた処理ブロックＢ２と、液浸露光を行う露光装置Ｂ４とに接続されるインターフェイス部Ｂ３と、を備えた塗布、現像装置において、前記インターフェイス部Ｂ３に基板洗浄ユニット６と、第１の搬送機構と、第２の搬送機構とを備えた構成とする。露光後の基板を第１の搬送機構により基板洗浄ユニットに搬送して、当該洗浄ユニットにより洗浄された基板は第２の搬送機構を介して搬送されるため新たなパーティクルの付着が抑えられることで、処理ブロックＢ２の各処理ユニット及び当該各処理ユニットで処理される基板にパーティクル汚染が広がることを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面に吸着跡を付けることのないチャックを提供する。
【解決手段】基板の裏面を真空吸着して固定保持するスピンチャックの吸着面３２ｄには、樹脂材料を切削加工したときの削り屑や樹脂に含まれる成分の粒子等の異物９９が付着している。そのような吸着面３２ｄを導電性ポリマーを主成分とする光硬化型のアクリル系樹脂の樹脂膜３９によって被覆する。これにより、吸着面３２ｄに付着していた異物９９を樹脂膜３９によって覆って表面に露出させないようにすることができ、その結果、スピンチャックの吸着面３２ｄに基板を真空吸着したときにも、その裏面に異物９９が付着したりキズを付けたりするのを防ぐことができ、吸着跡の付着を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを反応させて得られる耐熱性樹脂からなるクリーニング層を形成するにあたり、このクリーニング層の表面平滑性を改善して、搬送性と異物の除去性にすぐれたクリーニング機能付き搬送部材を得る。


【解決手段】 （ａ）ジアミンとテトラカルボン酸二無水物とを有機溶媒中で反応させて耐熱性樹脂の前駆体溶液を得る工程と、（ｂ）上記の前駆体溶液を搬送部材上に塗布し、加熱乾燥して有機溶媒を除去したのち、高温で熱処理して耐熱性樹脂からなるクリーニング層を形成する工程とにより、搬送部材の少なくとも片面にクリーニング層を有するクリーニング機能付き搬送部材を製造するにあたり、上記の（ａ）工程における耐熱性樹脂の前駆体溶液を得る際の有機溶媒として、沸点が１７０℃以下である有機溶媒を少なくとも１種使用することを特徴とするクリーニング機能付き搬送部材の製造方法。 （もっと読む）

より安全で簡単かつ確実にウェハを単離させることができ、しかもウェハの単離を行う処理速度の向上を図ることのできるウェハ単離方法、ウェハ単離装置及び該ウェハ単離装置を用いたウェハ単離機を提供する。該最上層のウェハの晶癖線軸（Ａ−Ａ′，Ｂ−Ｂ′）から時計回り又は反時計回りに角度１５°〜７５°ずらした軸方向（Ｌ−Ｌ′）で該最上層のウェハを押さえると共に、該最上層のウェハの曲げ応力が該晶癖線軸からずらした軸方向（Ｌ−Ｌ′）に生じるように、該最上層のウェハの周縁部を上方に反らせつつ、該最上層のウェハの下面と隣接する下側のウェハの上面との間に流体を吹き込むと共に該再上層のウェハを上昇せしめ、ウエハを単離するようにした。
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【解決手段】ワーク搬送用のトレイ２２にＩＤタグ３４を設け、ワーク２４にはバーコード４２を記載する。処理装置１８でバーコード４２を読み取り、ＩＤタグ３４にバーコードのデータを書き込む。また、ＩＤタグ３４にトレイ２２の使用状況を書込み、所定の使用状況に達したトレイ２２を洗浄手段に搬送する。
【効果】トレイ内のワークのＩＤを管理でき、しかも１つのワークに用いるトレイを途中で変更できる。また、トレイの管理が容易になり、洗浄管理を搬送システムのＣＰＵなどから独立して自律的に行うことが出来る。 （もっと読む）

【課題】 洗浄、乾燥時の作業性を向上させる。
【解決手段】 容器本体内に半導体ウエハを収納する収納容器である。容器本体に、ハンドル２１及びトップフランジが設けられると共に、これらが上記容器本体に対して着脱可能に装着される着脱機構部２３を備え、当該着脱機構部２３を、上記容器本体側の被嵌合部に直接嵌合される嵌合板と、当該嵌合板が上記被嵌合部に嵌合された状態でこれらを固定するロック部２８とから構成した。当該ロック部２８は、上記容器本体側に設けられた嵌合穴３４と、上記嵌合板側に揺動可能に設けられると共に一端部に上記嵌合穴３４に嵌合する嵌合爪３５を有する揺動片３６と、当該揺動片３６が一方へ揺動して上記嵌合爪３５が嵌合穴３４に嵌合した状態と他方へ揺動して上記嵌合爪が嵌合穴から外れた状態とでそれぞれ固定するストッパとから構成した。 （もっと読む）

【課題】 液浸系対物レンズを用いた半導体ウエハ等の標本の外観検査後に、標本上に残存する液体を速やかに乾燥して、標本への塵埃等の付着やウォーターマークの発生を著しく減少させることができる顕微鏡装置を提供する。
【解決手段】 供給ノズルにより対物レンズの先端とウエハとの間に液体を供給してウエハの外観検査を行い、検査終了後に吸引ノズルによりウエハから液体を吸引し、顕微鏡装置の上部に設けられ下向きの空気流を発生させるファンフィルタユニットと、検査ステージからカセットへウエハの搬送を行うウエハ搬送装置と、ファンフィルタユニットが発生する空気流よりも速い速度で空気を吹き出す乾燥機構とを備え、外観検査終了後、吸引ノズルにより液体が吸引されたウエハをウエハ搬送装置により検査ステージからカセットへ搬送する際に、前記乾燥機構により空気を吹き付けて、ウエハの表面に残留した液体を乾燥させるように構成される。 （もっと読む）